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公开(公告)号：CN114058044A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202110897174.2
申请日：2021-08-05
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
Abstract: 本申请提供了一种聚酰亚胺基膜、窗覆盖膜及包括其的显示装置。更具体地，提供了一种聚酰亚胺基膜，其具有根据ASTM D882使用万能试验机(UTM)测得的5GPa以上的模量，在拉伸过程中在4％以上的应变下发生塑性变形，并且机械方向模量Mmd和宽度方向模量Mtd之间的差满足以下式1的：[式1]|Mmd–Mtd|≤0.7Gpa。
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公开(公告)号：CN111864164A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010333770.3
申请日：2020-04-24
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: H01M2/16 , H01M2/14 , H01M10/052
Abstract: 本发明提供一种用于二次电池的隔膜和使用该隔膜的电化学装置。更具体地，提供了一种复合隔膜，当形成具有低电阻的耐热涂层时，与固化前相比，固化后的该复合隔膜具有较低的葛尔莱渗透率，并且与形成涂层之前的多孔基底本身的葛尔莱渗透率相比不具有大幅提高的葛尔莱渗透率从而具有总体上低的葛尔莱渗透率，并且具有高的表面硬度以具有穿透稳定性。
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公开(公告)号：CN111864164B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202010333770.3
申请日：2020-04-24
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: H01M50/446 , H01M10/052 , H01M50/449 , H01M50/489 , H01M50/403
Abstract: 本发明提供一种用于二次电池的隔膜和使用该隔膜的电化学装置。更具体地，提供了一种复合隔膜，当形成具有低电阻的耐热涂层时，与固化前相比，固化后的该复合隔膜具有较低的葛尔莱渗透率，并且与形成涂层之前的多孔基底本身的葛尔莱渗透率相比不具有大幅提高的葛尔莱渗透率从而具有总体上低的葛尔莱渗透率，并且具有高的表面硬度以具有穿透稳定性。
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公开(公告)号：CN118105850A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311537947.1
申请日：2023-11-17
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于气体分离的复合分离膜。根据本发明的一个方面，提供一种用于气体分离的复合分离膜，其包括支撑体和设置在所述支撑体的一面的选择层，其中，所述支撑体包含多孔性聚乙烯膜，所述支撑体的表面粗糙度为100nm以下，表面中值孔径为300nm以下，机械方向(MD)和横向(TD)的拉伸强度为10MPa以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111092188B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201911014078.8
申请日：2019-10-23
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: H01M50/46 , H01M50/403 , H01M50/449 , H01M50/443 , H01M50/491 , H01M10/058 , H01M10/052
Abstract: 本发明提供了一种水性二次电池用隔膜和使用其的电化学装置。更具体地，提供了一种复合隔膜，其具有更优异的循环寿命并且包括不易在电解质溶液中溶胀的涂层。
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公开(公告)号：CN106848149B
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN201610920663.4
申请日：2016-10-21
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: H01M50/451 , H01M50/491 , H01M50/489 , H01M50/403
Abstract: 本发明涉及一种电池用隔膜及其制备方法，更具体地，涉及一种表面进行疏水性处理的电池用隔膜及其制备方法，根据本发明的一个观点，提供一种二次电池用隔膜及其制备方法，所述隔膜包括：多孔性聚合物片材，具备第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，并包括连通所述第一表面与所述第二表面之间的多个孔；耐热性无机物层，通过原子层沉积法形成在所述多孔性聚合物片材的所述第一表面或所述第二表面中的至少一个表面和所述孔内表面上，所述第一表面或所述第二表面中的至少一个表面和所述孔内表面的所述耐热性无机物层上具备包括疏水性功能基团的经过疏水性涂覆处理疏水性层。
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公开(公告)号：CN105153442A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201510314176.9
申请日：2015-06-09
Applicant: SK新技术株式会社
IPC: C08J5/18 , C08L1/12 , C07C281/08 , C07C251/86 , C07C281/04 , C07C255/50 , G02F1/13363
Abstract: 本发明涉及一种光学补偿膜，更具体地涉及一种包含特定结构的化合物的光学补偿膜。所述光学补偿膜由于包含特定结构的化合物，使得面内的相位差及厚度方向相位差值高，具有优异的光学特性，从而在适用于图像显示装置时，在高的相位差及广视角下也能够显示出高对比度。
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公开(公告)号：CN107452924B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN201710245907.8
申请日：2017-04-14
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开高新信息电子材料株式会社
IPC: H01M50/449 , H01M50/431 , H01M50/403
Abstract: 本发明涉及二次电池用多孔性隔膜及其制备方法。本发明涉及通过原子层沉积工艺在多孔性基材形成无机氧化物层的二次电池用多孔性隔膜，本发明可通过调节工艺上的特定条件和多孔性隔膜的表面及内部的无机氧化物的厚度来提供热稳定性、透过性及电解液浸渍性优秀的薄的隔膜。
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