公开(公告)号：CN1810064A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN200480017328.9

申请日：2004-05-19

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  小野豪 ,  吉本卓司

IPC: H05B33/22

CPC classification number: H01L51/0035 ,  C08G73/0266 ,  H01B1/128 ,  H01L51/5048 ,  H01L51/5088 ,  H05B33/22

Abstract: 公开了一种电荷迁移清漆，它包括由式(1)表示的低聚苯胺化合物组成的电荷迁移材料和至少一种溶剂。在该电荷迁移清漆中，电荷迁移材料溶解或均匀分散在该溶剂内，通过使用这一清漆，可通过短时间烘烤形成具有优良传导特征的电荷迁移薄膜。特别地，当将清漆施加到OLED元件或者PLED元件上时，所得元件可实现优良的元件特征，例如低的驱动电压、高的发光效率和长的寿命。

公开(公告)号：CN108541333A

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：CN201680074713.X

申请日：2016-12-16

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 小林淳平 ,  首藤圭介 ,  加藤拓 ,  铃木正睦

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/46 ,  C08F220/10

Abstract: 本发明的课题是提供新的压印材料。解决方案是含有(A)成分：下述式(1)所示的化合物、(B)成分：下述式(2)所示的化合物、(C)成分：下述式(3)所示的化合物、(D)成分：下述式(4)所示的化合物和(E)成分：光聚合引发剂的压印材料。(式中，R1各自独立地表示氢原子或甲基，R2表示2价或3价的烃基，j表示0或1，k表示2或3，X表示具有亚乙基氧单元和/或亚丙基氧单元的二价连接基，R3表示氢原子或烷基，m表示1或2，R5表示可以具有至少一个杂原子的3价、4价、5价或6价的有机基，n表示3～6的整数，在m表示1的情况下，R4表示可以被至少一种取代基取代的烷基，在m表示2的情况下，R4表示可以被至少一种取代基取代的亚烷基)。

公开(公告)号：CN103503115B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201380000960.1

申请日：2013-04-16

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  小林淳平 ,  首藤圭介 ,  铃木正睦

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  B29K33/00

CPC classification number: C08L33/14 ,  B32B3/30 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  C08F222/1006 ,  C08L33/08 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0757 ,  H01L27/14625 ,  H01L31/02167 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明的课题是提供处于透明且均匀的清漆的形态，形成在评价涂膜的密合性的划格测试试验中没有剥离，并且脱模力能够达到小于等于0.5g/cm的膜的压印材料。作为解决本发明课题的手段涉及一种压印材料，其包含：(A)成分：具有至少1个碳原子数2、3或4的氧化烯单元，且具有至少2个聚合性基团的化合物，(B)成分：光聚合引发剂，(C)成分：使膜基材的表面部膨润或溶解的溶剂，和(D)成分：有机硅化合物。

公开(公告)号：CN103270115B

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201180060897.1

申请日：2011-10-28

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 西村直也 ,  加藤拓 ,  小出泰之 ,  安井圭 ,  武藏秀树 ,  小泽雅昭

IPC: C08L79/04 ,  C08G73/06 ,  C08K3/00 ,  C08K5/00 ,  C09D179/04 ,  G02B5/20 ,  H01L27/14

CPC classification number: H01L31/0232 ,  C08G73/0273 ,  C08G73/0644 ,  C08K5/0008 ,  C08K5/09 ,  C08K5/16 ,  C08L79/02 ,  C08L79/04 ,  C09D179/02 ,  C09D179/04 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/02327 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明涉及一种成膜用组合物，其特征在于，包含：含三嗪环的超支化聚合物，其含有由式（1）表示的重复单元结构；和至少一种溶解促进剂，其用于破坏至少在超支化聚合物分子内部和/或分子之间、在三嗪环上的氮原子与来自二芳基胺的NH基之间形成的氢键。所述成膜用组合物在例如光刻胶溶剂等有机溶剂中具有优良的溶解性，且在低粘度下具有良好的操作性和过滤性。式中，R和R'各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，（但是，R和R'中的至少一个表示氢原子）；且Ar表示含有芳环和/或杂环的二价有机基团。

公开(公告)号：CN102037092B

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN200980118183.4

申请日：2009-05-19

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  小林淳平 ,  高野聪子 ,  作本直树

IPC: C09K3/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/04 ,  G02B5/20 ,  H01L21/312 ,  H01L27/14 ,  C07B51/00

CPC classification number: H01L31/0216 ,  C07B51/00 ,  C08K5/16 ,  C08L83/04 ,  C09D7/63 ,  C09D183/04 ,  H01L27/14601 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14683 ,  Y02P20/55

Abstract: 本发明的目的在于提供一种其氨基的保护基团脱去后会生成氨基酸的氨基酸产生剂，以及使用该氨基酸产生剂和含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物。本发明提供了含有(A)成分、(B)成分和(C)成分的用于形成被膜的组合物。其中(A)成分是下述式(1)所示的氨基的保护基团脱去后会生成氨基酸的氨基酸产生剂，(B)成分是水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的混合物，(C)成分是溶剂。D-A？？式(1)(式中，D表示氨基的保护基团，A表示氨基酸去掉氨基的氢原子后所得的有机基团。)

公开(公告)号：CN103503115A

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN201380000960.1

申请日：2013-04-16

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  小林淳平 ,  首藤圭介 ,  铃木正睦

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  B29K33/00

CPC classification number: C08L33/14 ,  B32B3/30 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  C08F222/1006 ,  C08L33/08 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0757 ,  H01L27/14625 ,  H01L31/02167 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/24802

Abstract: 本发明的课题是提供处于透明且均匀的清漆的形态，形成在评价涂膜的密合性的划格测试试验中没有剥离，并且脱模力能够达到小于等于0.5g/cm的膜的压印材料。作为解决本发明课题的手段涉及一种压印材料，其包含：(A)成分：具有至少1个碳原子数2、3或4的氧化烯单元，且具有至少2个聚合性基团的化合物，(B)成分：光聚合引发剂，(C)成分：使膜基材的表面部膨润或溶解的溶剂，和(D)成分：有机硅化合物。

公开(公告)号：CN103319712A

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201310240135.0

申请日：2010-05-06

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 西村直也 ,  加藤拓 ,  小泽雅昭 ,  飞田将大 ,  小出泰之

IPC: C08G73/06 ,  C09D179/04 ,  G02B1/04 ,  H01L21/31

CPC classification number: C08G73/00 ,  C07D401/12 ,  C07D403/00 ,  C08G73/0273 ,  C08G73/0644 ,  C08K5/3492 ,  C09D179/02 ,  C09D179/04 ,  G02B1/04 ,  H01L31/0232 ,  C08L79/06 ,  C08L39/04

Abstract: 本发明涉及含有例如由式（23）或（24）表示的含三嗪环的重复单元结构的聚合物，其单独可以实现高耐热性、高透明性、高折射率、高溶解度和低体积收缩，不需要加入金属氧化物。

公开(公告)号：CN100479630C

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200480017328.9

申请日：2004-05-19

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  小野豪 ,  吉本卓司

IPC: H05B33/22

CPC classification number: H01L51/0035 ,  C08G73/0266 ,  H01B1/128 ,  H01L51/5048 ,  H01L51/5088 ,  H05B33/22

Abstract: 公开了一种电荷迁移清漆，它包括由下式(1)表示的低聚苯胺化合物组成的电荷迁移材料和至少一种溶剂。在该电荷迁移清漆中，电荷迁移材料溶解或均匀分散在该溶剂内，通过使用这一清漆，可通过短时间烘烤形成具有优良传导特征的电荷迁移薄膜。特别地，当将清漆施加到OLED元件或者PLED元件上时，所得元件可实现优良的元件特征，例如低的驱动电压、高的发光效率和长的寿命。

公开(公告)号：CN1984941A

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：CN200580023128.9

申请日：2005-07-06

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  吉本卓司

IPC: C08G73/02 ,  C07C209/84 ,  C07C211/54 ,  H01B1/12 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22

CPC classification number: C08G73/0266 ,  C07C209/84 ,  C07C211/54 ,  H01L51/0025 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/5048 ,  H01L51/5088

Abstract: 将制造后的未纯化的式(1)表示的低聚苯胺化合物，或含有氧化物的、560nm处的吸光系数ε为80～1000的式(1)表示的低聚苯胺化合物溶于溶剂中，配制成含有低聚苯胺化合物的溶液，将该溶液用相对于低聚苯胺化合物为4～20质量％的活性炭处理后，再进行重结晶处理，得到560nm处的吸光系数ε为30以下的式(1)表示的低聚苯胺化合物。通过该纯化方法，得到杂质含量少、能重现性良好地发挥优良的EL元件特性的低聚苯胺化合物。(式中，R1～R3各自独立，表示氢、羟基等，A和B各自独立，表示下述通式(2)或(3)表示的二价基团，R4～R11各自独立，表示氢、羟基等，m和n各自独立，为1以上的整数，且满足m+n≤20)。

公开(公告)号：CN108698851A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780014240.9

申请日：2017-03-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 加藤拓 ,  铃木正睦 ,  村上夏美 ,  饭岛大贵 ,  古川智规 ,  小山欣也

IPC: C01G23/047 ,  C01G23/04 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C09D185/00 ,  G02B1/10 ,  G02B3/00

Abstract: 本申请发明提供被膜形成用组合物及其制造方法，上述被膜形成用组合物是包含水解性硅烷的水解缩合物和实施了特殊的分散处理的无机微粒的涂布组合物，其耐热性和透明性高，表现高折射率，同时能够厚膜化，被膜形成用组合物的保存稳定性优异。