直接生长法制备金刚石辅助散热碳化硅基底GaN-HEMTs的方法

    公开(公告)号:CN109742026A

    公开(公告)日:2019-05-10

    申请号:CN201910136716.7

    申请日:2019-02-25

    Abstract: 直接生长法制备金刚石辅助散热碳化硅基底GaN-HEMTs的方法,本发明涉及金刚石与碳化硅连接的散热结构的制备方法,它为了解决现有GaN HEMTs的散热性能有待提高的问题。制备金刚石辅助散热碳化硅基底的方法:一、在SiC基片表面刻蚀出孔洞;二、超声清洗SiC基片;三、在SiC晶片的表面建立辅助形核点;四、沉积金刚石层;五、将上表面的金刚石膜层去掉,留下孔洞中金刚石膜层;六、超声清洗;七、在SiC晶片上的孔洞中进行沉积,金刚石沉积填满孔洞。本发明制备金刚石的纯度高,热导率较高,金刚石与SiC结构类似,相容性好,制备的金刚石位于器件下方,有针对性地将热点热量极快导出。

    一种MPCVD舱壁杂质的去除方法
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119259601A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411672313.1

    申请日:2024-11-21

    Abstract: 一种MPCVD舱壁杂质的去除方法,本发明是要解决MPCVD设备舱壁的杂质难以去除的问题。MPCVD舱壁杂质的去除方法:一、在水冷台上放置样品托以保护水冷台,关闭MPCVD系统舱盖,在微波能量激发下产生氢氧等离子体,利用氢氧等离子体刻蚀处理舱体内部;二、将去离子水湿润吸水纸,得到湿润的吸水纸,然后将湿润的吸水纸贴附在MPCVD系统的舱壁上;三、取下贴附的吸水纸,使用无水乙醇打湿无尘布,对舱壁擦拭干净;四、使用吸尘器清理MPCVD系统的舱体内部;五、再次在微波能量激发下产生氢氧等离子体,利用氢氧等离子体再次刻蚀处理舱体内部。本发明通过氢氧等离子体清洗与去离子水浸润,酒精擦拭即可去除沉积杂质。

    使用毛发作为碳源通过CVD工艺制备生命钻石的方法

    公开(公告)号:CN117448794A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311393073.7

    申请日:2023-10-25

    Abstract: 使用毛发作为碳源通过CVD工艺制备生命钻石的方法,本发明为了解决现有通过MPCVD方法制备钻石时以甲烷气体作为碳源,价格较为昂贵,导致钻石生长速率缓慢的问题。制备生命钻石的方法:一、对高温高压金刚石籽晶基底进行清洗;二、对毛发进行超声清洗,将预处理的毛发放入坩埚中,通入氩气和少量氧气保温,然后以600~1200℃的温度萃碳处理;三、激活等离子体,升高和微波功率,使金刚石籽晶的表面温度达到700~1000℃使腔体保持封闭进行等离子体化学气相沉积生长。本发明以毛发作为碳源通过CVD装置进行生命钻石的生长,改善了原本使用甲烷作为碳源价格昂贵的问题,且合成的钻石具有更加独特和深刻的纪念意义。

    一种微波耦合光探测磁共振装置
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115951279A

    公开(公告)日:2023-04-11

    申请号:CN202211543329.3

    申请日:2022-12-02

    Abstract: 一种微波耦合光探测磁共振装置,本发明针对金刚石中的NV色心量子态难以初始化、操控及读出以及NV色心光强变化检测等问题。本发明微波耦合光探测磁共振装置中光学系统连接单元包括成像激光器、激发激光器、准直转接件、光路室、镜头组件和相机,光路室内部设置有反射镜组、二相色镜、中部反射镜和一号半透半反镜,激光发射器发出激光经反射镜组的多次反射进入镜头组件,经过一号半透半反镜的一路分光进光谱仪,另一路分光进入计数单元,在计数单元中设置有单光子探测器和半透半反镜,微波信号施加到样品上。本发明微波耦合光探测磁共振装置设计多通道光路模式,实现光谱、光强、光像同时测量,具有光-微波脉冲调制、量子光源反聚束等功能。

    使用金属铁刻蚀高温高压金刚石制备定点浅层NV色心的方法

    公开(公告)号:CN115072717A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210656914.8

    申请日:2022-06-10

    Abstract: 使用金属铁刻蚀高温高压金刚石制备定点浅层NV色心的方法,它为了解决现有制备金刚石内NV色心需要用到复杂的化学气相沉积气氛或大型粒子注入设备,且难以控制色心制备定位等问题。获得定点浅层NV色心的方法:一、清洗高温高压金刚石;二、在金刚石表面沉积铁薄膜,铁薄膜呈点阵排列;三、将带有铁薄膜的金刚石放入CVD生长舱体内,通入氢气,升高气压和功率进行刻蚀处理;四、将退火后的金刚石置入食人鱼溶液浸泡。本发明利用金属铁在等离子体环境下对高温高压金刚石进行刻蚀,在该过程中产生空位,并利用退火使得空位向下迁移并被替位氮原子捕获,由于刻蚀发生在金属薄膜与金刚石的界面处,因此产生的NV色心位于近表面处。

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