线型沉积源
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1924079A

    公开(公告)日:2007-03-07

    申请号:CN200610127709.3

    申请日:2006-08-30

    CPC classification number: C23C14/243

    Abstract: 本发明公开一种线型沉积源,该沉积源能够通过使用板型加热源来提高加热效率并且降低加热温度,和/或能够通过在一个壳体中包括一个具有冷却水管线(或者通道)的冷却套来提高冷却效率。所述线型沉积源包括:布置在一个沉积室中的坩埚,所述坩埚用于蒸发包括在所述坩埚中的材料;加热源,用于对所述坩埚加热;壳体,用于隔绝从加热源发出的热量;外壁,用于固定所述坩埚;和喷嘴单元,用于喷射从所述坩埚蒸发的材料。在该沉积源中,所述加热源是板型加热源,并且所述壳体具有冷却水管线,从而冷却水可以流过该冷却水管线。

    催化剂增强的化学汽相淀积设备及利用该设备的淀积方法

    公开(公告)号:CN1861839A

    公开(公告)日:2006-11-15

    申请号:CN200610078368.5

    申请日:2006-05-15

    CPC classification number: C23C16/44 C23C16/46

    Abstract: 本发明公开了一种催化剂增强的化学汽相淀积(CECVD)设备和淀积方法,其中为防止催化剂丝因热变形导致松垂而向催化剂丝施加张力,并且为防止产生异物而使用辅助气体。该CECVD设备可构造为具有:处理腔、将处理气体导入处理腔的喷头、和提供在处理腔中并分解从喷头导入的处理气体的可拉伸的催化剂丝结构,由催化剂丝结构分解的气体淀积于基片上,从而使张力施加到催化剂丝以便防止催化剂丝因热变形导致松垂,且使用辅助气体从而防止产生异物,因此消除了基片温度不均匀的发生和膜生长不均匀的发生,并随之提高了催化剂丝的耐久性。

    校正系统、垂直型盘移送装置和具有该装置的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN1789484A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200510108161.3

    申请日:2005-10-09

    Abstract: 本发明涉及串列形式的薄膜蒸镀系统,提供一种通过固定并支持基片而实现垂直蒸镀、并移送中使微细粒子的影响最小而可以充分确保掩模板平面度的校正系统、垂直型盘移送装置和具有该装置的蒸镀装置。本发明的解决手段为包含:垂直固定基片(10)的基片盘(100);为了与所述基片盘(100)相校正而垂直固定掩模板(30)的掩模盘(300);通过联接部联接所述基片盘(100)和掩模盘(300)的盘支座(500)。

    蒸发源和具备蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN1782120A

    公开(公告)日:2006-06-07

    申请号:CN200510126935.5

    申请日:2005-11-28

    Abstract: 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置,其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量,从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括:蒸镀物质贮藏部,其放置有蒸镀物质并且局部开口;喷嘴部,其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并用于喷射所述蒸镀物质的开口部;反射板,其把所述喷嘴部的至少一部分的角部包围;壳体,其包围所述蒸镀物质贮藏部包围;加热部,其位于所述壳体与所述蒸镀物质贮藏部之间。本发明的蒸镀装置具备所述蒸发源。另外,本发明的有机物蒸发源由于改善所述有机物贮藏部和喷嘴部的材质并在它们的表面上附有防止有机物泄漏部件,所以,提高了喷嘴部和有机物贮藏部的导热性,并防止了有机物的泄漏。

    具有冷却构件的夹盘组件

    公开(公告)号:CN100373541C

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN200610000330.6

    申请日:2006-01-04

    Abstract: 本发明提供一种夹盘组件,包括:荫罩,形成有预定的图案;荫罩框架,支持所述荫罩并具有热辐射和冷却功能;基底,与荫罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上;夹盘,将所述基底附在荫罩上,该夹盘包括冷却剂循环管。考虑荫罩的温度优化基底的温度,从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即,防止荫罩本身的温度上升,从而防止由于热膨胀导致的荫罩的变形,提高了基底图案位置的精确度。

    蒸发源和采用该蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN1814854A

    公开(公告)日:2006-08-09

    申请号:CN200510092373.7

    申请日:2005-08-29

    Abstract: 一种蒸发源和蒸镀装置,该蒸发源将坩埚和加热部以及喷嘴部配置在一个划分空间,缩小其尺寸;所述蒸镀装置利用所述蒸发源将蒸镀物质蒸镀在基板上。所述蒸发源包括:壳体(110);内设于所述壳体(110)内的坩埚(120);内设于所述壳体(110)中,用于加热坩埚(120)而设于其周边的加热部;喷嘴部,经由喷射嘴(140)将从所述坩埚(120)蒸发的蒸镀物质喷射到位于壳体(110)外部的基板(220)上。

    具有冷却构件的夹盘组件

    公开(公告)号:CN1805119A

    公开(公告)日:2006-07-19

    申请号:CN200610000330.6

    申请日:2006-01-04

    Abstract: 本发明提供一种夹盘组件,包括:阴罩,形成有预定的图案;阴罩框架,支持所述阴罩并具有热辐射和冷却功能;基底,与阴罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上;夹盘,将所述基底附在阴罩上,该夹盘包括冷却剂循环管。考虑阴罩的温度优化基底的温度,从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即,防止阴罩本身的温度上升,从而防止由于热膨胀导致的阴罩的变形,提高了基底图案位置的精确度。

    遮蔽掩模图案的形成方法

    公开(公告)号:CN1800970A

    公开(公告)日:2006-07-12

    申请号:CN200510092324.3

    申请日:2005-08-26

    Abstract: 本发明提供一种遮蔽掩模图案的形成方法,其在施加有拉力的状态下首先焊接在掩模框上,利用激光形成蒸镀图案,由此容易制作大面积的掩模,并且加工步骤及设备简单,能够缩短加工时间。本发明的遮蔽掩模图案的形成方法包括使遮蔽掩模(10)附着在掩模框(20)上的步骤、在所述已附着的遮蔽掩模(10)上形成图案的步骤,另外,使所述遮蔽掩模(10)附着在所述掩模框(20)上的步骤包括使所述遮蔽掩模(10)与所述掩模框(20)邻接的步骤、向所述遮蔽掩模(10)施加外力的步骤、在所述掩模框(20)上接合施加有外力的所述遮蔽掩模(10)的步骤。

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