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公开(公告)号:CN105247391A
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201480020247.8
申请日:2014-04-10
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H04N5/2254 , C07F1/08 , C07F7/1804 , C07F9/06 , C07F9/098 , C07F9/12 , C07F9/143 , C07F9/304 , C07F9/4021 , C07F9/58 , C09B57/10 , G02B5/208 , G02B5/22 , H04N5/2257 , H04N5/33
Abstract: 本发明提供一种在制成硬化膜时近红外线遮蔽性高的近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、以及照相机模块及其制造方法。本发明的近红外线吸收性组合物含有铜络合物,所述铜络合物是使具有至少两处配位部位的化合物(A)与铜成分反应而成。
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公开(公告)号:CN110505962A
公开(公告)日:2019-11-26
申请号:CN201880024688.3
申请日:2018-07-11
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种平版印刷版原版和使用了上述平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法,所述平版印刷版原版在亲水性支承体上具有图像记录层,上述图像记录层包含聚合引发剂、红外线吸收剂、聚合性化合物和酸显色剂,上述红外线吸收剂包含式1所示的化合物。式1中,Ar1和Ar2中的至少一者具有下述式2所示的基团。-X式2X表示卤素原子、-C(=O)-X2-R11、-C(=O)-NR12R13、-O-C(=O)-R14、-CN、-SO2NR15R16或全氟烷基,X2表示单键或氧原子,R11和R14各自独立地表示烷基或芳基,R12、R13、R15和R16各自独立地表示氢原子、烷基或芳基。
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公开(公告)号:CN103608728B
公开(公告)日:2017-07-25
申请号:CN201280028773.X
申请日:2012-06-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , C08F212/14 , C08F220/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , C08F8/00 , C08F12/26 , C08F12/30 , C08F212/14 , C08F257/00 , C09D125/18 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F1/56 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , G03F7/2039 , C08F12/24 , C08F212/32
Abstract: 根据一个实施方案,一种光化射线或辐射敏感树脂组合物包含化合物(P),所述化合物(P)含有至少一个酚羟基以及至少一个具有其氢原子被下面通式(1)的基团中的任一个取代的酚羟基的基团。
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公开(公告)号:CN103534648B
公开(公告)日:2017-03-15
申请号:CN201280022975.3
申请日:2012-05-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F1/20 , C08F257/00 , G03F1/22 , G03F1/76 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物,其含有:(A)聚合物化合物,所述聚合物化合物具有其中酚羟基的氢原子被由下式(I)表示的酸不稳定基团代替的结构,其中R表示单价有机基团;A表示具有多环烃环结构的基团或具有多环杂环结构的基团;并且*表示与所述酚羟基的氧原子的结合位置。
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公开(公告)号:CN102834774B
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201180007408.6
申请日:2011-01-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C08F8/00 , C08F8/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F112/14
Abstract: 一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其包含(P)具有由下式(1)表示的重复单元的树脂;一种使用所述组合物的光阻膜;以及一种图案形成方法。
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公开(公告)号:CN103534648A
公开(公告)日:2014-01-22
申请号:CN201280022975.3
申请日:2012-05-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F1/20 , C08F257/00 , G03F1/22 , G03F1/76 , G03F1/78 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物,其含有:(A)聚合物化合物,所述聚合物化合物具有其中酚羟基的氢原子被由下式(I)表示的酸不稳定基团代替的结构,其中R表示单价有机基团;A表示具有多环烃环结构的基团或具有多环杂环结构的基团;并且*表示与所述酚羟基的氧原子的结合位置。
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公开(公告)号:CN102834774A
公开(公告)日:2012-12-19
申请号:CN201180007408.6
申请日:2011-01-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F8/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C08F8/00 , C08F8/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F112/14
Abstract: 一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其包含(P)具有由下式(1)表示的重复单元的树脂;一种使用所述组合物的光阻膜;以及一种图案形成方法。
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