公开(公告)号：KR101067202B1

公开(公告)日：2011-09-22

申请号：KR1020100041297

申请日：2010-05-03

Applicant: 삼성전기주식회사 ,  동아대학교 산학협력단

Inventor： 하주영 ,  신선미 ,  강봉순 ,  장원우 ,  한학용 ,  이성목

IPC: G06T5/00 ,  H04N5/21

CPC classification number: G06T5/002 ,  G06T5/40 ,  G06T7/13

Abstract: 본 발명은 이미지 처리 장치를 공개한다. 상기 이미지 처리 장치는 입력 이미지의 화소들 각각과 그 주변 화소들의 휘도값들 사이의 상관성을 나타내는 히스토그램을 생성하고, 이를 누적하여 누적 분포 함수로 생성하며, 상기 누적 분포 함수로부터 에지 검출을 위한 기준값을 추출하는 누적 분포 함수 생성부와, 상기 기준값을 이용하여 상기 입력 이미지의 화소들의 에지 여부를 나타내는 이진 화소들을 생성하고, 상기 이진 화소들을 포함한 이진 마스크를 생성하는 이진 마스크 생성부와, 상기 이진 마스크를 이용하여 노이즈 분산 정도를 추정하는 노이즈 분산 추정부와, 상기 노이즈 분산 정도를 이용하여 상기 입력 이미지에 포함된 노이즈 성분을 제거하는 이미지 보정부를 포함한다. 상기 이미지 처리 장치는 노이즈가 포함된 이미지를 보정하여 양질의 이미지를 구현할 수 있다.