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公开(公告)号：JP2019173163A
公开(公告)日：2019-10-10
申请号：JP2019044565
申请日：2019-03-12
Applicant: 黒崎播磨株式会社
IPC: B22D41/58 , B22D1/00 , C04B35/66 , C04B35/101 , C21C7/072
Abstract: 【課題】金属板の変形等の問題点を解決しつつ,ガス吹き用プラグの引き抜き時に金属板外周側の緻密質耐火物層の,当該金属板の動きへの追従性を高めること,すなわち緻密質耐火物層を前記金属板と一緒に引き抜くことが可能なガス吹き用プラグを提供すること。 【課題手段】耐火物層間の境界部に金属板2を備えるガス吹き用プラグにおいて,金属板2と金属板2の外周側の緻密質耐火物層(外周耐火物層)3との間に,金属板2と外周耐火物層3とを接着する機能を有する接着層4を設けた。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018172747A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072414
申请日：2017-03-31
Inventor： 上野 晋 , 中野 忠 , 山本 正樹 , ▲高▼橋 一郎 , 中溝 浩行 , 佐藤 敏明 , 栗栖 義信 , 安田 豊治 , 櫻庭 雄樹 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C22/73
Abstract: 【課題】鋼板等の被処理物を、処理コストの増大を抑えつつ良好に水蒸気処理することができる水蒸気処理方法を提供する。 【解決手段】被処理物1を密閉容器10内で水蒸気と接触させることにより水蒸気処理製品を製造する方法であって、被処理物1が内部に配置され、かつ、所定量の水7が予め内部に貯留された密閉容器10内で、水7を加熱して水蒸気を発生させ、当該水蒸気と被処理物1とを接触させる水蒸気処理工程を少なくとも備えることを特徴とする。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2018172745A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072407
申请日：2017-03-31
Inventor： 栗栖 義信 , 中野 忠 , 佐藤 敏明 , 中溝 浩行 , 山本 正樹 , 安田 豊治 , ▲高▼橋 一郎 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
Abstract: 【課題】溶融Al、Mg含有Znめっき鋼板を密閉容器中で水蒸気と接触させて黒色めっき鋼板の製造方法に関し、めっき層を均一に黒色化してより見栄えの良い黒色めっき鋼板の製造装置および製造システムを提供する。 【解決手段】基材鋼板の表面に溶融Al、Mg含有Znめっき層を有するめっき鋼板1を配置可能な配置部12を有する密閉容器10と、前記密閉容器の内部の雰囲気ガスを加熱する加熱部24と、前記密閉容器の内部の雰囲気ガスを排気して大気圧未満にし得る排気部30と、前記密閉容器の内部に水蒸気を導入する水蒸気導入部40と、前記密閉容器の内部の雰囲気ガスを撹拌する攪拌部70と、露点がめっき鋼板温度未満のガスを導入するガス導入部50と、を備え、前記排気部は、前記密閉容器の内部から水蒸気を含む雰囲気ガスを排出することが可能な黒色めっき鋼板の製造装置。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2019056171A
公开(公告)日：2019-04-11
申请号：JP2018058868
申请日：2018-03-26
Inventor： 山本 正樹 , 栗栖 義信 , 佐藤 敏明 , 安田 豊治 , ▲高▼橋 一郎 , 中溝 浩行 , 中野 忠 , 辻 浩和 , 林田 隆秀 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 内山 匠 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C8/16
Abstract: 【課題】水蒸気処理後の被処理物を速やかに冷却することにより、黒色めっき鋼板等の水蒸気処理製品の製造時間を短縮すること。 【解決手段】被処理物1が内部に配置された密閉容器10内に水蒸気を導入し、当該水蒸気と、被処理物1とを接触させる水蒸気処理工程と、水蒸気処理工程において水蒸気処理がなされた被処理物1を冷却する被処理物冷却工程と、を備える水蒸気処理製品の製造方法であって、被処理物冷却工程は、密閉容器10内に冷却用ガスを導入して当該冷却用ガスを被処理物1に接触させ、導入した冷却用ガスを密閉容器10から排出する工程であることを特徴とする。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2018172744A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072403
申请日：2017-03-31
Inventor： 櫻庭 雄樹 , 佐藤 敏明 , 栗栖 義信 , 中溝 浩行 , 中野 忠 , 山本 正樹 , ▲高▼橋 一郎 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C8/16
Abstract: 【課題】ガスバーナを用いる場合と比べて被処理物を良好に水蒸気処理することができる水蒸気処理方法を提供する。 【解決手段】被処理物1を密閉容器10内で水蒸気と接触させる水蒸気処理方法であって、被処理物1が内部に配置された密閉容器10内の雰囲気ガスを電気ヒータ24により加熱し、加熱された雰囲気ガスを被処理物1に接触させることにより、被処理物1を加熱する被処理物加熱工程と、被処理物加熱工程の後に、密閉容器10内に水蒸気を導入し、水蒸気と被処理物1とを接触させる水蒸気処理工程とを備える。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2018172743A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072391
申请日：2017-03-31
Abstract: 【課題】気密性が要求される密閉容器において、当該密閉容器を構成する上側分割体を、下側分割体との合体位置に精度よく位置合わせすることができる装置を提供する。 【解決手段】上側分割体9を下側分割体8の上方へ移動させる上方移動工程と、下側分割体8の上方に位置する上側分割体9を、第1ガイド機構81によって合体位置に向かって所定の位置精度でガイドして降下させる第1降下工程と、第1ガイド機構81によってガイドされて降下中の上側分割体9を、第2ガイド機構82によって第1ガイド機構81よりも高い位置精度でガイドして下側分割体8との合体位置に向かって降下させる第2降下工程とを少なくとも備える。 【選択図】図9
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