Abstract:
본원은, 홀을 가지는 다공성 박막으로서, 상기 홀은 상기 박막의 상부 및/또는 하부에 형성되어 있으며 상기 홀은 상기 박막의 기공과 연결되어 있는 것인 홀을 가지는 다공성 박막, 및 입자의 정렬층을 주형으로서 이용하는 것을 포함하는 상기 홀을 가지는 다공성 박막의 제조 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본원은 이산화티타늄 입자의 신규 제조방법 및 상기 방법에 의해 제조되는 이산화티타늄 입자에 관한 것으로서, 구체적으로, 실온 이하의 온도에서의 반응에 의하여 균일한 입자 크기를 가지는 이산화티타늄 입자를 제조할 수 있으며 또한 이산화티타늄 입자의 크기를 용이하게 조절할 수 있는 이산화티타늄 입자의 신규 제조방법, 및 상기 방법에 의해 제조되는 균일한 크기를 가지는 이산화티타늄 입자에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 1개 또는 2개 이상의 미립자의 위치 및/또는 배향을 고정시킬 수 있는 제1 음각 또는 제1 양각이 표면에 형성된 주형 기재(template)를 준비하는 제1 단계; 상기 주형 기재 상에 2이상의 다수의 미립자를 올린 후 물리적 압력에 의해 미립자 일부 또는 전부를 제1음각 또는 제1양각에 의해 형성된 공극(孔隙)에 삽입시켜 미립자를 주형 기재 상에 정렬시키는 제2 단계; 및 미립자가 정렬되어 있는 주형 기재와 피인쇄체를 접촉시켜 상기 미립자를 피인쇄체 상에 전사시키는 제3 단계를 포함하는 미립자가 인쇄된 인쇄물을 제조하는 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 적어도 표면 일부가 점착성을 띠는 주형 기재를 준비하는 제1 단계; 상기 주형 기재 상에 2이상의 다수의 미립자들을 올린 후 물리적 압력에 의해 상기 주형 기재 중 점착성을 띠는 표면 상에 미립자들을 정렬시키는 제2 단계; 및 미립자가 정렬되어 있는 주형 기재와 피인쇄체를 접촉시켜 상기 미립자를 피인쇄체 상에 전사시키는 제3 단계를 포함하는 미립자가 인쇄된 인쇄물을 제조하는 방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 Si/Al 값이 15이상인 제올라이트를 함유하는 요오드(I 2 ) 또는 브롬(Br 2 ) 흡착제; 상기 I 2 또는 브롬(Br 2 ) 흡착제를 포함하는 I 2 또는 Br 2 운반체; 상기 I 2 또는 브롬(Br 2 ) 흡착제가 충진된 컬럼; 상기 I 2 또는 Br 2 흡착제로 성형되거나 상기 I 2 또는 Br 2 흡착제가 부착된 성형물; 및 상기 I 2 또는 Br 2 흡착제를 이용한 I 2 또는 Br 2 흡착 또는 제거 방법; 다공성 제올라이트 및 제올라이트 기공 내 포집된 요오드(I 2 ) 또는 브롬(Br 2 )를 구비한 요오드 또는 브롬 함유 제올라이트 복합체; 상기 요오드 또는 브롬 함유 제올라이트 복합체를 포함하는 반도체 소재; 상기 요오드 또는 브롬 함유 제올라이트 복합체를 이용한 요오드 또는 브롬 함유 생성물의 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
실리콘을 공급할 수 있는 다공성 기재를 제공하는 제1단계; 상기 다공성 기재 표면 상에 제올라이트 종자 결정들(seed crystals)을 적용하는 제2단계; 종자 결정들이 적용된 다공성 기재를 구조 유도제(Structure directing agent) 함유 수용액으로 코팅하는 제3단계; 및 제3단계에서 준비된 종자 결정들이 적용된 다공성 기재 내 수분이 증기(steam)를 형성할 수 있는 온도 이상에서 2차 성장법을 이용하여 상기 종자 결정들로부터 막을 형성 및 성장시키는 제4단계를 포함하여, 박막 또는 후막을 제조하는 방법; 및 상기 방법에 의해 제조된 막을 제공한다. 본 발명에 따른 막 제조 방법은 간단한 제조공정으로 이루어져 있어서, 높은 재현성을 가지며 높은 생산성(throughput)을 갖는다. 합성 젤을 사용하지 않고 용액을 사용함으로써 불필요한 원료들 소모를 줄일 수 있고 환경오염을 줄이고 합성젤이 낭비되지 아니하며, 막을 건조 및 세척할 필요가 없다.