양극 주변에 영구자석 자장을 인가하여 성능개선을 한 공동형 플라즈마 토치
    11.
    发明公开
    양극 주변에 영구자석 자장을 인가하여 성능개선을 한 공동형 플라즈마 토치 有权
    创新型中空电极等离子体转子与永久磁铁应用于阳极地区

    公开(公告)号:KR1020110105674A

    公开(公告)日:2011-09-27

    申请号:KR1020100024946

    申请日:2010-03-19

    CPC classification number: H05H1/40 H05H1/34 H05H2001/3468 Y02W30/20

    Abstract: 본 발명은 대용량의 폐기체 처리 등 열분해 공정에 사용되는 공동형 플라즈마 토치에 관한 것으로, 토치의 양극 주변 특정 위치에 영구자석을 장착하여 인가된 축방향의 자기장과 토치 내부에 형성되어 있는 반경방향 전류성분의 결합으로부터 발생되는 원주방향 로렌쯔힘을 이용하여 아크와 열플라즈마를 강하게 회전시켜서 전극의 침식을 완화하여 수명을 연장시키고, 토치 외부의 반응기 영역에서 열플라즈마 불꽃과 처리 대상물 간의 혼합을 용이하게 함으로써, 추가적인 전력소모 없이 열분해 효율을 향상시키기 위하여 고안되었다.

Patent Agency Ranking