公开(公告)号：CN111247121B

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN201880067514.5

申请日：2018-10-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 张锡勋 ,  金宪 ,  金芙敬 ,  张影来 ,  许容准 ,  权洗铉

IPC: C07C43/12 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G11B7/245 ,  C08G18/67

Abstract: 本发明涉及一种可光聚合组合物、由所述组合物生产的全息图记录介质、包括所述全息图记录介质的光学元件和使用所述可光聚合组合物记录全息图的方法，所述可光聚合组合物包含：包含基于丙烯酸酯的多元醇与含有至少一个异氰酸酯基的化合物的反应产物的聚合物基体或其前体；光反应性单体；由特定化学式表示的非反应性氟化合物；和光引发剂。

公开(公告)号：CN111580192B

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202010379588.1

申请日：2017-03-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 边真锡 ,  李政圭 ,  金芙敬 ,  张锡勋 ,  张影来

IPC: G02B1/11 ,  B05D3/02 ,  B05D3/06 ,  B32B7/02 ,  B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  C08C19/40 ,  C08F265/06 ,  C08J7/04 ,  C08L27/12 ,  C08L33/10 ,  C08L83/04 ,  C09D4/00 ,  C09D4/06 ,  C09D5/00 ,  C09D5/33 ,  C09D7/40 ,  C09D135/02 ,  G01N23/207 ,  G02B1/113 ,  G02B1/115 ,  G02B1/12 ,  G02B1/14 ,  G02B5/18

Abstract: 本发明涉及一种减反射膜，该减反射膜在示出散射强度的log值对小角度X射线散射中定义的散射矢量的图中，在0.0758nm‑1至0.1256nm‑1的散射矢量处表现出一个或多个峰(qmax)。

公开(公告)号：CN110632686B

公开(公告)日：2021-10-29

申请号：CN201910831417.5

申请日：2017-07-03

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 边真锡 ,  金在永 ,  张影来 ,  金芙敬 ,  张锡勋

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明涉及一种防反射膜，其包含硬涂层和低折射层，该低折射层包含粘合剂树脂和分散在上述粘合剂树脂中的中空型无机纳米粒子及实心型无机纳米粒子，上述实心粒子的粒径与上述中空粒子的粒径的比例为0.26至0.55；并涉及一种防反射膜，其包含硬涂层和低折射层，该硬涂层包含粘合剂树脂和分散在上述粘合剂树脂中的有机或无机微粒，该低折射层包含粘合剂树脂和分散在上述粘合剂树脂中的中空型无机纳米粒子及实心型无机纳米粒子，上述实心粒子的平均粒径与上述中空粒子的平均粒径的比例为0.15至0.55，全部上述实心型无机纳米粒子中的70体积％以上存在于上述硬涂层和上述低折射层之间的界面至上述低折射层整体厚度的50％之间。

公开(公告)号：CN111279415B

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN201980005248.8

申请日：2019-09-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金宪 ,  张锡勋 ,  权洗铉 ,  张影来 ,  边真锡

IPC: G11B7/24044 ,  C08K5/00 ,  C08K5/02 ,  C08K5/54 ,  C08L33/08 ,  C08L71/12

Abstract: 本公开内容涉及一种全息图介质和光学元件，所述全息图介质包括：聚合物基底，该聚合物基底包含硅烷类官能团位于主链或支链中的聚合物树脂，其中，在所述聚合物基底的至少一个表面上形成精细图案。

公开(公告)号：CN112424237A

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN202080003980.4

申请日：2020-01-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 张锡勋 ,  金宪 ,  权洗铉 ,  张影来

IPC: C08F2/50 ,  C08F263/04 ,  C08F2/44 ,  C08L31/04 ,  C08K5/02 ,  C08K5/521 ,  G11B7/08 ,  G11B7/2533

Abstract: 本公开涉及用于形成全息图的光聚合物组合物、由所述光聚合物组合物制造的全息图记录介质、包括所述全息图记录介质的光学元件、和使用所述全息图记录介质的全息记录方法，所述光聚合物组合物包含：玻璃化转变温度为80℃或更低的聚合物基体或其前体；光反应性单体；低折射率基于氟的化合物；和光引发剂。

公开(公告)号：CN111406097A

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN201880057141.3

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社LG化学 ,  韩国科学技术院

Inventor： 金宪 ,  金宥植 ,  R·卡尔巴什 ,  权洗铉 ,  张影来 ,  张锡勋

IPC: C09B57/00 ,  G03F7/027 ,  G03F7/035 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G11B7/08

Abstract: 本发明涉及一种具有新结构的化合物、包含所述化合物作为染料的光聚合物组合物、由所述光聚合物组合物制备而成的全息图记录介质、包括所述全息图记录介质的光学元件，和使用所述全息图记录介质的全息记录方法。

公开(公告)号：CN111247181A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201880068367.3

申请日：2018-12-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金宪 ,  张影来 ,  张锡勋 ,  权洗铉

IPC: C08F290/06 ,  G11B7/08 ,  C08L75/04 ,  C08F2/50 ,  C08F20/18

Abstract: 本公开提供一种光聚合物组合物，该光聚合物组合物包含：聚合物基质或其前体，该聚合物基质或其前体包含具有能够形成多个氢键的氢键官能团和至少一个异氰酸酯基的反应性异氰酸酯化合物与具有至少两个羟基的多元醇的反应产物；光反应性单体；和光引发剂，本发明还提供一种由所述光聚合物组合物制备而成的全息图记录介质，包含所述光聚合物组合物的光学元件，和使用所述光聚合物组合物的全息记录方法。

公开(公告)号：CN107850693B

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201680044423.0

申请日：2016-12-05

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 张锡勋 ,  金宪 ,  金芙敬 ,  边真锡 ,  张影来

IPC: G02B1/111

Abstract: 本发明涉及一种减反射膜，包含：硬涂层，该硬涂层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)为1.2nm以下并且表面能为34mN/m以下；以及在所述硬涂层上形成的低折射率层。

公开(公告)号：CN110494456A

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201880021553.1

申请日：2018-03-14

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金芙敬 ,  金宪 ,  张锡勋 ,  张影来

IPC: C08F2/50 ,  C08F20/18 ,  C08F220/26 ,  C08F299/02 ,  C08F299/06 ,  G03H1/04 ,  G03H1/02

Abstract: 本公开涉及一种感光聚合物组合物，包含：聚合物基质或其前体；光反应性单体，该光反应性单体包含折射率为1.5以下并且在25℃下的粘度为100cps以下的多官能(甲基)丙烯酸酯单体和折射率为1.5以上的单官能(甲基)丙烯酸酯单体；以及光引发剂，其中，所述折射率为1.5以上的单官能(甲基)丙烯酸酯单体在所述光反应性单体中的含量为60重量％以上。本公开还涉及一种由所述感光聚合物组合物制备的全息图记录介质、包括所述全息图记录介质的光学元件，以及使用所述感光聚合物组合物的全息记录方法。

公开(公告)号：CN108474870A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201780005924.2

申请日：2017-03-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 边真锡 ,  具滋弼 ,  金芙敬 ,  张锡勋 ,  张影来

IPC: G02B1/11 ,  B32B7/02 ,  C08C19/40 ,  C08L27/12 ,  C08L33/10 ,  C08L83/04 ,  G01N23/207 ,  G02B5/18

Abstract: 本发明涉及一种抗反射膜，所述抗反射膜在示出使用Cu-Kα射线的X射线反射率测量的结果的傅里叶变换分析结果的图中，在距离表面35nm至55nm的厚度处表现出一个极值，并且在距离表面85nm至105nm的厚度处表现出一个极值。