公开(公告)号：KR101099646B1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：KR1020100024800

申请日：2010-03-19

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 전성찬 ,  조준형 ,  정영모 ,  김환균 ,  황석주

IPC: H01P7/00 ,  H01P7/08

Abstract: 본 발명은 나노공진기 제조방법에 관한 것으로서, 실리콘기판(10) 상면에 희생층(20)을 증착시키는 단계; 상기 희생층(20) 상면에 공진층(35)을 증착시키는 단계; 상기 공진층(35) 상면에 포토레지스트(37)를 도포하는 단계; 상기 포토레지스트(37) 상에서 공진부(30) 형상의 마스크(39)를 통해 리소그래피 방식으로 노광을 실시하여 공진부(30) 형상을 패터닝하는 단계; 상기 패터닝 된 포토레지스트(37)를 현상하여 공진부(30) 형상이 드러나도록 하는 단계; 상기 공진부(30) 형상에 금속층(40)을 증착하는 단계; 상기 금속층(40)이 층착된 공진부(30) 형상을 갖도록 포토레지스트(37)를 완전히 제거하는 단계; 및 상기 금속층(40), 공진부(30) 및 희생층(20)에 대해 식각을 수행하는 단계를 포함하여 구성된다. 따라서, 공진기 구동시 에너지 손실을 최소화함은 물론 공진기의 작동 효율 및 공진기 주파수 특성의 안정성을 증가시킬 수 있도록 하는 등의 효과를 얻는다.

公开(公告)号：KR1020120120672A

公开(公告)日：2012-11-02

申请号：KR1020110038398

申请日：2011-04-25

Applicant: 연세대학교 산학협력단

Inventor： 전성찬 ,  임주환 ,  김환균 ,  조준형 ,  정영모 ,  오주영

IPC: H01P7/00 ,  H01P11/00 ,  H01P7/08 ,  B82B1/00

CPC classification number: H01P7/08 ,  B82B1/00 ,  H01P11/008

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a nano structure with a suspender and the nano structure manufactured by the same are provided to improve the precision of the nano structure by wet-etching the upper side of a substrate around a bottom electrode to upwardly expose the suspender and the bottom electrode. CONSTITUTION: A bottom electrode(21) is formed on a substrate(10) by depositing a first material. A suspender(30) is formed by depositing a second material. A top electrode(22) is formed by depositing a third material on the upper side of the cross section of the suspender. The upper side of the substrate is etched.

Abstract translation: 目的：提供一种制造具有吊杆的纳米结构体及其制造的纳米结构体，以通过湿法蚀刻底部电极周围的衬底的上侧以向上暴露悬垂器来提高纳米结构的精度，以及 底部电极。 构成：通过沉积第一材料在基底（10）上形成底部电极（21）。 通过沉积第二材料形成悬挂件（30）。 顶部电极（22）通过在悬臂的横截面的上侧上沉积第三材料而形成。 蚀刻基板的上侧。