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    複合体の製造方法および複合体
    12.
    发明专利
    複合体の製造方法および複合体 有权
    生产复合材料的方法和复合材料

    公开(公告)号：JP2015127036A

    公开(公告)日：2015-07-09

    申请号：JP2013273323

    申请日：2013-12-27

    Applicant: 富士フイルム株式会社

    Inventor： 平木 大介 ,  油屋 吉宏 ,  澤田 真 ,  米山 聡

    IPC: B01D69/00 ,  B01D69/12 ,  B01D71/70 ,  B01D69/10

    CPC classification number: B01D71/70 ,  B01D53/228 ,  B01D67/0088 ,  B01D69/12 ,  B01D2323/02 ,  B01D2323/42 ,  B05D2201/02 ,  B05D2201/04 ,  B05D2252/02 ,  B05D2518/10 ,  B05D3/0413 ,  B05D3/067

    Abstract: 【課題】多孔質支持体に促進輸送膜を形成してなる酸性ガス分離膜において、多孔質支持体に促進輸送膜が入り込むことを防止するためのシリコーン樹脂層を、適性に形成できる複合体の製造方法および複合体を提供する。 【解決手段】ロール・トゥ・ロールによって多孔質支持体の表面を親水化する工程と、ロール・トゥ・ロールによって、親水化した多孔質支持体の表面にシリコーン樹脂層となるシリコーン塗布液を塗布する工程とを有することにより、この課題を解決する。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种复合体的制造方法，其中，当通过在多孔载体上形成便利的输送膜来制造酸性气体分离膜时，可以适当地形成用于防止 便于运输膜进入多孔支撑体; 和复合材料。该方法包括使多孔载体的表面以卷对卷方式亲水化的步骤，并且将其中形成有机硅树脂层的硅氧烷涂布液施加到 多孔载体的亲水化表面以卷对卷的方式。

    酸性ガス分離層、酸性ガス分離層の製造方法、および、酸性ガス分離モジュール
    13.
    发明专利
    酸性ガス分離層、酸性ガス分離層の製造方法、および、酸性ガス分離モジュール 审中-公开
    酸性气体分离层，酸性气体分离层制造方法和酸性气体分离模块

    公开(公告)号：JP2015061721A

    公开(公告)日：2015-04-02

    申请号：JP2014165765

    申请日：2014-08-18

    Applicant: 富士フイルム株式会社

    Inventor： 米山 聡 ,  油屋 吉宏 ,  澤田 真 ,  平木 大介

    IPC: B01D71/38 ,  B01D71/40 ,  B01D63/00 ,  B01D63/10 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D69/02 ,  B01D71/02 ,  B01D69/00

    Abstract: 【課題】パスロール等で搬送された場合にも多孔質支持体上に支持された促進輸送膜の変形が抑制される酸性ガス分離層を提供し、さらに、この酸性ガス分離層の製造方法およびこの酸性ガス分離層を用いた酸性ガス分離モジュールの提供も目的とする。 【解決手段】酸性ガスと反応するキャリアおよびキャリアを担持するための親水性化合物を含有し、原料ガスから酸性ガスを分離する促進輸送膜と、促進輸送膜を支持する多孔質支持体と、を備える酸性ガス分離層であって、促進輸送膜は、多孔質支持体の表面上に配置される第1の促進輸送膜と、第1の促進輸送膜における多孔質支持体側とは反対側の表面上に配置される第2の促進輸送膜とを有し、第1の促進輸送膜の吸水率が、1〜5質量%であり、第2の促進輸送膜の吸水率が、6〜20質量%である、酸性ガス分離層。 【選択図】図3

    Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种酸性气体分离层，即使酸性气体分离层由通过辊等输送，也能够抑制在多孔载体上负载的促进的输送膜的变形，并且还提供酸性气体分离 层状制造方法和使用该酸性气体分离层的酸性气体分离组件。解决方案：酸性气体分离层包括：载有与酸性气体反应的载体的促进的输送膜和用于承载载体的亲水性化合物，并将酸性气体 来自原料气; 以及支撑促进的输送膜的多孔支撑体，所述便利的输送膜包括布置在所述多孔支撑体的表面上的第一促进输送膜和布置在所述第一便利输送膜的与所述多孔支撑体相反的表面上的第二促进支撑膜， 第一促进输送膜的吸收系数为1〜5质量％，第二促进输送膜的吸收系数为6〜20质量％。

    ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置
    17.
    发明专利
    ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置 有权
    气体分离膜，气体分离膜模块和气体分离器

    公开(公告)号：JP2016163869A

    公开(公告)日：2016-09-08

    申请号：JP2015146305

    申请日：2015-07-24

    Applicant: 富士フイルム株式会社

    Inventor： 澤田 真 ,  望月 勇輔 ,  成田 岳史 ,  伊藤 滋英 ,  野田 浩之

    IPC: B01D69/12 ,  B01D53/22 ,  B01D69/00 ,  B01D69/10 ,  C08J7/04 ,  B01D71/70

    CPC classification number: B01D71/70 ,  B01D53/228 ,  B01D69/02 ,  B01D69/125 ,  B01D71/64 ,  B01D2256/10 ,  B01D2256/16 ,  B01D2256/24 ,  B01D2256/245 ,  B01D2257/302 ,  B01D2257/304 ,  B01D2257/308 ,  B01D2257/404 ,  B01D2257/504 ,  B01D2323/12 ,  Y02C10/10

    Abstract: 【課題】高圧下におけるガス透過性及びガス分離選択性が高く、耐曲げ性が良好なガス分離膜の提供。 【解決手段】多孔質支持体A4の上に位置するシロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層3を有し、シロキサン結合を有する化合物が式(2)又は式(3)で表される繰り返し単位を有し、シロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層が多孔質支持体B中に存在する領域GLiと多孔質支持体Bの上に存在する領域GLeとを含み、GLeの厚みが50〜1000nm、GLiの厚みが20nm以上、かつ、GLeの厚みの10〜350%、GLe表層20nm中とGLi表層20nm中の式(3)で表される繰り返し単位の含有率との差が30〜90%であるガス分離膜。 【選択図】図7

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种气体分离膜，其在高压下具有高的气体渗透性和气体分离选择性，并且具有优异的抗弯曲性。解决方案：气体分离膜具有含有硅氧烷键位于 多孔支撑件A4。 具有硅氧烷键的化合物具有由式（2）和式（3）中的任一个表示的重复单元。 含有具有硅氧烷键的化合物的树脂层含有存在于多孔载体B中的区域GLi和存在于多孔载体B上的区域GLe .Gel的厚度为50〜1000nm，GLi的厚度为20nm 以上，GLe的厚度为10〜350％，由式（3）表示的重复单元的含量与GLe的表面层的20nm以及GLi的表面层的20nm的差异 是30-90％。选择图：图7

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