-
公开(公告)号：WO2007145288A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/JP2007/062031
申请日：2007-06-14
CPC classification number: C09D133/16 , C08F220/22
Abstract: 含フッ素重合体溶液組成物を提供する。 側鎖に含フッ素脂環式炭化水素基を有する繰り返し単位（Ａ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）と、フッ素系有機溶媒（Ｓ）とを含む含フッ素重合体溶液組成物。たとえば、繰り返し単位（Ａ）は、下式（１）、下式（２）、下式（３）、下式（４）および下式（５）で表される化合物からなる群から選ばれる一種以上の環式飽和炭化水素化合物の水素原子をｎ個除いたｎ価の基（ただし、ｎは１～４の整数を示す。）であって、残余の水素原子の５０％以上がフッ素原子に置換された基（Ｇ）を有する繰り返し単位である。
Abstract translation: 公开了含氟聚合物溶液组合物。 公开了含有含侧链中具有含氟脂肪族烃基的重复单元（A）的含氟聚合物（F）和含氟有机溶剂（S）的含氟聚合物溶液组合物。 例如，重复单元（A）具有通过从一种或多种选自以下的环状饱和烃化合物中除去n个氢原子（条件是n表示1-4的整数）而获得的n价基团（G） 由以下所示的式（1），式（2），式（3），式（4）和式（5）表示的化合物组成，并且用氟原子代替不少于50％的剩余氢原子。
-
公开(公告)号：WO2008120743A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/JP2008/056170
申请日：2008-03-28
CPC classification number: C08F36/20 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: レジスト組成物を提供する。 式ＣＦ ２ ＝ＣＦＣＦ ２ Ｃ（Ｘ Ａ ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ Ａ ）（ＣＨ ２ ） ｎａ ＣＲ Ａ ＝ＣＨＲ Ａ で表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を有する重合体（ＰＡ）を含むレジスト組成物（ただし、Ｘ Ａ は水素原子、シアノ基または式－Ｃ（Ｏ）ＯＺ Ａ で表される基を示し、Ｚ Ａ は水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、Ｒ Ａ は水素原子または炭素数１～２０の１価有機基であって、２個のＲ Ａ は同一であってもよく異なっていてもよい。）。
Abstract translation: 公开了抗蚀剂组合物。 具体公开的是含有具有重复单元（A）的聚合物（PA）的抗蚀剂组合物，该重复单元通过聚合由下式表示的化合物形成：CF 2 2 = CFCF 2 C（X A ）（C（O）OZ A ）（CH 2 ） NA CR A = CHR A 。 （式中，X A表示氢原子，氰基或下式表示的基团：-C（O）OZ A; Z < A
表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团; n a表示0,1或2; R A表示氢原子或具有1个碳原子的一价有机基团 -20个碳原子，两个R a可以彼此相同或不同。） -
公开(公告)号：WO2008032716A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/JP2007/067680
申请日：2007-09-11
IPC: G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: リソグラフィー用レジスト材料およびレジストパターンの形成方法の提供。 下記化合物（ａ）の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含む重合体を含むリソグラフィー用レジスト材料。ただし、Ｗは重合性の１価有機基を、ＴはＨ、Ｆ、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のフルオロアルキル基を、Ｑは式中の炭素原子と共同して含フッ素単環式炭化水素基を形成する炭素数３～１１のフルオロアルキレン基を、示す。ＴまたはＱ中の炭素原子－炭素原子間には、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が挿入されていてもよい。
Abstract translation: 公开了用于光刻的抗蚀剂材料。 还公开了形成抗蚀剂图案的方法。 用于光刻的抗蚀剂材料包括具有通过化合物（a）的聚合形成的重复单元（A）的聚合物[在该式中，W表示可聚合的一价有机基团; T表示H，F，碳原子数1〜6的烷基或碳原子数1〜6的氟烷基。 Q表示碳原子数3〜11的氟代亚烷基，与式（1）中的碳原子一起形成氟化单环烃基，条件是-O - ， - C（O） - 或-C（O） O-可以插入在T或Q中的（碳原子） - （碳原子）键之间。（a）
-
公开(公告)号：WO2008007594A1
公开(公告)日：2008-01-17
申请号：PCT/JP2007/063401
申请日：2007-07-04
IPC: C07C49/467 , C07C67/14 , C07C69/653 , C08F20/22
CPC classification number: C07C49/477 , C07C29/143 , C07C29/147 , C07C31/44 , C07C35/52 , C07C45/54 , C07C61/40 , C07C67/14 , C07C69/653 , C07C69/753 , C07C2602/42 , C08F220/24
Abstract: 高度にフッ素化されたノルボルナン構造を有する新規な重合性の含フッ素化合物および該化合物から得られる重合体を提供する。また、これらの製造方法および該製造に有用な新規な中間体を提供する。 化合物（１１）、化合物（１２）等の新規な化合物（１）、およびその重合体。該化合物（１）の製造中間体等として有用である化合物（２１）（２２）等の化合物（２）、および化合物（３１）（３２ Ｍ ）等の化合物（３）およびこれらの製造方法。ただし、Ｚ Ａ ～Ｚ Ｅ は－ＣＨ（－ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ ３ ）＝ＣＨ ２ ）－、－ＣＦ ２ －等を、Ｗ Ａ とＷ Ｂ はＦ等を、Ｙ Ａ ～Ｙ Ｅ は－ＣＨ（－ＯＨ）－、－ＣＦ（－ＣＨ ２ ＯＨ）等を、Ｘ Ａ ～Ｘ Ｅ は－Ｃ（Ｏ）－、－ＣＦ ２ －等を、示す。
Abstract translation: 公开了具有高氟化降冰片烷结构的新型可聚合的含氟化合物和由这种化合物获得的聚合物。 还公开了它们的生产方法和用于生产的新型中间体。 具体公开了化合物（11）和化合物（12）等新化合物（1）和化合物（1）的聚合物。 还具体公开了化合物（2），例如化合物（21）和（22）以及化合物（3），例如化合物（31）和（32M），其可用作 化合物（1）的生产中间体及其制备方法。 在这方面，Z“A”分别表示-CH - （ - OC（O）C（CH 3 CH 3）= CH 2个） - ， - CF 2 - 等; W＆lt; SUP＆gt;和W＆lt; B＆gt;分别代表F等; Y分别表示-CH（-OH） - ， - CF（-CH 2 OH）等; 而X-A-X-E分别表示-C（O） - ， - CF 2 - 等。
-
公开(公告)号：WO2005054336A1
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：PCT/JP2004/017965
申请日：2004-12-02
IPC: C08G67/00
CPC classification number: G03F1/62 , C08G65/007 , C08G65/226 , G03F7/0046 , Y10T428/24331 , Y10T428/3154
Abstract: A useful fluorinated polymer as a material for pellicle or the like, which exhibits high durability and transparency to short-wavelength light (ArF excimer laser of 193 nm oscillation wavelength or F2 excimer laser of 157 nm oscillation wavelength). There is provided a pellicle wherein the polymer (I) for use in pellicle film and/or adhesive therefor consists of one essentially having the following unit (1). The unit (1) is one wherein a fluorinated chain constituting a polymer main chain consists of carbon atoms and ether oxygen atoms, and wherein at least one of the main chain constituting carbon atoms is one constituting a cyclic group while at least one of the main chain constituting ether oxygen atoms is one not constituting a cyclic group. For example, the unit (1) is one of the following formula (A1): (A1) (wherein n is 1 or 2; R is -F or -CF3; and R is -F or a C1-C5 perfluoroalkyl).
Abstract translation: 对于短波长光（193nm振荡波长的ArF准分子激光或157nm振荡波长的F2准分子激光）表现出高耐久性和透明性的用于防护薄膜等的材料的有用氟化聚合物。 提供防护薄膜组件，其中用于防护薄膜和/或粘合剂的聚合物（I）由基本上具有以下单元（1）的聚合物（I）组成。 单元（1）是其中构成聚合物主链的氟化链由碳原子和醚氧原子构成的单元（1），其中构成碳原子的主链中的至少一个是构成环状基团的主链，而主要的至少一个 构成醚氧原子的链是不构成环状基团的链。 例如，单元（1）是下式（A1）之一：（A1）（其中n为1或2; R F1为-F或-CF 3;且R F 2为-F或a C1-C5全氟烷基）。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2009011427A1
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/JP2008/063044
申请日：2008-07-18
IPC: C07D311/16 , C08F20/36
CPC classification number: C07D311/16 , C08F220/36
Abstract: 重合性官能基と蛍光発光性を有する官能基を含む化合物を、ＤＣＣ（脱水縮合剤）を用いずに簡便かつ効率良く製造できる方法を提供する。 ７－（ジエチルアミノ）クマリン－３－カルボン酸からヒドロキシ基を除いた残基を有する酸無水物と、メタクリル酸２－ヒドロキシエチルとを反応させる工程、または７－（ジエチルアミノ）クマリン－３－カルボン酸のヒドロキシ基がハロゲン原子によって置換された酸ハロゲン化物と、メタクリル酸２－ヒドロキシエチルとを反応させる工程を経て、７－（ジエチルアミノ）クマリン－３－カルボン酸２－（メタクリロイルオキシ）エチルを製造する。
Abstract translation: 公开了通过简单的方法在不使用DCC（脱水缩合剂）的情况下高效率地制备具有聚合性官能团和荧光官能团的化合物的方法。 具体地，通过以下步骤制备7-（二乙基氨基）香豆素-3-羧酸2-（甲基丙烯酰氧基）乙基，其中将具有通过从7-（二乙基氨基）香豆素-3-羧酸除去羟基得到的残基的酸酐 与甲基丙烯酸2-羟基乙基酯反应，或其中通过将7-（二乙基氨基）香豆素-3-羧酸的羟基用卤素原子取代的酰卤与甲基丙烯酸2-羟乙基反应的步骤。
-
公开(公告)号：WO2008087915A1
公开(公告)日：2008-07-24
申请号：PCT/JP2008/050297
申请日：2008-01-11
IPC: C08F220/22 , C09D133/00 , C09D175/04 , C09D201/04 , C09K3/18
CPC classification number: C09D133/066 , C08G18/807 , C08G18/8116 , C09D133/14
Abstract: 耐久性が良好な撥油膜を形成できる撥油性共重合体を提供する。 ポリフルオロアルキル基を有する繰り返し単位（Ａ）と、蛍光発光性官能基を有する繰り返し単位（Ｂ）と、アクリル酸由来のエステル結合以外のエステル結合および／または水酸基を有する繰り返し単位（Ｃ）とを有することを特徴とする撥油性共重合体。
Abstract translation: 公开了能够形成具有良好耐久性的防油膜的防油共聚物。 具体公开了一种拒油共聚物，其特征在于含有具有多氟烷基的重复单元（A），具有荧光官能团的重复单元（B）和具有除一个以外的酯键的重复单元（C） 衍生自丙烯酸和/或羟基。
-
公开(公告)号：WO2008041476A1
公开(公告)日：2008-04-10
申请号：PCT/JP2007/068100
申请日：2007-09-18
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11
Abstract: レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する重合体であり、含フッ素重合体（Ｆ）よりフッ素含有量が低いレジスト重合体（Ｒ）を含む感光性レジスト層の表面に塗布されて用いられるレジスト保護膜形成組成物であって、含フッ素重合体（Ｆ）を含むアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料と、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のフッ素系溶媒（Ｓ）を含む溶媒とを含有する、レジスト保護膜形成組成物。
Abstract translation: 本发明提供用于形成抗蚀剂保护膜的组合物和形成抗蚀剂图案的方法。 用于形成抗蚀剂保护膜的组合物，其包含用于抗蚀保护膜的含氟聚合物（F）和碱溶性材料和含有至少一种选自氢氟烃溶剂的至少一种含氟溶剂（S）的溶剂， 和氢氟醚溶剂，并且其应用于含有抗蚀剂聚合物（R）的光致抗蚀剂层的表面，该抗蚀剂聚合物（R）可以通过酸的作用增强其在碱中的溶解度，并且具有低于含氟聚合物 （F）。
-
公开(公告)号：WO2007122977A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/JP2007/057314
申请日：2007-03-30
IPC: G03F7/11 , C08F20/24 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2041 , C08F214/18 , C08F220/24 , G03F7/11
Abstract: イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜材料を提供する。 含フッ素橋かけ環構造を有する重合性化合物（ｆ ｍ ）の重合により形成された繰り返し単位（Ｆ Ｕ ）を含む重合体（Ｆ）を含む、アルカリ溶解性のイマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜材料。たとえば、繰り返し単位（Ｆ Ｕ ）は、下記化合物（ｆ１）～（ｆ４）からなる群から選ばれる化合物（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位である（Ｒ Ｆ はＨ、Ｆ、炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のフルオロアルキル基を、Ｘ Ｆ はＦ、ＯＨまたはＣＨ ２ ＯＨを、示す。）。
Abstract translation: 本发明提供了用于浸没式光刻的抗蚀剂保护膜的材料，更具体地说，是用于浸渍光刻的抗蚀剂保护膜的碱溶性材料，其含有包含重复单元（F' / SUP>），其通过具有含氟桥连环结构的聚合性化合物（f
-
公开(公告)号：WO2007119804A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/058119
申请日：2007-04-12
IPC: G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/2041
Abstract: 液浸露光用レジスト組成物を提供する。 式ＣＦ ２ ＝ＣＦ－Ｑ－ＣＲ＝ＣＨ ２ で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位を含む重合体であって該繰り返し単位を全繰り返し単位に対して１０モル％以上含む重合体（Ａ）と、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する重合体（Ｂ）とを含む液浸露光用レジスト組成物。式中の記号は、たとえば、Ｒは水素原子を、Ｑは－ＣＦ ２ Ｃ（ＣＦ ３ ）（ＯＨ）ＣＨ ２ －、－ＣＨ ２ ＣＨ（Ｃ（ＣＦ ３ ） ２ （ＯＨ））ＣＨ ２ －、－ＣＨ ２ ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＨ）ＣＨ ２ －、－ＣＦ ２ ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＨ）ＣＨ ２ －または－ＣＦ ２ Ｃ（Ｃ（Ｏ）ＯＨ） ２ ＣＨ ２ －を、示す。
Abstract translation: 公开了一种用于液浸曝光的抗蚀剂组合物。 抗蚀剂组合物包括：聚合物（A），其具有通过下式表示的化合物的环化形成的重复单元：CF 2 = CF-Q-CR = CH 2 2 / >，其中所述重复单元的含量相对于所有重复单元的总量为10摩尔％以上; 和通过酸的作用可以提高其碱溶性的聚合物（B）。 在上式中，R表示氢原子; 和Q表示-CF 2 C（CF 3）（OH）CH 2 - ， - CH 2 CH 2 （C（CF 3）2）（OH））CH 2 - ， - CH 2 CH（C（ O）OH）CH 2 - ， - CF 2 CH（C（O）OH）CH 2 - ， - CF 2 C（C（O）OH）2 CH 2 - 等。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.031 seconds)
