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公开(公告)号：CN1637594A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410103651.X
申请日：2004-12-30
Applicant: LG.菲利浦LCD株式会社
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F1/00 , G03F7/70433 , G03F7/70475
Abstract: 曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法。公开了一种使用掩模的用于光刻工艺的分区曝光方法。用于具有左右光强偏差的曝光装置的掩模包括：基板；位于该基板中间的第一图案；分别位于该第一图案的左侧和右侧的第二图案和第三图案，其中该第一和第二图案对曝光装置的左右光强偏差进行补偿。
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