公开(公告)号：CN101855598A

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200880116023.1

申请日：2008-11-12

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 森田博 ,  佐藤宏美 ,  小林纯 ,  尾见仁一 ,  斋藤诚一

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/16 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40

CPC classification number: C08G77/50 ,  C08G77/14 ,  C08G77/80 ,  C08K5/235 ,  C08K5/5419 ,  C08L83/06 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/40 ,  H01L23/296 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/124 ,  H01L2924/00

Abstract: 提供可赋予不仅透明性高、且耐基板制作时的温度的耐热性、耐溶剂性及作为永久抗蚀膜的耐经时变化性优异的绝缘层的正型感光性组合物、使用该正型感光性组合物的正型永久抗蚀膜及正型永久抗蚀膜的制造方法。提供含有(A)具有硅烷醇基的固化性硅酮树脂、(B)重氮萘醌类及(C)溶剂的正型感光性组合物、使用该正型感光性组合物的正型永久抗蚀膜及正型永久抗蚀膜的制造方法，所述(A)具有硅烷醇基的固化性硅酮树脂为下述通式(1)所表示的环状硅氧烷化合物的1种以上与下述通式(2)所表示的芳基烷氧基硅烷化合物的1种以上反应而获得的结构。