光学片及光学片的制造方法

    公开(公告)号:CN101738651B

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN200910222030.6

    申请日:2009-11-13

    Abstract: 本发明提供具有优异的耐擦伤性及硬度的光学片及该光学片的制造方法。本发明的光学片是在基材的一面侧设置了硬涂层的光学片,其特征在于,所述硬涂层包含含有反应性无机微粒及粘合剂成分的硬涂层用固化性树脂组合物的固化物,并且在所述硬涂层的与基材相反一侧的界面存在与平行于硬涂层的假想平面所成的最小角度为锐角的微细突起。本发明的光学片的制造方法的特征在于,包括:在基材的一面侧涂布含有反应性异形二氧化硅微粒及粘合剂成分的硬涂层用固化性树脂组合物,对于涂膜,在抑制反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿假想平面的平面方向取向的同时,或在所述抑制之后,使涂膜固化形成硬涂层及微细突起的工序。

    硬涂膜
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101790695B

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN200880102759.3

    申请日:2008-08-08

    Abstract: 本发明提供一种耐擦伤性优异的硬涂膜及耐皂化性的硬涂膜。在第一方面的硬涂膜中,硬涂层包含含有平均粒径为5nm以上且30nm以下的反应性无机微粒A的固化性树脂组合物的固化物,在该硬涂层的与透明基材膜相反一侧的接触面及其附近的表层区域具有局部存在有上述反应性无机微粒A的表层。另一方面,在第二方面的硬涂膜中,硬涂层包含含有平均粒径为30nm以上且100nm以下的反应性无机微粒A的固化性树脂组合物的固化物,在该硬涂层的厚度方向具有上述反应性无机微粒A的密度分布,并且在该硬涂层的与透明基材膜侧相反一侧的接触面中,上述反应性无机微粒A的密度最低,且在该硬涂层的透明基材膜侧接触面或其附近,上述反应性无机微粒A的密度最高。

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