公开(公告)号：WO2008062888A1

公开(公告)日：2008-05-29

申请号：PCT/JP2007/072704

申请日：2007-11-19

Applicant: JSR株式会社 ,  能村仲篤 ,  今野洋助

Inventor： 能村仲篤 ,  今野洋助

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/095 ,  G03F7/11

Abstract: 　本発明のレジスト下層膜形成用組成物は、フラーレン骨格に少なくとも１つのアミノ基が結合した（Ａ）アミノ化フラーレンと、（Ｂ）溶剤と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物であり、エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて、下層膜パターンが折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することができる。

Abstract translation: 本发明提供一种抗蚀剂下层成膜用组合物，其具有优异的耐蚀刻性，并且在干蚀刻工艺中不太可能引起下层膜图案的弯曲，并且可以将抗蚀剂图案真实地转印到基材上 以高重现性加工。 用于抗蚀剂下层成膜的组合物包含（A）包含连接到富勒烯骨架的至少一个氨基的（A）和（B）溶剂的胺化富勒烯。