Abstract:
The present invention relates to a wire grid polarizer for improving light efficiency by applying an optimal nanowire grid pattern to an LCD panel and a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device including the wire grid polarizer. The wire grid polarizer of the present invention has multiple regions, wherein wire grid patterns in the regions have different shapes by region.
Abstract:
본 발명은 적어도 그 표면이 게르마늄을 포함하는 적외선 광학계용 광소자와, 게르마늄과 이종재료의 물질로서, 적외선 투과성을 갖고, 비등방성 식각성을 가지며, 굴절률은 공기보다 크고 게르마늄보다는 작은 실리콘으로, 상기 광소자의 표면에 형성되는, 이종재료 반사방지 미세구조물을 포함하는 것을 특징으로 하는 이종재료 반사방지 미세구조물을 갖는 적외선 광학계용 광소자를 제공한다. 또한, 본 발명은, 적어도 그 표면이 게르마늄을 포함하는 적외선 광학계용 광소자를 준비하는 제1단계와, 게르마늄과 이종재료의 물질로서, 적외선 투과성을 갖고, 비등방성 식각성을 가지며, 굴절률은 공기보다 크고 게르마늄보다는 작은 실리콘으로, 상기 광소자의 표면에 이종재료 반사방지 미세구조물을 형성하는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이종재료 반사방지 미세구조물을 갖는 적외선 광학계용 광소자 제조방법을 제공한다. 바람직하게는, 상기 제2단계는, 상기 광소자 위에 상기 실리콘의 층을 형성하는 단계; 상기 실리콘의 층 위에 배리어패턴을 형성하는 단계; 및 상기 실리콘을 식각하여 상기 이종재료 반사방지 미세구조물을 형성하는 단계;를 포함한다.
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of a nanostructure is provided to obtain the physically and chemically stable nanostructure, and to improve the productivity. CONSTITUTION: A manufacturing method of a nanostructure comprises the following steps: spreading nanoparticle on a substrate(10); and combining the nanoparticles to the substrate as nano-irregularities(23) using a thermal processing method. The nanoparticles are metal nanoparticles. The diameter of the nanopartcle is 1~100 nanometers.
Abstract:
An optical package wafer scale array and a manufacturing method thereof are provided to improve degree of design freedom by eliminating thickness constraints due to a glass substrate, thereby realizing scale-down in a camera device. An optical package wafer scale array includes at least one lens structure wafer scale array and at least one of a second telescopic structure wafer scale array(302). The lens structure wafer scale array is directly formed on a first telescopic structure wafer scale array. The first telescopic structure wafer scale array consists of a different material other than a lens material. The first telescopic structure wafer scale array is integrated with the lens structure wafer scale array. The second telescopic structure wafer scale array is coupled with the lens structure wafer scale array through stacking.
Abstract:
마이크로 패턴 구조물 성형용 금형 구조는, 금형(2, 4)과, 상기 금형(2, 4)에 고정되는 마이크로 패턴(8)을 가지는 몰드인서트(6)와, 상기 금형(2, 4)과 몰드인서트(6) 사이에 MEMS 공정을 이용하여 집적된 마이크로 발열부(32)를 구비하는 마이크로 발열기구(30)를 포함하여 이루어지고, 상기 마이크로 발열부(32)로 인가되는 전류를 조절하여 상기 마이크로 발열부(32)에서 발생하는 줄열에 의해 상기 몰드인서트(6)를 가열 제어한다.
Abstract:
The present invention relates to a device and a method for forming a glass surface for functional glass surface production and, more specifically, to a device and a method for forming a glass surface according to which glass surface forming is available at room temperature and continuous functional micro pattern transfer onto the entire glass area is allowed with a simple system without any additional post-treatment process. The present invention includes a glass plate; a roll mold that performs a rolling motion in a state of being in contact with a surface of the glass plate and forms micropatterns on the surface of the glass plate; and a heat source device that is arranged in the upper portion of the glass plate, irradiates the surface of the glass plate immediately before the contact between the roll mold and the glass plate with a convergent ray which has the form of a line parallel to the roll mold, and locally heats only partial thickness of the surface of the glass plate to a glass transition temperature or higher.
Abstract:
본 발명은 마이크로 렌즈에서 시료 표면까지의 작업거리를 높여 측정시 마이크로 렌즈나 시료 표면이 오염되거나 손상되는 것을 방지하고, 대영역에 걸쳐 보다 고속으로 피측정물의 표면 측정이 가능하게 하는 다중 병렬 공초점 시스템에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은 광을 조사하는 광원; 피측정물로 향하거나 피측정물에서 반사된 광이 통과하고, 상기 광원에서 조사된 광을 집속시키기 위한 하나 이상의 렌즈를 포함하는 릴레이 렌즈부; 상기 릴레이 렌즈부를 통해 집속된 광이 입사되는 마이크로 렌즈가 다수 개 배열되어 마이크로 렌즈 어레이를 이루며, 상기 마이크로 렌즈 어레이를 통해 광이 피측정물의 표면에 포커싱되는 멀티 광 프로브; 상기 피측정물로부터 반사된 후 상기 마이크로 렌즈 및 릴레이 렌즈부를 거쳐 입사되는 광을 검출하는 광전검출기(photo detector);를 포함하여 이루어지되, 상기 마이크로 렌즈의 초점거리와 마이크로 렌즈와 피측정물 사이의 거리에 의해서 정해지는 후초점과 상기 릴레이 렌즈부의 초점은 동일 평면상에 위치되는 것을 특징으로 한다.