公开(公告)号：AT15356U1

公开(公告)日：2017-07-15

申请号：AT2292016

申请日：2016-09-29

Applicant: PLANSEE SE

Inventor： MICHAEL EIDENBERGER-SCHOBER ,  JÖRG WINKLER ,  MICHAEL O'SULLIVAN

IPC: C22C27/04 ,  B22F3/15 ,  C23C14/34

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Sputtering Target das Molybdän sowie zumindest ein Metall aus der Gruppe (Tantal, Niob) enthält, wobei der mittlere Gehalt des Metalls aus der Gruppe (Tantal, Niob) 5 bis 15 at% und der Molybdängehalt ≥ 80 at% betragen. Das Sputtering Target weist zumindest eine Matrix mit einem mittleren Molybdängehalt von größer gleich 92 at% und in der Matrix eingebettete Partikel aus einem Mischkristall enthaltend zumindest ein Metall aus der Gruppe (Tantal, Niob) und Molybdän, mit einem mittleren Molybdängehalt von größer gleich 15 at% auf. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtering Targets.