公开(公告)号：WO2008105293A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：PCT/JP2008/052853

申请日：2008-02-20

Applicant: JSR株式会社 ,  永井 智樹 ,  中村 敦 ,  安陪 毅由 ,  杉浦 誠

Inventor： 永井 智樹 ,  中村 敦 ,  安陪 毅由 ,  杉浦 誠

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 　基板の表面状態の如何にかかわらず、レジストパターンのパターン間隙を実効的に、精度よく微細化することができ、波長限界を超えるパターンを良好かつ経済的に低コストでパターン欠陥の少ない状態で形成することができることに加え、パターン収縮率をより向上させることが可能な樹脂組成物、及びこれを用いて効率よく微細レジストパターンを形成できる微細パターン形成方法を提供する。 　水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、アルコール及び全溶媒に対して１０質量％以下の水を含むアルコール系溶媒と、を含有する微細パターン形成用樹脂組成物であって、前記架橋成分として、その分子内にアクリロイルオキシ基を２個以上有する化合物を含有する微細パターン形成用樹脂組成物である。

Abstract translation: 无论基板表面的状况如何，树脂组合物都可以高精度地有效地使抗蚀剂图案的图案间隙微细化，并且在低成本的情况下以更低的成本在适当的经济有效的方式中形成超过波长极限的图案 图案缺陷，实现图案收缩率的提高; 以及通过使用树脂组合物可以有效地形成微观抗蚀剂图案的微图案形成方法。 用于微图案形成的树脂组合物是包含羟基化树脂，交联组分和含醇的醇溶剂，并且基于全部溶剂为10质量％以下的水，其中每个具有两个以上丙烯酰氧基的化合物 作为交联成分含有分子。

公开(公告)号：WO2008056795A1

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：PCT/JP2007/071849

申请日：2007-11-09

Applicant: JSR株式会社 ,  セントラル硝子株式会社 ,  永井 智樹 ,  江畑 琢磨 ,  志水 誠 ,  ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム ,  成塚 智 ,  藤原 昌生

Inventor： 永井 智樹 ,  江畑 琢磨 ,  志水 誠 ,  ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム ,  成塚 智 ,  藤原 昌生

IPC: C08F20/38 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

Abstract: 　感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂であり、下記一般式（１０）で表される繰り返し単位を有する樹脂。 （前記一般式（１０）中、Ｒ １ は水素原子等を表し、Ｍ ＋ は所定のカチオンを表し、ｎは１～５の整数を表す）

Abstract translation: 当用作辐射敏感性酸产生剂时具有优异功能并且不太可能不利地影响环境或人体的树脂。 它是具有由以下通式（10）表示的重复单元的树脂：其中R 1表示氢等; M +表示给定的阳离子; n 是1-5的整数）。

公开(公告)号：WO2007060919A1

公开(公告)日：2007-05-31

申请号：PCT/JP2006/323141

申请日：2006-11-21

Applicant: JSR株式会社 ,  矢田 勇二 ,  永井 智樹

Inventor： 矢田 勇二 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 　解像性能、熱安定性および保存安定性に優れた感放射線性酸発生剤を含有し、定在波によるパターン線幅の変動およびパターン形状の劣化を抑制でき、ナノエッジラフネスおよびＬＥＦに優れたレジストパターンを得ることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 　感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）２，４，６－トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム２，４－ジフルオロベンゼンスルホネート、２，４，６－トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム４－トリフルオロメチルベンゼンスルホネート等で代表されるスルホニウム塩化合物およびスルホンイミド化合物を含む感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする。当該組成物は、さらに（Ｂ）４－ヒドロキシスチレン／４－ｔ－ブトキシスチレン共重合体、４－ヒドロキシスチレン／（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル等で代表される樹脂を含有することが好ましい。

Abstract translation: 本发明提供了一种辐射敏感性树脂组合物，其含有分辨性，热稳定性和储存稳定性优异的辐射敏感性酸发生剂，并且通过驻波减少了线宽变化和图案轮廓劣化，从而可以提高抗蚀剂图案 在纳米边缘粗糙度和LEF。 该组合物的特征在于含有（A）锍盐如2,4-二氟 - 苯磺酸2,4,6-三甲基苯基二苯基锍或4-三氟甲基苯磺酸2,4,6-三甲基苯基二苯基锍和磺酰亚胺的辐射敏感酸发生剂。 优选组合物还含有（B）4-羟基苯乙烯/ 4-叔丁氧基苯乙烯共聚物或4-羟基苯乙烯/（甲基）丙烯酸叔丁酯共聚物等树脂。

公开(公告)号：WO2006121096A1

公开(公告)日：2006-11-16

申请号：PCT/JP2006/309446

申请日：2006-05-11

Applicant: JSR株式会社 ,  永井 智樹 ,  米田 英司 ,  江畑 琢磨 ,  川上 峰規 ,  杉浦 誠 ,  下川 努 ,  志水 誠

Inventor： 永井 智樹 ,  米田 英司 ,  江畑 琢磨 ,  川上 峰規 ,  杉浦 誠 ,  下川 努 ,  志水 誠

IPC: C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/02 ,  C08F220/12 ,  C08L33/04 ,  C08L41/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C09D133/14 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/00 ,  C08F28/02 ,  C08F214/18 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 　放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に高解像度でＤＯＦが広くＬＥＲに優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。新規化合物は、下記式（２）で表される。 　式（２）において、Ｒ 4 はメチル基、トリフルオロメチル基、または水素原子を表し、Ｒfの少なくとも１つはフッ素原子または炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、Ａは２価の有機基または単結合を表し、Ｇはフッ素原子を含有する２価の有機基または単結合を表し、Ｍ ｍ＋ は金属イオンもしくはオニウム陽イオンを表し、ｍは１～３の自然数を、ｐは１～８の自然数をそれぞれ示す。

Abstract translation: 公开了一种对辐射高度透明而对抗蚀剂的基本物理性质如灵敏度，分辨率和图案形状优异的辐射敏感性树脂组合物。 该辐射敏感性树脂组合物的分辨率特别高，DOF大，LER优异。 还公开了适用于这种组合物的聚合物和用于合成这种聚合物的新型化合物。 该新化合物由下式（2）表示。 （2）式（2）中，R 4表示甲基，三氟甲基或氢原子; Rf的至少一个表示氟原子，或具有1-10个碳原子的直链或支链全氟烷基; A表示二价有机基团或单键; G表示含有氟原子或单键的二价有机基团; M + H +表示金属离子或鎓阳离子; m表示1-3的自然数; 而p代表1-8的自然数。

公开(公告)号：JP6413888B2

公开(公告)日：2018-10-31

申请号：JP2015070408

申请日：2015-03-30

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 小松 裕之 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/40 ,  C08F297/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F293/00 ,  C08G18/61 ,  C08G77/38 ,  C09D153/00 ,  C09D183/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/002 ,  G03F7/165 ,  H01L21/02112 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3081

公开(公告)号：JP6331359B2

公开(公告)日：2018-05-30

申请号：JP2013245499

申请日：2013-11-27

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 仁井 啓之 ,  生井 準人 ,  永井 智樹

IPC: G03F7/038 ,  C08F20/36 ,  G03F7/039

公开(公告)号：JP6264148B2

公开(公告)日：2018-01-24

申请号：JP2014070198

申请日：2014-03-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 小松 裕之 ,  成岡 岳彦 ,  峯岸 信也 ,  永井 智樹

IPC: B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C08L53/00 ,  C08F8/00 ,  C08F2/38 ,  C08J7/00 ,  C08F299/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  C08F297/026 ,  C08K5/42 ,  C08L53/00 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31138

公开(公告)号：JP6172025B2

公开(公告)日：2017-08-02

申请号：JP2014070375

申请日：2014-03-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 小松 裕之 ,  成岡 岳彦 ,  峯岸 信也 ,  永井 智樹

IPC: C08F293/00 ,  C08L53/00

公开(公告)号：JP6079771B2

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：JP2014502395

申请日：2013-02-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 大澤 壮祐 ,  森野 一英 ,  須藤 篤 ,  遠藤 剛 ,  佐藤 光央 ,  松田 恭彦 ,  永井 智樹 ,  下川 努

IPC: C08F20/28 ,  G03F7/039

CPC classification number: C08F20/28 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

公开(公告)号：JP2016134580A

公开(公告)日：2016-07-25

申请号：JP2015010083

申请日：2015-01-22

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 小松 裕之 ,  小田 智博 ,  峯岸 信也 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹

IPC: C08F293/00 ,  C08L53/00 ,  B05D7/24 ,  H01L21/027

Abstract: 【課題】本発明の目的は、十分に微細なミクロドメイン構造幅を有するパターンを形成することが可能なパターン形成用組成物、このパターン形成用組成物を用いたパターン形成方法、及びこのパターン形成用組成物に用いられるブロック共重合体を提供することである。 【解決手段】本発明は、[A]特定構造を有するブロック共重合体及び[B]有機溶剤を含有するパターン形成用組成物、それを用いたパターン形成方法及びブロック共重合体である。 【選択図】図4

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够以足够细微的结构宽度进行图案化的图案形成组合物，并提供使用该图案形成组合物的图案化方法，以及用于图案形成组合物的嵌段共聚物。解决方案：（A）A 嵌段共聚物具有特定结构，（B）图案化组合物含有有机溶剂。 还提供了图案化方法和使用其的嵌段共聚物。选择图：图4