-
公开(公告)号:CN101115627B
公开(公告)日:2010-08-18
申请号:CN200680004626.3
申请日:2006-02-09
Applicant: OVD基尼格拉姆股份公司
CPC classification number: B32B27/08 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/41 , B42D25/42 , B42D2033/10 , B42D2033/24 , B44C1/14 , G03H1/02 , G03H1/0244 , G03H2001/0033 , G03H2001/188 , G03H2250/10
Abstract: 本发明涉及具有部分成形的第一层(3m)的多层体(100)的制备方法以及根据所述方法制备的多层体。本方法特征在于在多层体的复制层(3)的第一区域中成形衍射性第一浮雕结构(4),在该第一区域中和其中在复制层(3)中没有成形第一浮雕结构的第二区域中将第一层(3m)施加到复制层(3)上,将光敏层施加到第一层(3)上或将光敏性洗涤掩模(8)作为复制层施加到其上,透过第一层(3m)将该光敏层或洗涤掩模曝光以致由于第一和第二区域中的第一浮雕结构而引起该光敏层或洗涤掩模不同地曝光,和在第一区域而不是第二区域中或在第二区域而不是第一区域中使用经曝光的光敏层或洗涤掩模作为掩模层将第一层(3m)除去。
-
公开(公告)号:CN101687426B
公开(公告)日:2011-05-11
申请号:CN200880021597.0
申请日:2008-05-16
Applicant: OVD基尼格拉姆股份公司
CPC classification number: B42D25/328 , B42D25/29 , B42D2035/24 , B44F1/10 , G03H1/02 , G03H1/0248 , G03H1/0252 , G03H1/265 , G03H2001/2228
Abstract: 本发明涉及多层体(7),有载体衬底(750)和至少部分设置在载体衬底(750)窗口(70)或透明区中的透明层(720)。透明层(720)有折射率变化的至少一个第一子区(71a)和第二子区(71b),其并排设置在透明层(720)展开的层面中且至少部分设置在载体衬底(750)窗口(70)或透明区中。每个子区(71a,71b)有多个周期设置的形成光作用元件且由折射率变化形成的节点,节点设置在基本相互平行的平面中。至少一个第一子区(71a)中的平面不平行于至少一个第二子区(71b)中的平面。至少在一子区(71a,71b)中,平面不平行也不垂直于层面。由此,入射到多层体(7)正面及背面上的光被光作用元件衍射且元件在入射光中形成正视图和背视图中不同的光学效应。
-
公开(公告)号:CN101821110A
公开(公告)日:2010-09-01
申请号:CN200880111520.2
申请日:2008-10-15
Applicant: OVD基尼格拉姆股份公司
CPC classification number: B29D11/0073 , B29D11/00278 , B42D25/29 , B42D2033/24 , G02B3/0056 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , Y10T156/1039
Abstract: 本发明涉及一种多层体(5)并涉及一种多层体(5)的一种制造方法。多层体(5)具有透明的第一层(51),在该第一层中成型出多个长度大于2mm、宽度小于400μm的柱状透镜,这些柱状透镜是依照一个微透镜网栅布置的,通过该微透镜网栅形成一个第一坐标系统,该第一坐标系统具有一个由柱状透镜的焦点线所确定的坐标轴X1和一个与坐标轴X1成直角的坐标轴Y1。在一个布置在第一层的下方、相对于第一层处于固定位置中的第二层(52)中,成形了多个具有微像形式的显微结构,这些微像沿着一个横轴线相对于一个纵轴线按照一个变换函数而畸变,这些微像是依照一种微像网栅加以布置的,通过该微像网栅形成一个第二坐标系统,其具有一个坐标轴X2和一个与之成直角的坐标轴Y2。在多层体的一个区域中,微透镜网栅的微透镜和微像网栅的显微结构是相重叠的,在该区域中由柱状透镜的焦点线的间隔所确定的透镜间隔和由微像的平面重心的间隔所确定的微像间隔彼此相差不超过10%。为了形成多层体(5),将第二层加设到一个第三层上,将第一层布置在第三层上方;利用一个作用在第一层的上侧上和第三层的下侧上的工具(41,42,43)在加热和加压的条件下将第一层、第二层和第三层压合起来。在此,利用一个在其上已复制出微透镜网栅的阴模的压制板将透镜网栅复制到第一层的上侧的表面中。
-
公开(公告)号:CN101115627A
公开(公告)日:2008-01-30
申请号:CN200680004626.3
申请日:2006-02-09
Applicant: OVD基尼格拉姆股份公司
CPC classification number: B32B27/08 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/41 , B42D25/42 , B42D2033/10 , B42D2033/24 , B44C1/14 , G03H1/02 , G03H1/0244 , G03H2001/0033 , G03H2001/188 , G03H2250/10
Abstract: 本发明涉及具有部分成形的第一层(3m)的多层体(100)的制备方法以及根据所述方法制备的多层体。本方法特征在于在多层体的复制层(3)的第一区域中成形衍射性第一浮雕结构(4),在该第一区域中和其中在复制层(3)中没有成形第一浮雕结构的第二区域中将第一层(3m)施加到复制层(3)上,将光敏层施加到第一层(3)上或将光敏性洗涤掩模(8)作为复制层施加到其上,透过第一层(3m)将该光敏层或洗涤掩模曝光以致由于第一和第二区域中的第一浮雕结构而引起该光敏层或洗涤掩模不同地曝光,和在第一区域而不是第二区域中或在第二区域而不是第一区域中使用经曝光的光敏层或洗涤掩模作为掩模层将第一层(3m)除去。
-
-
-