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    PROCEDE DE SERTISSAGE D'UNE PIERRE
    12.
    发明公开
    PROCEDE DE SERTISSAGE D'UNE PIERRE 审中-公开

    公开(公告)号：EP3479721A1

    公开(公告)日：2019-05-08

    申请号：EP17200365.9

    申请日：2017-11-07

    Applicant: The Swatch Group Research and Development Ltd

    Inventor： Bourban, Stewes ,  Grossenbacher, Pascal ,  Martin, Jean-Claude ,  Spassov, Vladislav ,  Barron, Cécile ,  Blaser, Lionel ,  Caloz, Yann ,  Gernez, Cyrille ,  Lauper, Stéphane ,  Odeh, Ahmad ,  Springer, Simon

    IPC: A44C17/04 ,  C25D7/00 ,  G04B47/04

    Abstract: L'invention se rapporte à un procédé d'assemblage d'une pierre (1) sur un support de fixation, ladite pierre (1) étant taillée pour présenter une couronne (4), un rondiste (5) et une culasse (6), ledit procédé d'assemblage comportant les étapes suivantes:
    a) se munir d'un substrat (8) comportant une couche adhésive thermofusible (10)
    b) positionner la pierre (1) sur la couche adhésive thermofusible (10)
    c) chauffer la couche adhésive thermofusible (10)
    d) exercer une pression sur la pierre (1) pour pouvoir enfoncer une partie de la couronne (4) dans la couche adhésive thermofusible (10)
    e) positionner au-dessus de la couche adhésive (10) une feuille de sertissage (12) autour de la pierre (1) pour former entre la feuille de sertissage (12) et ladite pierre (1) un espace libre périphérique (16) au moins au niveau du rondiste (5) et de zones (4a, 6a) de la couronne (4) et de la culasse (6) contiguës au rondiste (5)
    f) déposer par croissance galvanique dans ledit espace libre périphérique (16), depuis la feuille de sertissage (12), une couche métallique (22) au moins au niveau du rondiste (5) et des zones (4a, 6a) de la couronne (4) et de la culasse (6) contiguës au rondiste (5) de manière à emprisonner ledit rondiste (5) dans ladite couche métallique (22), la couche métallique (22) et la feuille de sertissage (12) formant ledit support de fixation
    g) libérer ladite pierre (1) et son support de fixation du substrat (8).
    L'invention concerne également un procédé de sertissage sur un élément d'une pièce d'horlogerie ou de bijouterie d'une pierre et de son support de fixation obtenus selon ledit procédé d'assemblage.

    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIÈCE D'HORLOGERIE DOTÉE D'UN ÉLÉMENT D'HABILLAGE MULTI-NIVEAUX
    14.
    发明公开
    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIÈCE D'HORLOGERIE DOTÉE D'UN ÉLÉMENT D'HABILLAGE MULTI-NIVEAUX 审中-公开
    制造具有多层覆盖元件的钟表部件的方法

    公开(公告)号：EP3266738A1

    公开(公告)日：2018-01-10

    申请号：EP16178118.2

    申请日：2016-07-06

    Applicant: The Swatch Group Research and Development Ltd.

    Inventor： Vuille, Pierry ,  Mosteiro Vazquez, Yoann ,  Grossenbacher, Pascal

    IPC: B81C99/00 ,  C25D1/00 ,  G04B19/04

    CPC classification number: C25D1/003 ,  B81C99/008 ,  B81C2201/032 ,  C23C16/48 ,  G04B19/042 ,  G04D3/0069 ,  G04D3/0074 ,  G04D3/0092

    Abstract: Procédé (Pr1) de fabrication d'une pièce (PC), comportant les étapes suivantes :
    - Superposer (Pr1_sup) une couche électriquement isolante (CL) comportant un premier orifice (OL1), une couche supplémentaire (CS) comportant une première ouverture (OS1), une couche intermédiaire (CT) comprenant un premier trou (OT1), et une couche de base (CB) surmontée d'un motif de base (MB1)
    - Déposer (Pr1_gal) une couche métallique, de sorte qu'à l'issue de cette étape, la couche métallique forme une coque recouvrant des parois électriquement conductrices du motif de base (MB1), du premier orifice (OL1), de la première ouverture (OS1) et du premier trou (OT1), et comporte une zone latérale (EL) reposant sur la couche isolante (CL)
    - Dissoudre la couche isolante (CL)
    - Recouvrir (Pr1_rec) la couche métallique ou d'alliage (CM) d'un volume (VL) constitué par un matériau de base de la pièce (PC), de sorte que le volume (VL) épouse les formes de la couche métallique (CM).

    Abstract translation: 方法（枯草杆菌蛋白酶）用于使工件（PC），其包括以下步骤： - 重叠（Pr1_sup），包括第一孔具有第一开口的电绝缘层（CL）（OL1），附加层（CS）（ OS1），其包括第一孔（OT1），并通过一个基本图案（MB1）超越基层（CB）的中间层（CT） - 删除（Pr1_gal）的金属层，从而使 以下这个步骤中，金属层形成覆盖基部单元的第一开口（OP1）和第一孔（OT1）的所述第一孔口（OL1）的（MB1）的导电壁的外壳，并且包括一 侧区域的绝缘层（CL）上（EL）搁置 - 溶解所述绝缘层（CL） - 组成的基体材料的盖（Pr1_rec）卷的金属或合金层（CM）（VL） （PC），使得体积（VL）与金属层（CM）的形状相匹配。

    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIECE D'HORLOGERIE DOTÉE D'UN ÉLÉMENT D'HABILLAGE CREUX OU EN RELIEF
    15.
    发明公开
    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PIECE D'HORLOGERIE DOTÉE D'UN ÉLÉMENT D'HABILLAGE CREUX OU EN RELIEF 审中-公开
    制造具有空心或放电包覆元件的钟表零件的方法

    公开(公告)号：EP3246767A1

    公开(公告)日：2017-11-22

    申请号：EP16170379.8

    申请日：2016-05-19

    Applicant: The Swatch Group Research and Development Ltd.

    Inventor： Grossenbacher, Pascal ,  Bourban, Stewes ,  Vuille, Pierry ,  Winkler, Yves

    IPC: G04D3/00 ,  G04B19/10 ,  G04B19/18

    CPC classification number: G04D3/0048 ,  G04B19/10 ,  G04B19/18 ,  G04D3/0069 ,  G04D3/0092

    Abstract: L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce (PC) dotée d'un élément d'habillage, le procédé comprenant les étapes suivantes :
    - Se munir (Md_Sub) d'un substrat (SB) comprenant une surface supérieure (SP) électriquement conductrice et un motif (MT) en relief sur ladite surface supérieure (SP), le motif (MT) comportant un sommet (ST)
    - Déposer (Md_Cis) une couche électriquement isolante (CI) sur la surface supérieure (SP) du substrat (SB), autour du motif (MT), sur une épaisseur (E) inférieure ou égale à la distance (H) entre le sommet (ST) et la surface supérieure (SP)
    - Déposer (Md_Cga) une couche métallique (CM) sur le sommet (ST) du motif (MT) par croissance galvanique, de sorte qu'à l'issue de cette étape, la couche métallique (MT) repose en partie sur la couche isolante (CI)
    - Dissoudre (Md_Dis) la couche isolante (CI)
    - Recouvrir (Md_Enr) un ensemble (ES) comprenant le substrat (SB) et la couche métallique (CM), par un volume (VL) d'un matériau de base de la pièce (PC), le volume (VL) formant une empreinte de l'ensemble (ES)
    - Séparer (Md_Dem) le volume (VL) et la couche métallique (CM), du substrat (SB), le volume (VL) présentant alors un élément d'habillage constitué par un évidemment (EV) dont la forme correspond à l'empreinte du motif (MT) et dont le fond (FD) s'interface avec la couche métallique (CM).

    Abstract translation: 本发明涉及一种设置有一覆盖元件的一块（PC）的制造方法，该方法包括以下步骤： - 在基板的带（Md_Sub）（SB）包括顶面 （SP）导电的，并且在浮雕图案（MT）在所述上表面（SP），该单元具有顶点（T）（MT） - 在其上表面移除（Md_Cis）的电绝缘层（CI）（SP ）在衬底（SB）围绕所述单元（MT），其厚度（E）小于或等于所述顶点（T）和上表面（SP）之间的距离（H）的 - 删除（Md_Cga）的金属层 （CM）由电流生长模式（MT）的顶部（T），使得该步骤之后，基于在所述绝缘层（CI）部分上的金属层（MT） - 将（Md_Dis ）所述绝缘层（CI） - 盖（Md_Enr）用u的体积（VL），其包括在衬底（SB）和金属层（CM）的一组（ES） 工件（PC）的n基极材料中，形成组件的模腔的体积（VL）（ES） - 单独的（Md_Dem）的体积（VL）和（SB）基板的金属层（CM）， 体积（VL）然后具有由凹部（EV）构成的覆盖元件，其形状对应于单元（MT）和与所述金属层（CM）基（FD）接口的足迹。

    Procédé de décoration tridimensionnelle
    17.
    发明公开
    Procédé de décoration tridimensionnelle 审中-公开
    Verfahren zur dreidimensionalen Verzierung

    公开(公告)号：EP2192454A1

    公开(公告)日：2010-06-02

    申请号：EP08020713.7

    申请日：2008-11-28

    Applicant: The Swatch Group Research and Development Ltd.

    Inventor： Winkler, Yves ,  Bourban, Stewes ,  Grossenbacher, Pascal

    IPC: G04B19/10 ,  G04B19/18 ,  G04D3/00

    CPC classification number: B05D1/32 ,  B21J1/006 ,  B22D19/00 ,  G04B19/10 ,  G04B19/18 ,  G04B37/22 ,  G04D3/0048

    Abstract: Il s'agit d'un procédé de décoration d'un élément. Ce procédé comprend les étapes suivantes :
    a) se munir de l'élément (1);
    b) réaliser un masque (5) de l'épaisseur souhaitée des décors (5), et présentant au moins une ouverture;
    c) placer la au moins une ouverture du masque (5) contre l'endroit à décorer afin de former au moins un moule;
    d) remplir d'un matériau ledit au moins un moule; et
    e) retirer le masque (2).

    Abstract translation: 该方法包括装配元件例如 表盘（11），其中元件具有锚固单元（7），允许改善元件上装饰件（5）的固定。 形成具有所需厚度的掩模（4），其中掩模被装饰物填充，并且包括开口。 将面罩的开口放置在装饰的地方，以形成模具。 将材料填充到模具中，并且取出面罩。

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