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公开(公告)号:FR2954505A1
公开(公告)日:2011-06-24
申请号:FR0959412
申请日:2009-12-22
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE , WALTHER ARNAUD
Abstract: Procédé de réalisation d'une structure micromécanique comportant un substrat (2) et un empilement (4) d'au moins deux couches disposées sur le substrat (2), une partie mobile (8) formée dans l'empilement (4) et une partie fixe (10) par rapport au substrat (2) formée dans l'empilement (2), et des surface en regard formées entre la partie fixe (10) et la partie mobile (8), formant par exemple des moyens de butée (16) pour limiter le déplacement de la partie mobile (8) dans une direction sensiblement perpendiculaire à l'empilement (4), ledit procédé prévoyant d'utiliser au moins une couche sacrificielle entre le substrat et l'empilement en un matériau apte à être gravé sélectivement par rapport aux matériaux de l'empilement.
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12.
公开(公告)号:FR2933683B1
公开(公告)日:2010-09-03
申请号:FR0854670
申请日:2008-07-09
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE
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公开(公告)号:FR2917731B1
公开(公告)日:2009-10-23
申请号:FR0755992
申请日:2007-06-25
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE
Abstract: The device has an excitation unit i.e. excitation electrode (14), exciting a beam type resonator (10). A detection unit comprises a suspended beam type strain gauge (11) made of piezo-resistive material, where the strain gauge includes a common plane with the resonator. The beam type strain gauge is connected to the resonator at a point that is situated outside of embedded portions (12, 13) to increase the stress observed by the beam type strain gauge. The beam type strain gauge comprises two parallel arms, where the resistive gauge is a silicon nanowire.
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公开(公告)号:DE602004008331T2
公开(公告)日:2008-05-08
申请号:DE602004008331
申请日:2004-12-14
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE
Abstract: The micro-component has a hermetic micro-cavity (6) delimited by a cover comprising two layers (4, 7). A third layer (9) is disposed between the layers (4, 7). An additional micro-cavity (11) communicating with an opening in the layer (7) is disposed between the layers (4, 7). An additional opening adjacent to the cavity (11) is formed in the layer (9), offcentered with respect to an opening (5) and delimited by the layer (7). An independent claim is also included for a process of fabricating a hermetic micro-cavity of a micro-component.
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公开(公告)号:FR2906038A1
公开(公告)日:2008-03-21
申请号:FR0608186
申请日:2006-09-19
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: HENTZ SEBASTIEN , NGUYEN VALERIE , ROBERT PHILIPPE
IPC: G01P15/02
Abstract: L'invention concerne un accéléromètre micro-usiné utilisant une masse sismique mobile (10) suspendue par rapport au substrat par des liaisons élastiques (12, 14) autorisant seulement une translation dans son propre plan selon un axe sensible (Oy); la masse agit sur au moins un résonateur allongé (20), par l'intermédiaire d'une structure d'amplification d'effort associée à ce résonateur ; la structure d'amplification comporte un bras de levier rigide (30) dont une première extrémité (32) est reliée à la masse sismique par une liaison (36) ayant, dans le plan de la masse, une forte raideur dans la direction de l'axe sensible (Oy) et une faible raideur dans le sens perpendiculaire, et une deuxième extrémité é (34) est reliée à un point (A6) d'ancrage sur le substrat. La deuxième extrémité (32) du bras de levier est une pièce de tête rigide entourant le point d'ancrage (A6) et reliée à ce point d'ancrage par une liaison en rotation (38, 40) autour d'un centre de rotation (M) ; le résonateur a une extrémité fixée à la pièce de tête rigide en un point (B) tel que l'axe longitudinal du résonateur passe à une distance h, faible par rapport à la longueur L du bras de levier mais non nulle, du centre de rotation (M) de la liaison en rotation.
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公开(公告)号:FR2890438B1
公开(公告)日:2007-11-30
申请号:FR0509173
申请日:2005-09-08
Inventor: BAVOUX BERNARD , DANEL JEAN SEBASTIEN , ROBERT PHILIPPE , PAULY MAXIME
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17.
公开(公告)号:FR2898597A1
公开(公告)日:2007-09-21
申请号:FR0650902
申请日:2006-03-16
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE
Abstract: Pour réaliser une structure d'un microsystème électromécanique (MEMS) au sein d'une cavité hermétique (38) d'un dispositif microélectronique (50), un capot (30) et un substrat (10) préparés sont scellés par un scellement direct de silicium (SDB). Pour optimiser la préparation des surfaces par un nettoyage humide sans altérer les propriétés du MEMS (22), c'est-à-dire sans occasionner de collage, la structure MEMS (22) n'est pas libérée lors du scellement, mais solidarisée au support (12) par une couche intermédiaire sacrificielle (16). Celle-ci est supprimée une fois le scellement réalisé par injection d'HF vapeur par l'intermédiaire d'un évent (40) débouchant dans la cavité (38).
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公开(公告)号:DE60307672T2
公开(公告)日:2007-09-06
申请号:DE60307672
申请日:2003-11-27
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE
IPC: H01H59/00
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公开(公告)号:DE60307136T2
公开(公告)日:2007-08-23
申请号:DE60307136
申请日:2003-11-27
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE
IPC: H01H59/00
Abstract: The invention relates to an electrostatic microswitch which is intended to connect electrically two strip conductors which are disposed on an insulating support ( 21 ), the two strip conductors are connected electrically by conducting means ( 38 ) which are provided in the central part of deformable means ( 28 ) which can be deformed in relation to the support under the effect of an electrostatic force generated by control electrodes ( 25, 48; 26, 58 ). The control electrodes are distributed facing one another on the deformable means and the support, such as to form capacitive means around the aforementioned conducting means. The control electrodes are associated with insulating stop elements ( 35, 36 ) which are provided in order to prevent a short circuit between electrodes of the capacitive means during the deformation of the deformable means. The distance between the deformable means and the ends of the strip conductors is less than or equal to the distance between the insulating stop elements associated with the control electrodes and the control electrodes located opposite.
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公开(公告)号:AT369612T
公开(公告)日:2007-08-15
申请号:AT04767860
申请日:2004-06-30
Applicant: COMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUE
Inventor: ROBERT PHILIPPE
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