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公开(公告)号：CN113219771B
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202110063256.7
申请日：2021-01-18
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 投射光学系统和投影仪。能够缩短投射距离。投射光学系统具有：第1光学系统；以及第2光学系统，其具有光学元件，配置于第1光学系统的放大侧。第1光学系统具有第1透镜和配置于第1透镜的缩小侧的第2透镜。光学元件具有第1透过面、配置于第1透过面的放大侧的反射面、以及配置于反射面的放大侧的第2透过面。第1透镜的两面是非球面。第2透镜的两面是非球面。光学元件、第1透镜和第2透镜中的至少一方在沿着第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动。
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公开(公告)号：CN113219771A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110063256.7
申请日：2021-01-18
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 投射光学系统和投影仪。能够缩短投射距离。投射光学系统具有：第1光学系统；以及第2光学系统，其具有光学元件，配置于第1光学系统的放大侧。第1光学系统具有第1透镜和配置于第1透镜的缩小侧的第2透镜。光学元件具有第1透过面、配置于第1透过面的放大侧的反射面、以及配置于反射面的放大侧的第2透过面。第1透镜的两面是非球面。第2透镜的两面是非球面。光学元件、第1透镜和第2透镜中的至少一方在沿着第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动。
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公开(公告)号：CN113156746A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110074090.9
申请日：2021-01-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 守国荣时
Abstract: 投射光学系统和投影仪。能够在投射方向上实现小型化。投射光学系统具有：第1光学系统，其具有多个透镜和偏转元件；以及第2光学系统，其具备具有凹形状的反射面的光学元件，配置于所述第1光学系统的放大侧。偏转元件配置在第1光学系统中相邻的透镜彼此之间设置的多个空气间隔中的、第1光学系统的轴上面间距离最大的空气间隔中。第1光学系统具有相对于偏转元件配置于缩小侧的第1部、以及相对于偏转元件配置于放大侧的第2部。第1部的光轴即第1光轴部分和第2部的光轴即第2光轴部分交叉。第2部(36)具有3个透镜。第2部的长度比第1部的长度短。
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公开(公告)号：CN110780435B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201910687085.8
申请日：2019-07-29
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 守国荣时
Abstract: 投射光学系统和投射型图像显示装置。提供即使在缩短投射距离的情况下也能够抑制配置在第2中间像的放大侧的凹形状的反射面大型化的投射光学系统。投射光学系统从缩小侧朝向放大侧依次由第1光学系统和第2光学系统构成，在缩小侧成像面与放大侧成像面之间形成第1中间像和第2中间像。第2光学系统是透镜。透镜具有第1透过面、反射面和第2透过面。第1透过面和反射面位于在Z轴方向上延伸的假想轴的下方，第2透过面位于假想轴的上方。反射面具有凹形状，第2透过面具有向放大侧突出的凸形状。在透镜内规定的假想线相对于在YZ平面中与假想轴垂直的假想垂直线倾斜，第2中间像位于第1透过面与反射面之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103091848B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201210411733.5
申请日：2012-10-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B13/12 , G02B13/08 , G03B21/142 , G03B21/147 , G03B2205/0092
Abstract: 本发明提供可以实现横纵比的变换、并且可以调整与横纵比的变换相伴的投影图像的位置偏离的投影光学系统及具备其的投影机。由于第2组（40）在液晶面板（18G、18R、18B）的纵方向和横方向具有不同的放大率，所以能够使液晶面板（18G、18R、18B）的图像的横纵比与在屏幕上投影的图像的横纵比不同。也就是说，通过本投影光学系统（20），可以进行宽度与高度之比即横纵比的变换。此时，在横纵比的变换即投影状态的切换时，能够通过第4驱动机构（64）和/或第1驱动机构（61）的移位工作或变焦工作调整屏幕上的图像位置。
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公开(公告)号：CN102866481B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201210230290.X
申请日：2012-07-04
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 提供平衡性好地提高光的利用效率的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜群20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向有不同的放大率，所以作为投影光学系统20的全体系统，在纵横方向也有不同的焦点距离，纵横方向的放大倍率也变为不同，能够使液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比不同。也就是说，通过本投影光学系统20，可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时，各焦点和/或光圈70与光调制元件侧透镜群20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式，所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。
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公开(公告)号：CN102902046A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210265523.X
申请日：2012-07-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G02B13/12 , G03B21/142
Abstract: 提供平衡性好地提高光的利用效率的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜组20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向有不同的放大率，所以作为投影光学系统20的全体系统，在纵横方向有不同的焦点距离，纵横方向的放大倍率也变为不同，液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比可不同。也就是说，通过本投影光学系统20，可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时，光圈70和光调制元件侧透镜组20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p和距离p’满足预定的条件式，所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。
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公开(公告)号：CN101770146A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200910258848.3
申请日：2009-12-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: G03B21/145 , G03B21/28
Abstract: 本发明涉及投影机。提供通过罩部对投影光学系统进行保护、能够抑制成本并降低因罩部的光在入射面的反射引起的损失而抑制图像的辉度的降低的投影机。投影机具备向被照射面投射投影光的投影部、在内部具备投影部并形成有用于使投影光射出于外部的开口部的壳体、和设置于开口部而使投影光透射的罩部，罩部基于与投影光的相对位置而设定多个区域。
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公开(公告)号：CN101191988B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200710196008.X
申请日：2007-11-28
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 守国荣时
Abstract: 本发明提供一种能够在进行接近投影的情况下容易调整画面尺寸的投影机。该投影机，具有：向作为被照射面的屏幕(16)上投影与图像信号对应的光的投影引擎部(11)、和收纳投影引擎部(11)的箱体(15)。投影引擎部(11)，能够在箱体(15)内在沿着光路的方向上进行移动，而且具有可借助于反射使来自投影透镜(13)的光广角化的广角化反射部、即非球面镜(14)。投影透镜(13)和非球面镜(14)被配置为光轴大体上一致。
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