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公开(公告)号：CN109071819A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780025504.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08G77/24 , C09D7/40 , C09D183/04 , C09D185/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种不仅能同时实现被膜的疏水性和疏油性、而且还能提高制膜性的组合物。本发明的涂覆组合物包含在硅原子上键合有至少1个含有三烷基甲硅烷基的分子链和至少1个水解性基团的有机硅化合物(a)、金属醇盐(b)及在硅原子上键合有含氟基团和水解性基团的含氟有机硅化合物(f)。化合物(a)可以是式(I)表示的化合物。
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公开(公告)号：CN101107260B
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN200680003005.3
申请日：2006-01-24
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07F17/00 , C07F7/08 , C07F7/30 , C08F4/6592 , C08F10/00
Abstract: 本发明公开一种以下通式[1]表示的过渡金属络合物。还公开一种包含所述过渡金属络合物的烯烃聚合用催化剂。[1](在式中，M为第4族过渡金属原子；A为第16族原子；J为第14族原子；并且R1-R10、X1和X2分别为氢原子或取代基如烷基，或者它们可与相邻基团结合形成环，同时R7-R10中至少两个不为氢原子。)
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公开(公告)号：CN101939325A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200980104369.4
申请日：2009-02-03
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07D495/04 , C07D333/24 , H01L29/786 , H01L51/05 , H01L51/30 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0074 , C07D333/24 , C07D495/04 , H01L51/0068 , H01L51/0545 , H01L51/0558
Abstract: 下述通式(1)所表示的二氢苯并二茚化合物(式中，R1相同或不同，表示氢原子、任选被取代的烷基、任选被取代的烯基、任选被取代的炔基、任选被取代的烷氧基、任选被取代的烷硫基、任选被取代的芳基、任选被取代的芳氧基等；R2～R5相同或不同，表示氢原子、任选被取代的烷基、任选被取代的烯基等；p为0、1或2；环结构A、B相同或不同，表示任选被取代的苯环、任选被取代的噻吩环等)。
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公开(公告)号：CN101868470A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200880116358.3
申请日：2008-09-16
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C07F17/00 , C08F4/65908 , C08F10/00 , C08F110/14 , C08F210/14 , C08F232/00 , C08F2420/02 , C08F4/6592 , C08F2500/03 , C08F212/08 , C08F2500/25
Abstract: 下述通式(1)所示的过渡金属离子络合物。式中，M表示元素周期表的第4族元素，A表示元素周期表的第14族元素，D表示元素周期表的第16族元素，Cp表示具有环戊二烯基型阴离子骨架的基团，E表示平衡阴离子，R1-R6表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基、芳烷基、被烃取代的甲硅烷基、烷氧基、芳氧基、芳烷氧基或被烃基取代的氨基，X1表示烷基、芳基、或芳烷基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101802035A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880106988.2
申请日：2008-09-12
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F297/08 , C08F4/6592
CPC classification number: C08F297/08 , C08F293/005
Abstract: 本发明涉及烯烃/(甲基)丙烯酸酯嵌段共聚物，其中聚烯烃片段与聚(甲基)丙烯酸酯片段共价结合，并且形态学具有微相分离结构，所述聚烯烃片段通过使烯烃聚合而得，所述聚(甲基)丙烯酸酯片段通过使(甲基)丙烯酸酯化合物聚合而得。
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公开(公告)号：CN1951943A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610111163.2
申请日：2003-02-06
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07F7/08 , C07F7/28 , C07D333/78 , C08F4/645 , C08F10/00
CPC classification number: C08F10/00 , C07F17/00 , C08F4/65908 , C08F4/65912 , C08F10/02 , C08F210/16 , Y10S526/943 , C08F4/6592 , C08F210/14 , C08F2500/03 , C08F2500/10
Abstract: 本发明涉及由通式(1)代表的过渡金属络合物；烯烃聚合的催化剂，其组成为通式(1)的络合物、有机铝化合物及硼化合物：式(1)中M为第4族过渡金属，A为第16族元素，B为第14族元素；n为0或1的整数；R1、R2、R3及R4可相同或不同，各自独立为选自(I)组和(II)组的取代基：(I)组取代基：氢、烷基等；而(II)组取代基：烷氧基、烷硫基等，前提条件为至少R1、R2、R3及R4中的一个为选自(II)组的取代基，而且R5、R6、R7、R8、R9、R10、X1及X2可相同或不同，各自为氢、卤素、烷基等。
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公开(公告)号：CN110873919B
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN201910851905.2
申请日：2019-08-26
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供局部的厚度的偏差小、膜表面的平坦性优异的光学膜。本发明的解决手段为一种光学膜，其包含选自由具有式(A)表示的结构的聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少1种树脂，该树脂满足式(X)。A/B×100≥0.03(％) (X)。式(A)中，*表示化学键。式(X)中，A表示该树脂的1H‑NMR波谱中的、来自式(A)表示的结构中的键合于氮原子的氢原子的峰面积，B表示该树脂的1H‑NMR波谱中的、化学位移值在6.5～11.5ppm的范围内的峰面积。
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公开(公告)号：CN112912241A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201980069503.5
申请日：2019-10-18
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本公开涉及一种层叠体，是至少具有基材层和无机薄膜层的层叠体，所述基材层至少包含挠曲性基材，在从该层叠体的无机薄膜层侧的表面沿厚度方向使用飞行时间型二次离子质谱仪(TOF‑SIMS)测定而得的深度剖析中，将Si‑、C‑及O2‑的离子强度分别设为ISi、IC及IO2，在C‑的离子强度曲线中，将基材层侧的离子强度值的变异系数的绝对值为5％以内的区域A1的平均离子强度设为ICA1，将相对于该区域A1在无机薄膜层表面侧且最接近该区域A1的、显示ICA1的0.5倍以下的离子强度的深度设为A2，将相对于A2在无机薄膜层表面侧且最接近A2的、显示极小值的深度设为A3，在C‑的离子强度的一次微分曲线中，将相对于A3在无机薄膜层表面侧且最接近A3的、微分值为0以上的深度设为B，将相对于A3在基材层侧且最接近A3的、显示微分分布值的极大值d(IC)max的深度设为C，将相对于C在基材层侧且最接近C的、微分值的绝对值为d(IC)max的0.01倍以下的深度设为D，则IO2/ISi的分布曲线在深度B与深度D之间的区域BD中具有至少1个极大值(IO2/ISi)maxBD。
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公开(公告)号：CN109072002B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201780025511.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C09D183/04 , C08G77/04 , C09D183/14 , C09K3/18
Abstract: 本发明的课题在于提供相对于温水的耐久性优异的含有聚二烷基硅氧烷骨架的被膜。本发明的被膜包含聚二烷基硅氧烷骨架，碳原子与硅原子的比率(C/Si)以摩尔基准计为0.93以上且小于1.38。对于该被膜而言，将水的初始接触角记为θ0、将在70℃的离子交换水中浸渍24小时后的水的接触角记为θW时，由特定的式表示的接触角变化率dW的大小可以为‑10％以上。
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