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公开(公告)号：CN101200566B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200710166567.6
申请日：2007-11-06
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: G03F7/0233
Abstract: 公开了一种光敏树脂组合物。该组合物含有[A]碱溶性树脂、[B]光活性化合物和[C]溶剂。所述的碱溶性树脂为含有至少一个具有氮丙啶基团的结构单元的共聚物。所述组合物具有优异的储存稳定性、高敏感性、高UV透射性、高残留膜比、改善的涂布均一性和优异的图案形成性能。还公开了用所述组合物形成的有机绝缘膜。该有机绝缘膜对溶剂和化学物质具有优异的耐受性。
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公开(公告)号：CN101104660B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200710088803.7
申请日：2007-03-26
Applicant: 第一毛织株式会社
Abstract: 本发明提供了可以形成用于液晶显示器或图像传感器中的滤色器保护膜的单溶液型热固性树脂组合物。根据一些实施方式，该树脂组合物含有自固化共聚物和环氧化合物。该保护膜能表现出所需的平整度、粘合性、透明度、耐热性和耐化学性。
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公开(公告)号：CN101535894A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200680056415.4
申请日：2006-12-19
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/033 , G02F1/13394 , G03F7/0007
Abstract: 本发明披露了一种用来形成液晶显示装置的隔离物的光敏树脂组合物。该光敏树脂组合物包括[A]碱溶性树脂、[B]活性不饱和化合物、[C]光聚合引发剂、以及[D]溶剂，其中碱溶性树脂[A]是一种包括由化学式1至3表示的结构单元的共聚物，其在本说明书中描述。利用光敏树脂组合物形成的柱状隔离物呈现高压缩位移、弹性恢复以及残留膜比率。
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公开(公告)号：CN101216670A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200810000421.9
申请日：2008-01-04
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: C08F265/04 , C08F291/00 , C08L51/003 , G02B5/201 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供了一种用于制备滤色片的感光树脂组合物。该组合物含有碱溶性树脂、可光聚合的单体、光聚合引发剂、颜料、分散剂和溶剂。所述分散剂为具有长侧链的含氨基的顺丁烯二酸共聚物树脂。该组合物能够形成约1μm×1μm的精细的方形像素，而没有任何残余物。本发明还提供了一种用该组合物制备的用于图像传感器的高分辨率滤色片。
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公开(公告)号：CN100374527C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200510079007.8
申请日：2005-06-17
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C09K13/06 , H01L21/304
CPC classification number: C11D3/14 , C09G1/02 , C11D7/06 , C11D7/08 , C11D7/263 , C11D11/0047 , H01L21/3212
Abstract: 本发明提供了一种具有较低化学蚀刻速率和较高机械抛光速率的金属CMP浆料组合物。通过使用较高的机械研磨剂浓度(例如≥8重量%)，并结合足够量的湿润剂，可以实现较高的机械抛光速率，并抑制所抛光的下伏面(例如绝缘层、导电线路等)的微擦痕。所述浆料组合物还包括高度稳定的金属丙二胺四乙酸(M-PDTA)络合物，其可用于抑制金属氧化物重新粘附到所抛光的金属表面上和/或通过与金属表面螯合而抑制金属表面的氧化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1539162A
公开(公告)日：2004-10-20
申请号：CN02815444.4
申请日：2002-08-06
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种在制造半导体设备中用于金属布线CMP(化学机械抛光)工艺的组合物，包括过氧化氢、无机酸、丙二胺四乙酸(PDTA)－金属络合物、羧酸、金属氧化物粉末和去离子水，其中PDTA－金属络合物通过防止研磨后的钨氧化物再粘附到抛光后的表面上，在全面改进抛光性能和抛光性能的可重复性方面以及在改进浆液组合物的分散稳定性方面起主要的作用。
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公开(公告)号：CN101452208B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN200810185741.6
申请日：2008-12-08
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/028 , H01L21/82 , H01L27/146
CPC classification number: G03F7/033
Abstract: 本发明提供了一种用于垫片保护层的光敏树脂组合物以及利用该光敏树脂组合物来制造图像传感器的方法。该组合物包括(A)碱溶性树脂、(B)活性不饱和化合物、(C)光引发剂以及(D)溶剂。(A)碱溶性树脂包括这样的共聚物，该共聚物包括5至50wt％的具有以下化学式1的构成单元、1至25wt％的具有以下化学式2的构成单元以及45至90wt％的具有以下化学式3的构成单元，并且提供了一种利用光敏树脂组合物来制造图像传感器的方法。在下述化学式中，R11至R13、R21至R24以及R31至R33与在具体实施方式中所定义的相同。用于垫片保护层的光敏树脂组合物具有良好的图案化和蚀刻性能以及耐化学性，因此可以提供没有下部外敷层的图像传感器，。
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公开(公告)号：CN102466973B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201110188176.0
申请日：2011-07-05
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: G02B5/23 , C08K5/0025 , C08K5/0041 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/033 , C08L33/14
Abstract: 本发明提供了用于滤色片的光敏树脂组合物以及使用其的滤色片。用于滤色片的光敏树脂组合物包括：(A)包括由以下化学式1表示的结构单元的丙烯酸基粘合剂树脂；(B)丙烯酸基光聚合单体；(C)光聚合引发剂；(D)颜料；以及(E)溶剂。在化学式1中，X1是H或C1至C30烷基基团，X2是取代或未取代的C1至C20烷基基团、C5至C20芳基基团、C6至C20烷芳基基团、C3至C20环烷基基团、或C6至C30多环烷基基团，X3是H、取代或未取代的C1至C20烷基基团、C5至C20芳基基团、C6至C20烷芳基基团、C3至C20环烷基基团、或C6至C30多环烷基基团，k是0或1，m是范围从0至20的整数，以及n是范围从0至20的整数，其中在k是0的情况下，X3是氢。[化学式1]
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公开(公告)号：CN102466972B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201110185304.6
申请日：2011-07-04
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: G02B5/23 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/033
Abstract: 本发明披露一种用于彩色滤光片的光敏树脂组合物和包括其的彩色滤光片。用于彩色滤光片的光敏树脂组合物可包括：(A)包括以下化学式1表示的结构单元和以下化学式2表示的结构单元的丙烯酰基共聚物；(B)丙烯酰基可光聚合单体；(C)光聚合引发剂；(D)颜料；以及(E)溶剂。其中，在化学式1和2中，每个取代基具有与说明书相同的限定。由于根据本发明的用于彩色滤光片的光敏树脂组合物具有优异的耐热性和耐化学性，以及由此获得的优异的孔和图案特性，因而能够有效地应用而在TFT阵列基底上形成彩色滤光片来实现高孔径比和高对比度。
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