公开(公告)号：JP2018169163A

公开(公告)日：2018-11-01

申请号：JP2017064146

申请日：2017-03-29

Applicant: 倉敷紡績株式会社

Inventor： 立花 慎 ,  平木 哲 ,  塩見 元信

IPC: G01N15/06 ,  G01N21/65 ,  H01L21/304 ,  G01N21/49

Abstract: 【課題】槽内の流動体の性状をリアルタイムで計測することができる半導体処理装置を提供する。 【解決手段】半導体処理装置は、内部の流動体100にウエハを浸漬可能な透明壁を有する処理槽と、前記処理槽の外部から前記透明壁を通して面状のレーザー光Lを前記流動体に照射するレーザー発振器と、前記レーザー発振器を前記レーザー光Lの面に交差する方向に移動させる、移動ユニットと、前記レーザー光Lが前記流動体により散乱した散乱光を検出する光検出器4と、前記光検出器が検出した散乱光R及びレーザー光Lの照射位置の情報に基づいて、前記処理槽100内の特定領域における流動体の性状を計測演算する計測演算部5と、を備える。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2021022716A

公开(公告)日：2021-02-18

申请号：JP2019140344

申请日：2019-07-30

Applicant: 倉敷紡績株式会社

Inventor： 平木 哲 ,  塩見 元信 ,  福本 知也

IPC: H01L21/304

Abstract: 【課題】基板の枚葉式処理において、処理室内に設置される装置の排気システムを提供する。 【解決手段】基板Wを処理する処理室10内で使用する装置20と、前記処理室外に設置され、前記装置に接続される電源61または制御器60と、前記装置と前記電源または前記制御器とを接続するケーブル71と、前記ケーブルの少なくとも前記処理室内にある部分をカバーする耐薬品性のケーブルカバー70とを備え、前記ケーブルカバーは、前記装置内の気体を前記処理室外へ排気する排気路である処理室内装置の排気システム。 【選択図】図9

公开(公告)号：JP6433976B2

公开(公告)日：2018-12-05

申请号：JP2016504089

申请日：2015-02-16

Applicant: 倉敷紡績株式会社

Inventor： 塩見 元信 ,  立花 慎 ,  東 昇

IPC: H01L21/304 ,  C02F1/72 ,  B08B3/08

CPC classification number: C02F1/78 ,  C02F2305/023 ,  G01N21/33 ,  G03F7/42 ,  H01L21/31133

公开(公告)号：JP2018169288A

公开(公告)日：2018-11-01

申请号：JP2017066834

申请日：2017-03-30

Applicant: 倉敷紡績株式会社

Inventor： 立花 慎 ,  平木 哲 ,  塩見 元信

IPC: G01N21/65 ,  G01B11/06 ,  H01L21/66 ,  G01N21/49

Abstract: 【課題】 基板の性状に影響を受けることがなく、基板正面に存在する流動体の性状を測定することができる性状測定装置を提供する。 【解決手段】 基板Wの表面に供給されて前記基板W表面に流動体膜51を形成する流動体の性状を計測演算する性状測定装置である。前記基板Wの側方から前記流動体膜50を通過するように前記基板Wの表面に沿った方向にレーザー光Lを照射するレーザー発振器4と、前記流動体膜51を透過した前記レーザー光Lが前記流動体膜51により前記基板Wの表面上方に散乱した散乱光Rを検出する光検出器5と、前記光検出器5が検出した散乱光Rに基づいて、前記流動体膜の性状を計測演算する計測演算部6と、を備える。 【選択図】 図2

公开(公告)号：JP2015157237A

公开(公告)日：2015-09-03

申请号：JP2014031941

申请日：2014-02-21

Applicant: 倉敷紡績株式会社

Inventor： 塩見 元信 ,  立花 慎 ,  東 昇

IPC: C02F1/78 ,  C02F1/72

Abstract: 【課題】複数の処理装置にヒドロキシルラジカル含有水を供給する場合に、より低コストで制御が容易なヒドロキシルラジカル含有水の製造装置および製造方法を提供することである。 【解決手段】複数の処理装置100にヒドロキシルラジカル含有水を供給可能なヒドロキシルラジカル含有水製造装置10であって、1つのオゾン水供給部54と、前記オゾン水供給部の下流に複数設けられた過酸化水素混合部60と、前記個々の過酸化水素混合部の下流における少なくともヒドロキシルラジカルを含むラジカル種の濃度を測定する1つのヒドロキシルラジカル測定装置70と、前記測定された少なくともヒドロキシルラジカルを含むラジカル種の濃度に基づいて前記個々の過酸化水素混合部に供給される過酸化水素量を制御する過酸化水素制御部75とを有するヒドロキシルラジカル含有水製造装置10である。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制备含羟基自由基水的装置和方法，当向多个加工设备供应含羟基自由基的水时，可以以较低的成本容易地控制。本发明提供一种羟基自由基 - 能够向含有臭氧水供给部54的多个处理装置100供给含羟基自由基水的含水生成装置10，设置在臭氧水供给部的下游的多个过氧化氢混合部60，羟基 用于测量在单独的过氧化氢混合物部分的下游含有至少羟基自由基的自由基物质的浓度的自由基测量装置70和用于控制供应给各个过氧化氢混合物部分的过氧化氢量的过氧化氢控制部分75 测量的基团s的浓度 至少含有一个羟基自由基。