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公开(公告)号：CN102866481B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201210230290.X
申请日：2012-07-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 提供平衡性好地提高光的利用效率的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜群20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向有不同的放大率，所以作为投影光学系统20的全体系统，在纵横方向也有不同的焦点距离，纵横方向的放大倍率也变为不同，能够使液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比不同。也就是说，通过本投影光学系统20，可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时，各焦点和/或光圈70与光调制元件侧透镜群20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式，所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。
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公开(公告)号：CN102902046A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210265523.X
申请日：2012-07-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B13/12 , G03B21/142
Abstract: 提供平衡性好地提高光的利用效率的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜组20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向有不同的放大率，所以作为投影光学系统20的全体系统，在纵横方向有不同的焦点距离，纵横方向的放大倍率也变为不同，液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比可不同。也就是说，通过本投影光学系统20，可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时，光圈70和光调制元件侧透镜组20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p和距离p’满足预定的条件式，所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。
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公开(公告)号：CN107209445A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680009035.9
申请日：2016-02-09
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大谷信
CPC classification number: H04N9/317 , G02B5/0221 , G02B5/0284 , G02B5/10 , G02B13/0095 , G02B17/008 , G02B17/08 , G02B26/0816 , G02B26/101 , G02B27/0933 , G02B27/0983 , G03B21/005 , G03B21/2066 , G03B21/208 , H04N9/3105 , H04N9/3126 , H04N9/3158 , H04N9/3167
Abstract: 提供能够抑制在图像中产生紊乱的投影仪。投影仪具有：光源装置(3)；第1光调制装置(亮度调整光阀(62))，其对从光源装置(3)射出的光进行调制，作为第1调制光射出；第2光调制装置(颜色调制光阀(71))，其对第1调制光进行调制，作为第2调制光射出；投射光学装置(8)，其投射第2调制光；以及中继装置(64)，其设置在第1光调制装置(亮度调整光阀(62))与第2光调制装置(颜色调制光阀(71))之间的光路上，中继装置(64)具有：成像透镜(642)，其使第1调制光成像在第2光调制装置(颜色调制光阀(71))的调制面上；以及反射部件(643)，其配置在成像透镜(642)的光瞳位置，使入射的第1调制光进行反射，反射部件(643)具有使第1调制光进行散射的散射构造。
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公开(公告)号：CN104570561B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201410561603.9
申请日：2014-10-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大谷信
CPC classification number: G03B21/00 , G02B9/62 , G02B27/1046 , G02B27/141 , G02F1/1313 , G03B21/006 , H04N9/3152
Abstract: 本发明提供一种投影机，该投影机具有作为在光路上串联配置的2个空间调制元件的第1像素矩阵和第2像素矩阵，小型、远心性好、且能够高性能地维持成像状态。通过在中继光学系统(40)中具有双高斯透镜(41g、41r、41b)和配置成分别向双高斯透镜(41g、41r、41b)侧凸出的1对凹凸透镜(42g、43g、42r、43r、42b、43b)，能够充分抑制从调光光阀(30g、30r、30b)到色调制光阀(50g、50r、50b)之间的像差的发生，高性能地维持成像状态，进而能够使图像形成良好。
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公开(公告)号：CN104181758B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201410219388.4
申请日：2014-05-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大谷信
CPC classification number: G03B33/06 , G02B26/101 , G02B26/124 , G02B27/48 , G03B21/204 , G03B21/208 , H04N9/3129
Abstract: 本发明提供能够一边维持光源的输出和/或可靠性一边实现高解析度化的激光投影机。该激光投影机具备：光源；将从所述光源出射的光进行二维扫描的扫描单元；通过将来自于所述扫描单元的光按预定的聚光角度聚光而形成中间像的聚光光学系统；和将所述中间像投影到被投影面上的投影透镜，所述聚光角度比从所述光源出射的光的发散角度大。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104765083A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201510214289.1
申请日：2012-01-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大谷信
CPC classification number: G03B21/2013 , G02B5/0215 , G02B5/0278 , G02F1/133526 , G03B21/2053
Abstract: 本发明提供可以切实地抑制斑点噪音的投影机。具备：光源(11)，其射出激光；第1扩散部(12)，其对从光源(11)射出的激光进行扩散而使其作为第1扩散光射出；以及光调制元件(20)，其对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行调制；其中，光调制元件(20)，具有对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行扩散而使其作为第2扩散光射出的第2扩散部(16)；第2扩散部(16)与光调制元件(20)一体地设置；从第2扩散部(16)射出的第2扩散光的扩散强度分布为跨该第2扩散光的中心轴连续的分布。
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公开(公告)号：CN102830578B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201210197106.6
申请日：2012-06-14
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B13/12 , G02B13/16 , G03B21/142 , G03B33/12
Abstract: 提供能防止投影机的大型化和图像的退化的投影光学系统及组装这个投影光学系统的投影机。第2组40关于液晶面板18G(18R、18B)的纵横方向有不同的放大率，作为包含第1组30的投影光学系统20的全系统，在纵横方向也有不同的焦点距离，液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比也可不同。另外，通过在靠近液晶面板18G(18R、18B)的第2组40设置的第1光学要素组41、42、141、142，对关于纵横方向的放大率设置差使横纵比变化，在靠近液晶面板18G(18R、18B)的位置沿着比较靠近像高的路径使各像高的光线通过变得容易，光线的控制变得容易，可以提高性能。
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公开(公告)号：CN102866481A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210230290.X
申请日：2012-07-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 提供平衡性好地提高光的利用效率的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜群20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向有不同的放大率，所以作为投影光学系统20的全体系统，在纵横方向也有不同的焦点距离，纵横方向的放大倍率也变为不同，能够使液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比不同。也就是说，通过本投影光学系统20，可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时，各焦点和/或光圈70与光调制元件侧透镜群20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式，所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。
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公开(公告)号：CN102591109A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210010390.1
申请日：2012-01-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大谷信
IPC: G03B21/00 , G03B21/14 , G03B21/20 , G02B27/48 , G02F1/1335
CPC classification number: G03B21/2013 , G02B5/0215 , G02B5/0278 , G02F1/133526 , G03B21/2053
Abstract: 本发明提供可以切实地抑制斑点噪音的投影机。具备：光源(11)，其射出激光；第1扩散部(12)，其对从光源(11)射出的激光进行扩散而使其作为第1扩散光射出；以及光调制元件(20)，其对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行调制；其中，光调制元件(20)，具有对从第1扩散部(12)射出的第1扩散光进行扩散而使其作为第2扩散光射出的第2扩散部(16)；从第2扩散部(16)射出的第2扩散光的扩散强度分布为跨该第2扩散光的中心轴连续的分布。
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公开(公告)号：CN114115582B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202110659946.9
申请日：2021-06-15
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 大谷信
Abstract: 位置检测方法、投影仪的控制方法、位置检测装置和投影仪，能够减少误检测触摸位置的情况。在位置检测方法中，从投射部将检测用图像投射到投射面，在检测用图像被投射于投射面且指示体触摸投射面的状况下，通过在第1方向上与投射部分开的摄像部，对投射面进行拍摄，由此生成摄像数据，根据摄像数据，检测投射面中的指示体的触摸部分的位置，检测用图像表示呈矩阵状设置的多个对象，多个对象中在与第1方向对应的规定方向上相邻的两个对象的第1距离比第2距离和第3距离长，第2、第3距离分别是多个对象中在行方向、列方向上相邻的两个对象的距离，根据由摄像数据表示的多个对象在规定方向上的位置关系，检测触摸部分的位置。
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