膜元件
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101952127A

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN200980102744.1

    申请日:2009-01-16

    CPC classification number: G02B5/18 B42D25/20 B42D25/324 B42D25/328 G02B5/1842

    Abstract: 本发明涉及具有复制层(43)的膜元件,其中光学活性表面结构(27)被模制在该复制层的第一表面中。该表面结构由第一衍射表面起伏(46)至少形成在膜元件的第一区域中,该第一衍射表面起伏(46)由沿第一包络(47)的一系列连续元件(47)构成,其中这些元件各自由平行于基底表面的元件表面(48)和邻接相邻的一个或多个元件表面的至少一个侧面构成,相邻元件的元件表面(48)沿垂直于基底平面的方向分隔开第一光学间隔或多个所述第一光学间隔,其中第一光学间隔介于150nm至800nm之间,较佳的介于150nm至400nm之间。第一包络(47)具有介于100L/mm至2000L/mm之间的空间频率和大于450nm的光学深度,并且包络(47)的起伏形状和空间频率被选择成沿一个或多个第一方向折射入射光以表示第一信息项,所述信息项的颜色值还由第一光学间隔确定。

    具有半色调图像的衍射安全元件

    公开(公告)号:CN100534807C

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200480031811.2

    申请日:2004-11-02

    CPC classification number: B42D25/29

    Abstract: 本发明涉及一种具有半色调图像(2)的衍射安全元件(1),它包括位于多个层(10)所包括的反射层(13)中的衍射结构,该结构介于透明的浮雕层(11)和保护性涂层(12)之间。半色调图像(2)被分割成多个像元(4),各像元的至少一个维度的尺寸小于1毫米。各像元(4)的表面包括背景区域(5)和图案像元(6)。像元图案(6)所占据的面积相对于像元(4)的总面积的比例决定了在像元(4)的一个点(P)中半色调图像(2)的亮度。背景区区域(5)包括第一衍射结构,该结构并不以和像元图案(6)相同的方式来调节光线。宽度长达0.3毫米的图案条带(36)可进一步在半色调图像(2)的表面上延伸。上述图案条(36)占据背景区区域(5)和/或像元图案(6)的一小部分表面,并在半色调图像(2)上形成彩色条带(43)。

    光学安全器件
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100437637C

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200480017988.7

    申请日:2004-06-16

    CPC classification number: B42D25/342 B42D25/328 G03H1/0011

    Abstract: 本发明提出一种具有衬底层的光学安全器件,其中用于形成第一光学上可察觉效果的第一微观结构以逐域方式形成于表面区域(2)上。表面区域(2)被分成微观精细图案区域(21-40)以及背景区域(20),第一微观结构被形成在图案区域(21-40)而不形成在背景区域(20)中,表面区域(2)中的微观精细图案区域(21-40)以莫尔图案的形式配置,其中通过相关的校验器件鉴定的隐藏信息项作为安全特征被编码,而微观精细图案区域(21-40)根据底层功能而被进一步底层构形,所述底层功能表述用作莫尔图案的其它安全特征的微观底层。

    微结构及其微结构产生的工艺

    公开(公告)号:CN100386654C

    公开(公告)日:2008-05-07

    申请号:CN200480013558.8

    申请日:2004-03-18

    Abstract: 光衍射微结构可通过至少两个凸纹结构的重叠来产生,其中,第一个凸纹结构是机械产生的,而至少有一个第二个凸纹结构是照相制版所产生的衍射结构。一种适用于光衍射微结构产生的工艺,该光衍射微结构是叠加重叠的,它包括一个凸纹结构和至少一个衍射结构,并可采用下列步骤来区分:a)在基板(1)上产生光刻胶层(2),其空白表面具有凸纹结构,b)采用相干光在凸纹结构(5)上产生干涉图形,c)根据干涉图形取向凸纹结构,d)借助于干涉图形曝光凸纹结构,e)显影光刻胶,其中去除在曝光操作过程中变化的光刻胶材料,并且在凸纹结构上产生诸如所述衍射结构的凹槽(13)之类的凹坑,以及,f)烘干所述光刻胶。

    金属化的安全单元
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101035686A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200580034377.8

    申请日:2005-08-29

    Abstract: 本发明涉及一种以多层膜体为形式的安全单元(11),涉及包括这种安全单元的安全单据,还涉及这种安全单元的生产工艺。该膜体包括剥离层(20)、保护性漆层(21)、带有凹凸结构(25,26)的复制漆层(22)、金属层(23)、以及粘合层(24),它们都位于支撑膜(10)上。第一凹凸结构(25)具有大于0.5的“深度-宽度”比,由此在第一凹凸结构(25)的区域中金属层(23)是透明的。第二凹凸结构(26)具有较低的“深度-宽度”比,由此在第二凹凸结构(26)的区域中金属层(23)是不透明的。

    用于显现隐藏的信息项目的光学安全元件和系统

    公开(公告)号:CN1813259A

    公开(公告)日:2006-08-02

    申请号:CN200480017985.3

    申请日:2004-06-16

    CPC classification number: G02B5/1866 B42D25/324 B42D25/342 G02B5/1819

    Abstract: 本发明涉及一种光学安全元件和包含了这样一个安全元件的用于显现隐藏信息项目的一个系统。光学安全元件具有一个基底层,其中由多个浮雕参数,特别是浮雕形状、浮雕深度、空间频率和方位角所确定的一个浮雕结构制作在一个表面区域中,该区域由X轴和Y轴确定,用于产生光学视觉效果。确定浮雕结构的一个或多个浮雕参数在表面区域(27)依照一个参数变化函数而变化。表面区域(27)被分成一个或多个个图案区域(29、30)和一个背景区域(28)。确定浮雕结构的一个或多个浮雕参数在一个或多个图案区域(29、30)中依照一个与背景区域(28)的参数变化函数有相移的参数变化函数而变化。更进一步提供一个检验元件,它具有由一个周期传输函数确定的一个检验光栅,其周期对应于参数变化函数的周期。

    微结构及其微结构产生的工艺

    公开(公告)号:CN1791813A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200480013558.8

    申请日:2004-03-18

    Abstract: 光衍射微结构可通过至少两个凸纹结构的重叠来产生,其中,第一个凸纹结构是机械产生的,而至少有一个第二个凸纹结构是照相制版所产生的衍射结构。一种适用于光衍射微结构产生的工艺,该光衍射微结构是叠加重叠的,它包括一个凸纹结构和至少一个衍射结构,并可采用下列步骤来区分:a)在基板(1)上产生光刻胶层(2),其空白表面具有凸纹结构,b)采用相干光在凸纹结构(5)上产生干涉图形,c)根据干涉图形取向凸纹结构,d)借助于干涉图形曝光凸纹结构,e)显影光刻胶,其中去除在曝光操作过程中变化的光刻胶材料,并且在凸纹结构上产生诸如所述衍射结构的凹槽(13)之类的凹坑,以及,f)烘干所述光刻胶。

    多层体和用于生产多层体的方法

    公开(公告)号:CN107000462B

    公开(公告)日:2019-04-23

    申请号:CN201580067133.3

    申请日:2015-12-10

    Inventor: A·希林

    Abstract: 本发明涉及一种多层体,其包括:载体膜;安排在载体膜的表面上的部分反射层,该部分反射层在第一区域中是至少部分透明的而在第二区域中是不透明的;安排在载体膜的表面上和/或装饰层的背离载体膜的那侧上的部分装饰层,该装饰层存在于第三区域中但不存在于第四区域中,其中第一区域与第三区域交叠而第二区域与第三和第四区域交叠。本发明还涉及用于生产此种多层体的方法、具有此种多层体的安全元件以及具有此种安全元件的安全文件。

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