气体分离方法
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109499272B

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN201811079786.5

    申请日:2018-09-14

    Abstract: 提供一种用于使用气体分离膜模块从包含特定气体的原料气体中分离该特定气体的气体分离方法,其中,气体分离膜模块包括壳体以及收容在该壳体内的气体分离膜元件,气体分离膜元件包括气体分离膜,该气体分离膜具有选择性地使特定气体透过的亲水性树脂组合物层,该气体分离方法依次包括对气体分离膜模块的内部进行升压的升压工序、对气体分离膜模块的内部进行升温的升温工序、以及向气体分离膜模块的内部供给所述原料气体的原料气体供给工序。

    二氧化碳分离方法和二氧化碳分离装置

    公开(公告)号:CN118987913A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202411291961.2

    申请日:2016-06-17

    Abstract: 一种二氧化碳分离方法,其具备:将至少包含二氧化碳和水蒸气的混合气体供给至包含亲水性树脂和二氧化碳载体的二氧化碳分离膜的混合气体供给工序;利用上述二氧化碳分离膜从上述混合气体中分离包含二氧化碳的透过气体的二氧化碳分离工序;调整与上述二氧化碳分离膜接触的气体的温度,使得上述混合气体与上述透过气体的温度差达到0℃以上且20℃以下的范围的温度调整工序;以及,调整上述透过气体的压力的压力调整工序,并且,上述混合气体的水蒸气分压与上述透过气体的压力满足下述式(1)。2.5kPaA

    多孔质氧化铝和催化剂
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115066396B

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202180013686.6

    申请日:2021-02-18

    Abstract: 提供耐热性和抗结焦性优异的多孔质氧化铝。在氧化铝中添加二氧化硅和氧化钡而成的多孔质氧化铝,以如下方式在氧化铝中分别添加有二氧化硅和氧化钡:设SiO2添加量相对于氧化铝和SiO2添加量的合计质量的比例为SiO2添加率(质量%),设BaO添加量相对于氧化铝和SiO2添加量的合计质量的比例为BaO添加率(质量%),在SiO2添加率为3质量%以下的范围内,BaO添加率为14质量%以下的范围内,所述多孔质氧化铝以1200℃经30小时的热处理后,由规定的测量方法测量的比表面积为基准比表面积以上,该基准比表面积,是对于所述多孔质氧化铝,将所述SiO2添加率设定为3质量%,将所述BaO添加率设定为0质量%而作为比较用的基准多孔质氧化铝,并对其以同样方式测量出的比表面积。

    CO2除去方法和装置
    20.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111699031B

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN201780098007.3

    申请日:2017-12-27

    Abstract: 提供一种CO2除去方法,其具备:在15℃以上且50℃以下的温度范围内向CO2选择透过膜的供给侧供给包含CO2、N2和O2的处理对象气体的步骤;产生水蒸气并将水蒸气供给至所述CO2选择透过膜的步骤;和使所述处理对象气体中的CO2相对于所述处理对象气体中的O2和N2从所述CO2选择透过膜的所述供给侧向透过侧选择性透过,从所述处理对象气体中选择性除去CO2的步骤,所述处理对象气体中的CO2浓度以干燥基准计为3mol%以下,作为所述CO2选择透过膜,使用使多孔膜担载含有氨基酸和防止所述氨基酸的氨基发生质子化的去质子化剂的亲水性聚合物而构成的、在所述温度范围内具有CO2/O2选择性和CO2/N2选择性的CO2促进输送膜。

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