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公开(公告)号：KR101738921B1
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：KR1020140143998
申请日：2014-10-23
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B29C59/18
Abstract: 본발명은패턴이형성된제1 고분자기판을준비하는단계(단계 1); 상기단계 1에서준비된제1 고분자기판의패턴을제2 고분자로채운후, 상기제2 고분자를반경화시키는단계(단계 2); 상기단계 2에서반경화된제2 고분자를포함하는제1 고분자기판을패턴을가지는표면에박막을형성한후, 주름(wrinkles) 또는접힘(folding) 구조를형성하는단계(단계 3);를포함하는패턴의형성방법을제공한다. 본발명에따른패턴의형성방법은패턴을형성하고자하는부분에경도의차이를발생시켜주름구조또는접힘구조를포함하는패턴의위치조절을가능하게한다. 이와같이, 패턴의위치조절이가능함으로써정밀한얼라인이필요한패턴구조제작, 3 차원금속패턴제작, 마이크로/나노구조제작, 자극감응형디바이스제작, 유연소자개발등의분야에활용되는기술로응용될수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101693286B1
公开(公告)日：2017-01-06
申请号：KR1020140144001
申请日：2014-10-23
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은대면적방전가공을수행하기위한사각형면을갖는단자를포함하는스캔부; 접지된상태인방전판; 및상기스캔부및 방전판에 0.03 kW 내지 1.0 kW의출력을가하기위한출력부;를포함하는대면적방전스캔장치를제공한다. 본발명에따른대면적방전스캔장치는대면적에균일하게방전가공을수행하여원하는패턴을형성할수 있다. 또한, 본발명에따른대면적방전스캔장치를사용한패턴의형성방법은일반적인패턴, 계층구조패턴, 구배를가지는패턴등을형성할수 있다. 이는금속와이어를이용하여실험실단위에서표면구조를형성하는종래기술보다산업상이용가능한진보된방법이다.
Abstract translation: 本发明提供一种大面积放电扫描装置，其特征在于，包括：扫描单元，具有具有正方形表面的端子，以进行大面积放电处理; 处于接地状态的放电板; 以及向扫描单元和放电板施加0.03kW至1.0kW的输出的输出单元。 根据本发明，通过在大面积上均匀地进行放电处理，大面积的放电扫描装置可以形成期望的图案。 此外，根据本发明，使用大面积的放电扫描装置形成图案的方法可以形成正常图案，层叠结构图案，具有梯度的图案等。 本发明是一种与现有技术相比可用于工业的改进方法，以通过使用金属线在实验单元中形成表面结构。
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公开(公告)号：KR1020170090930A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：KR1020160011918
申请日：2016-01-29
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B63C11/18 , C08J5/18 , C08L83/04 , B29C45/00 , B29C39/00 , B29C39/02 , B29C55/06 , B29C71/04 , B29D7/01 , B29K83/00
Abstract: 본발명은기체포집용막에관한것으로서, 보다상세하게는아가미를모방한기체포집용막 및막의제조방법에관한것이다. 본발명은미세패턴(200)이형성되는필름(100)의표면에굴곡부(300)가형성되는것을특징으로하는기체포집용막과, 나노간격으로형성되는미세패턴(200)이형성되는틀에 PDMS를부어굳혀미세패턴(200)이형성되는필름(100)을형성하는미세패턴형성단계와; 상기미세폐턴(200)에서형성된필름(100)의양 끝을고정하여길이방향으로늘려주는인장단계와; 상기필름(100)에자외선과오존처리를하여상기필름(100)의표면에비가역적인화학변화를유도하는화학처리단계와; 상기화학처리단계및 인장단계에서늘어난상기필름(100)을원래의길이로풀어주는폴딩단계를포함하는것을특징으로하는기체포집용막의제작방법을개시한다.
Abstract translation: 气体捕获膜及其制造方法技术领域本发明涉及一种气体捕获膜，更具体地说，涉及一种气体捕获膜及其制造方法。 本发明倒入PDMS到微细图案200是可释放的模具该精细图案（200）的薄膜100，其是可释放的弯曲部300的表面上是正规型气体吸收，其特征在于，性别yongmak和，形成在纳米间隙 精细图案形成步骤，形成被硬化以形成精细图案（200）的膜（100）; 拉伸工序，将形成于微细保持膜200的膜100的端部固定并沿长度方向拉伸; 一种化学处理步骤，对薄膜（100）进行紫外线和臭氧处理，以在薄膜（100）的表面上引起不可逆的化学变化; 以及在化学处理步骤和拉伸步骤中拉伸薄膜（100）至原始长度的折叠步骤。
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公开(公告)号：KR1020160048248A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：KR1020140144001
申请日：2014-10-23
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은대면적방전가공을수행하기위한사각형면을갖는단자를포함하는스캔부; 접지된상태인방전판; 및상기스캔부및 방전판에 0.03 kW 내지 1.0 kW의출력을가하기위한출력부;를포함하는대면적방전스캔장치를제공한다. 본발명에따른대면적방전스캔장치는대면적에균일하게방전가공을수행하여원하는패턴을형성할수 있다. 또한, 본발명에따른대면적방전스캔장치를사용한패턴의형성방법은일반적인패턴, 계층구조패턴, 구배를가지는패턴등을형성할수 있다. 이는금속와이어를이용하여실험실단위에서표면구조를형성하는종래기술보다산업상이용가능한진보된방법이다.
Abstract translation: 本发明提供一种大面积放电扫描装置，其特征在于，包括：扫描单元，具有具有正方形表面的端子，以进行大面积放电处理; 处于接地状态的放电板; 以及向扫描单元和放电板施加0.03kW至1.0kW的输出的输出单元。 根据本发明，通过在大面积上均匀地进行放电处理，大面积的放电扫描装置可以形成期望的图案。 此外，根据本发明，使用大面积的放电扫描装置形成图案的方法可以形成正常图案，层叠结构图案，具有梯度的图案等。 本发明是一种与现有技术相比可用于工业的改进方法，以通过使用金属线在实验单元中形成表面结构。
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公开(公告)号：KR101688856B1
公开(公告)日：2016-12-23
申请号：KR1020140143990
申请日：2014-10-23
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01L21/027 , H01L21/26
Abstract: 본발명은패턴이형성된기판을준비하는단계(단계 1); 흐름성이있는광 경화성고분자를도포하고, 상기단계 1에서준비된기판의패턴이형성된부분으로상기도포된광 경화성고분자에접촉시킨후, 광을조사하여표면에패턴이형성된고분자기판을제조하는단계(단계 2); 및상기단계 2에서형성된고분자기판에코로나방전을수행하는단계(단계 3);를포함하는계층구조패턴의제조방법을제공한다. 본발명에따른계층구조패턴의제조방법은마이크로크기의패턴및 마이크로크기의패턴에형성된주름패턴을포함하는계층구조패턴을형성할수 있는방법이며, 코로나방전가공시의출력과시간을조절하여일정한계점이내의마이크로크기의패턴과마이크로크기패턴사이의공간두 부분으로나누어선택적으로주름/접힘구조를형성시킬수 있게되며이는기존표면구조물이가지는특이성에새로운기능이나기능의향상을부여하는역할을할 수있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种分级结构图形制备方法，包括以下步骤：（1）制备其上具有图案的基板; （2）涂布具有流动性的光可固化聚合物，并使光可固化聚合物与在步骤1中制备的基材上形成图案的部分接触，然后照射光，从而制备具有 在其表面上形成图案; 和（3）在步骤2中形成的聚合物基材上进行电晕放电; 根据本发明的层次结构图案制备方法可以形成包括微尺寸图案或形成在微尺寸图案上的波纹图案的分层结构图案，并且可以通过分为两部分来选择性地从波纹/折叠结构， 它们是通过在电晕放电过程中调节输出和时间而在微尺寸图案之间的特定临界点和空间内的微尺寸图案。 因此，根据本发明的层次结构图案制备方法可以对现有表面结构具有的特异性添加新的功能或增强的功能。
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公开(公告)号：KR1020160048246A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：KR1020140143998
申请日：2014-10-23
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B29C59/18
CPC classification number: B29C59/18
Abstract: 본발명은패턴이형성된제1 고분자기판을준비하는단계(단계 1); 상기단계 1에서준비된제1 고분자기판의패턴을제2 고분자로채운후, 상기제2 고분자를반경화시키는단계(단계 2); 상기단계 2에서반경화된제2 고분자를포함하는제1 고분자기판을패턴을가지는표면에박막을형성한후, 주름(wrinkles) 또는접힘(folding) 구조를형성하는단계(단계 3);를포함하는패턴의형성방법을제공한다. 본발명에따른패턴의형성방법은패턴을형성하고자하는부분에경도의차이를발생시켜주름구조또는접힘구조를포함하는패턴의위치조절을가능하게한다. 이와같이, 패턴의위치조절이가능함으로써정밀한얼라인이필요한패턴구조제작, 3 차원금속패턴제작, 마이크로/나노구조제작, 자극감응형디바이스제작, 유연소자개발등의분야에활용되는기술로응용될수 있다.
Abstract translation: 本发明提供一种图案的制造方法。 该方法包括以下步骤：（步骤1）制备其上形成有图案的第一聚合物基材; （步骤2）用第二聚合物填充步骤1中制备的第一聚合物基材的图案，并将第二聚合物半硬化; 和（步骤3）在包含来自步骤2的半硬化第二聚合物的第一聚合物基材的含花样图案上形成薄膜，并形成皱纹或折叠结构。 根据本发明的图案的制造方法，在要形成图案的部分中形成硬度差，因此可以调整包括褶皱结构或折叠结构的图案的位置。 可以控制图案的位置，因此该方法可以应用于在诸如生产需要精确对准的图案结构，三维金属图案的生产，微/ 纳米结构，生产刺激敏感器件，以及开发灵活的器件。
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