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公开(公告)号:KR1020180114718A
公开(公告)日:2018-10-19
申请号:KR1020170046762
申请日:2017-04-11
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은슈퍼커패시터전극및 그제조방법에관한것으로, 본발명의실시예에따른슈퍼커패시터전극은유연한전기전도성집전체(10), 금속산화물입자를포함하고, 집전체(10)의외면에결합되는금속산화물층(20), 및금속나노입자를포함하고, 금속산화물층(20)의외면에결합되는나노입자층(30)을포함한다.
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公开(公告)号:KR101907302B1
公开(公告)日:2018-10-11
申请号:KR1020170034793
申请日:2017-03-20
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은에너지저장용실 및그 제조방법에관한것으로서, 본발명에따른에너지저장용실은유연하고, 적어도하나이상의섬유 (fiber)로이루어지는실 (thread, 10), 에너지를저장하는전이금속산화물나노입자로이루어지고, 실(10)을둘러싸도록배치되는에너지저장층(20), 금속나노입자로이루어지고, 실(10)과에너지저장층(20) 사이에, 실(10)을둘러싸도록배치되는전도층(30), 제1 단분자물질로이루어지고, 실(10)과전도층(30) 사이에배치되어, 실(10)과전도층(30)을결합하는제1 결합층(40), 및제2 단분자물질로이루어지고, 전도층(30)과에너지저장층(20) 사이에배치되어, 전도층(30)과에너지저장층(20)을결합하는제2 결합층(50)을포함한다.
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公开(公告)号:KR101760469B1
公开(公告)日:2017-07-21
申请号:KR1020150127835
申请日:2015-09-09
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은아민(NH) 작용기가결합된콜로이드입자표면에층상자기조립법을이용하여자성나노입자분산액에침적시키고촉매활성을가지는나노입자분산액에침적시켜자기조립시키되, 상기공정을반복함으로써다양한용매에서우수한분산성및 촉매특성을지닌회수가능한다중촉매콜로이드를제조하고, 제조된다중촉매콜로이드는강한공유결합을통해안정적인리사이클링효율을보이며, 다양한촉매나노입자를적층시킴으로써촉매콜로이드의최외곽층에따라물과유기용매에서각각의높은분산력을보여주며, 물및 유기용매에서다른촉매효과를나타낸다.
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公开(公告)号:KR101578911B1
公开(公告)日:2015-12-18
申请号:KR1020140086298
申请日:2014-07-09
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은슈퍼커패시터전극을위한다중벽탄소나노튜브/전이금속나노입자다층박막제조방법에관한것으로, 보다상세하게는올레산으로안정화된전이금속나노입자와아민기(NH)간친화도를이용한공유결합기반의층상조립법(Layer-by-Layer Assembly)을이용하여, 유기용매상에서높은입자패킹밀도를갖는다층박막전극을제공한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造用于超级电容器电极的多壁碳纳米管和过渡金属纳米颗粒的多层薄膜的方法。 更具体地说,本发明提供一种通过使用基于共价键的逐层组装方法在有机溶剂上具有高的颗粒堆积密度的多层薄膜电极,使用通过油酸稳定的过渡金属纳米颗粒之间的亲和力 ,和胺基(NH 2)。
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公开(公告)号:KR101348090B1
公开(公告)日:2014-01-09
申请号:KR1020120114906
申请日:2012-10-16
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Inventor: 조진한
IPC: H01L27/115 , H01L21/8247
CPC classification number: H01L21/28282 , H01L29/517 , H01L29/66833 , H01L29/792
Abstract: The present invention relates to an FET memory device. The FET memory device includes a gate layer; a bonding layer; a memory layer; a semiconductor layer; a source electrode; and a drain electrode. The memory layer includes a ferritin; or a catalase including Fe. The bonding layer and the memory layer are alternately deposited one or 50 times. According to the present invention, the FET memory device has high capacitance, excellent data reliability, quick response time, and long term data storage. Also, costs are saved because of a simplified process. The FET memory device can also be used for a flexible substrate.
Abstract translation: 本发明涉及一种FET存储器件。 FET存储器件包括栅极层; 接合层; 记忆层; 半导体层; 源电极; 和漏电极。 记忆层包括铁蛋白; 或包含Fe的过氧化氢酶。 接合层和存储层交替沉积一次或50次。 根据本发明,FET存储器件具有高电容,优异的数据可靠性,快速的响应时间和长期的数据存储。 此外,由于简化的过程,节省了成本。 FET存储器件也可以用于柔性衬底。
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公开(公告)号:KR20180046529A
公开(公告)日:2018-05-09
申请号:KR20160141758
申请日:2016-10-28
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은플렉시블전극및 이의제조방법에관한것으로서, 본발명의실시예에따른플렉시블전극은기판(10), 기판(10) 상(on)에, 아민기(NH) 함유단분자물질이흡착되어형성된결합층(20), 및결합층(20) 상에, 금속나노입자(31)가코팅되어형성된전도층(30)을포함한다.
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公开(公告)号:KR1020160013725A
公开(公告)日:2016-02-05
申请号:KR1020140095913
申请日:2014-07-28
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C08J5/18 , C08J5/22 , C08K3/08 , C08L101/02 , C08L81/00 , C08L25/00 , C08K3/22 , H01G11/54 , H01B1/22 , B82B3/00
CPC classification number: Y02E60/13 , C08J5/18 , B82B3/00 , C08J5/22 , C08K3/08 , C08K3/22 , C08L25/00 , C08L81/00 , C08L101/02 , H01B1/22 , H01G11/54 , H01L21/208
Abstract: 자기조립법을이용한나노복합체다층막의제조방법및 이로부터제조된나노복합체다층막및 이를포함하는전기전자소자에관한것으로서, (a) 기판상에극성용매에분산되어있는친수성작용기를가진고분자또는탄소동소체를흡착시키는단계, (b) 상기기판에증착된고분자전해질또는탄소동소체상에무극성용매에분산되어있는무기물나노입자를흡착시켜상기고분자또는탄소동소체와무기물나노입자의자기조립을유도하는단계, 및 (c) 상기 (a)-(b) 단계또는 (a)-(b)-(a) 단계를 n회(n은 1 내지 500의정수) 반복하여층상자기조립된나노복합체다층막을수득하는단계를거쳐나노복합체다층막을제조하고, 상기나노복합체다층막을하이브리드커패시터전극과같은전기전자소자에이용함으로써커패시턴스가향상되는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用自组装方法的纳米复合材料多层的制备方法,由其制造的纳米复合多层及其组成的电子元件。 纳米复合材料多层的制备方法包括以下步骤:(a)将分散在极性溶剂中的具有亲水官能团的聚合物或碳同素异形体连接到基底上; (b)将分散在非极性溶剂中的无机纳米颗粒吸附到聚合物电解质或沉积到基底上的碳同素异形体上,诱导聚合物或碳同素异形体和无机纳米颗粒的自组装; 和(c)通过重复步骤(a)至(b)或步骤(a) - (b) - (a)n次得到层状形式的自组装纳米复合材料多层,其中n为1至500的整数 通过将纳米复合多层膜应用于诸如混合电容器电极的电子元件,可以提高电容。 本发明提供一种具有规则和密集填充的无机纳米颗粒的纳米复合多层体,而不需要用于配体交换的单独方法和由其制造的纳米复合多层。
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20.리간드 첨가-유도 층상 자기조립법을 이용한 나노복합체 필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 나노복합체 필름 有权
Title translation: - 使用配体加成诱导的逐层组装和由此制备的纳米复合膜制备纳米复合膜的方法公开(公告)号:KR101578915B1
公开(公告)日:2015-12-18
申请号:KR1020140031693
申请日:2014-03-18
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C08J5/18 , C08K3/22 , C08L77/00 , C08L101/02
Abstract: 본발명은리간드첨가-유도층상자기조립법을이용한나노복합체필름의제조방법및 이로부터제조된나노복합체필름에관한것으로, 아민(NH) 작용기가결합된고분자용액으로코팅시킨기판을금속산화물나노입자분산액에침적시켜자기조립시키되, 상기공정을반복함으로써층상자기조립된나노복합체필름을제조하고, 제조된나노복합체필름은 10을초과하는 ON/OFF 전류비, 낮은동작전압및 우수한보유안정성(retention stability)을가진비휘발성저항변환성메모리성능을보여줌으로써강유전체및 저항변환성필름으로이용할수 있다.
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