樹脂組成物、ドライエッチング用レジストマスク及びパターン形成方法。
    11.
    发明专利
    樹脂組成物、ドライエッチング用レジストマスク及びパターン形成方法。 有权
    树脂组合物,该抗蚀剂掩模和图案形成的干式蚀刻方法。

    公开(公告)号:JP5831780B1

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:JP2015524955

    申请日:2014-12-17

    Abstract: ビニル基が連結された芳香族基を含む特定の構造を側鎖に有する重合体(A)を含有するドライエッチングレジスト用硬化性樹脂組成物であって、該重合体(A)中の特定の構造が重合体(A)中で80〜100重量%であることを特徴とする、ドライエッチングレジスト用硬化性樹脂組成物を提供するものである。 また、該ドライエッチングレジスト用硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする、ドライエッチング用レジストマスク、及び、ナノインプリント法によるパターンを有するものであるドライエッチング用レジストマスクを提供するものである。

    Abstract translation: 干法蚀刻的抗蚀剂包含具有在侧链含有特定的聚合物在乙烯基基团相连接的芳族基团,一个特定结构的聚合物(A)(A)固化性树脂组合物 其中所述结构是在聚合物(a)在80〜100重量%,提供了一种干式蚀刻抗蚀剂固化性树脂组合物。 特征还在于,通过固化干蚀刻得到的抗蚀剂固化性组合物,抗蚀剂的干式蚀刻掩模,并且是提供一种用于干法蚀刻的抗蚀剂掩模,并且具有由纳米压印图案 。

Patent Agency Ranking