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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102484947B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201080039558.0
申请日：2010-09-02
Applicant: 应用材料公司
IPC: H05K3/12 , H01L31/0224
CPC classification number: H01L21/67736 , B41P2215/11 , H01L21/681 , H01L31/1876 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K3/1216 , H05K3/1241 , H05K2203/163 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 一种在序列的印刷步骤中检测基材的对准的方法，至少包含以下步骤：在检测单元中检测至少一个印刷轨迹的位置，该至少一个印刷轨迹在第一印刷站台中形成印刷至该基材的表面上的图案；在该印刷轨迹的至少一个部分中判定参考点；在检测单元中比较该参考点的实际位置与该参考点的预期或先前检测位置；判定该参考点的实际位置与该参考点的预期或先前检测位置之间的偏移；考虑该经判定的偏移来调整第二印刷站台的印刷头与该基材的相互位置；及将第二图案印刷至该第一图案上。
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公开(公告)号：CN104786685A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201510167810.0
申请日：2010-09-02
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01L31/18 , B41M3/008 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K3/12 , H05K2203/1476 , H05K2203/163 , H05K2203/166
Abstract: 在支撑件上多层印刷的方法包括：多个印刷步骤，其包括在相应印刷台中进行的第一印刷步骤和进一步后续印刷步骤；以及多个排列步骤，每个排列步骤设置在第一印刷步骤之后、且相应的进一步后续印刷步骤的上游，其中排列装置实现支撑件的准确配置和/或印刷台的调整以执行后续印刷步骤。方法在每个印刷步骤下游和每个排列步骤上游包括控制步骤，在控制步骤中，检测装置检测印刷在支撑件上的层的位置和/或支撑件在工作面上的位置，并且其中，至少命令与控制单元将检测的位置中的至少一者与预定位置和/或与先前控制步骤中检测的位置相比较，并且其中，比较的结果用于排列步骤。
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公开(公告)号：CN102484947A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080039558.0
申请日：2010-09-02
Applicant: 应用材料公司
IPC: H05K3/12 , H01L31/0224
CPC classification number: H01L21/67736 , B41P2215/11 , H01L21/681 , H01L31/1876 , H05K1/0269 , H05K3/0008 , H05K3/1216 , H05K3/1241 , H05K2203/163 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 一种在序列的印刷步骤中检测基材的对准的方法，至少包含以下步骤：在检测单元中检测至少一个印刷轨迹的位置，该至少一个印刷轨迹在第一印刷站台中形成印刷至该基材的表面上的图案；在该印刷轨迹的至少一个部分中判定参考点；在检测单元中比较该参考点的实际位置与该参考点的预期或先前检测位置；判定该参考点的实际位置与该参考点的预期或先前检测位置之间的偏移；考虑该经判定的偏移来调整第二印刷站台的印刷头与该基材的相互位置；及将第二图案印刷至该第一图案上。
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公开(公告)号：CN102484092A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080039580.5
申请日：2010-09-02
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67346 , H01L21/67736
Abstract: 一种用以定位且移动基材或晶圆的容纳装置，包含基底本体与至少一个支撑表面，该至少一个支撑表面位于该基底本体上，并且该基材可设置在该至少一个支撑表面上。该容纳装置包含一或多个金属材料构件，所述金属材料构件实体上联合该基底本体，并且能够作用成该基底本体到操作连接平面的机械连接的结构强化、及亦作用成该基底本体在磁性工作平面上的磁性或电磁性定位的基准。
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公开(公告)号：CN102481776A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080039551.9
申请日：2010-09-02
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01L21/67225 , B41F15/0863 , B41F15/26 , B41F33/0081 , H01L21/67173 , H01L21/6723
Abstract: 一种用以处理基板(150)的设备，包含：支撑构件(131)，用以支撑该基板(150)；输入构件(111)，能够将该支撑构件(131)定位于第一位置(“1”、“3”)中；检测构件(200)，能够检测放置在位于该第一位置(“1”、“3”)中的该支撑构件(131)上的该基板(150)的位置及方向数据；至少一个第一处理头(102)，能够在第二位置(“2”、“4”)中进行第一处理；至少一个第二处理头(202)，能够在第三位置(“5”)中进行不同于该第一处理的第二处理；移动构件(140)，能够使该支撑构件(131)至少由该第一位置(“1”、“3”)移动至该第二位置(“2”、“4”)以及在该第二位置(“2”、“4”)及第三位置之间移动；该支撑构件(131)与该至少一个第二处理头(202)相互配置，以便在该第二处理过程中也将该基板(150)保持于相同的该支撑构件(131)上。
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