公开(公告)号：CN102947014B

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201180030571.4

申请日：2011-06-21

Applicant: 国际壳牌研究有限公司

Inventor： G·J·哈顿 ,  A·P·梅塔 ,  C·K·蔡

IPC: B05D7/22

CPC classification number: B65D25/14 ,  B05D1/62 ,  B05D5/08 ,  B05D5/083 ,  B05D7/222 ,  E21B17/01 ,  E21B43/01 ,  F16L9/00 ,  F16L55/24 ,  F16L58/04

Abstract: 一种非粘性设备，所述设备包括：包含第一材料的流体-固体物流贮存或输送设施；包含第二材料的在所述设施内表面上的涂层；其中所述第二材料对蜡沉积物的粘附力降低至小于第一材料对蜡沉积物的粘附力的30%。

公开(公告)号：CN103958076A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201280041582.7

申请日：2012-08-27

Applicant: SEB公司 ,  国家科学研究中心 ,  上阿尔萨斯大学

Inventor： 芭芭拉·冈缇兰 ,  让-路克·佩里莱恩 ,  玛丽-法郎士·巴利亚特 ,  文森特·鲁库勒

IPC: B05D5/08 ,  A47J36/02

CPC classification number: A47J36/025 ,  B05D1/62 ,  B05D5/083 ,  B05D7/52

Abstract: 本发明涉及包含具有接触表面（21）的基材（2）的烹调用品（1），该接触表面（21）至少部分由金属制成且被包含至少一层（30、31、32）的不粘涂层（3）涂覆，该层（30、31、32）包含至少一种氟碳树脂，其为单独的或与且耐受至少200℃的热稳定连接粘合剂混合的，氟碳树脂与热稳定连接粘合剂，如果有必要的话，形成烧结网。根据本发明，接触表面（21）包括一个由前体的等离子体聚合形成的聚合物层组成的中间层（210），前体选自不饱和羧酸及其盐和酯、饱和羧酸乙烯酯、不饱和二羧酸及其盐、酯、半酯或酸酐和不饱和环氧化物。本发明也涉及制备所述用品（1）的方法。

公开(公告)号：CN102844122B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201180011354.0

申请日：2011-02-23

Applicant: 门户医疗有限公司

Inventor： 达伦·布罗姆利-达文波特 ,  保罗·斯蒂文森

IPC: B05D7/24 ,  A61M15/00

CPC classification number: A61M15/009 ,  A61M2205/0238 ,  A61M2207/00 ,  B05D1/62 ,  B05D5/083 ,  B05D7/227 ,  B05D2202/00 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T428/1355 ,  Y10T428/2804

Abstract: 根据本发明，提供了一种用于分配药剂的分配器装置，所述装置包括至少一个金属性部件，所述金属性部件具有在所述装置的存放或使用期间与所述药剂接触的至少一个非金属性表面，其中所述非金属性表面与下面的金属性部件具有界面，所述金属性部件基本包括金属氟化物和/或金属碳化物成分。

公开(公告)号：CN103906776A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201280045442.7

申请日：2012-07-19

Applicant: 表面创新有限公司

Inventor： W.C.E.肖菲尔德 ,  S.莫尔施 ,  J.P.S.巴德亚尔

IPC: C08F293/00 ,  C08J7/16

CPC classification number: C08F293/005 ,  B05D1/62 ,  C08F2438/01

Abstract: 本发明涉及产生带有共价键结的聚合侧链的聚合物刷的方法，其包括以下步骤：(a)将含卤素的引发剂薄膜或衍生成含卤素的引发剂薄膜的前体沉积到基材上；(b)从在步骤(a)中形成的所述含卤素的引发剂薄膜表面ATRP生长结合侧基的聚合刷骨架；(c)从在步骤(b)中形成的所述聚合刷骨架生长在所述聚合刷骨架上的聚合侧链，以形成聚合物刷，其中所述聚合侧链构成所述刷的刷毛。

公开(公告)号：CN102187011B

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN200980141783.2

申请日：2009-08-11

Applicant: 陶氏康宁公司

Inventor： 周晓兵

IPC: C23C16/42 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/02271 ,  B05D1/62 ,  C23C16/30 ,  C23C16/345 ,  C23C16/36 ,  C23C16/401 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02167 ,  H01L21/02219 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3148 ,  H01L21/31633 ,  H01L21/3185

Abstract: 一种通过热聚合反应性气体混合物二氨基硅杂环丁烷和选自供氮气体、供氧气体及其混合物的源气体而生产含硅薄膜的方法。沉积的薄膜可以是氮化硅、碳氮化硅、二氧化硅或碳掺杂二氧化硅。这些薄膜适用于作为半导体器件中的介电层，钝化涂层，防护涂层，隔板，衬里和/或应激体。

公开(公告)号：CN101909684B

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN200880124081.9

申请日：2008-11-06

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 菲利浦·A·因克斯 ,  莫塞斯·M·大卫 ,  鲁道夫·J·达姆斯

IPC: A61M15/00 ,  C04B35/00

CPC classification number: A61M16/14 ,  A61M11/04 ,  A61M15/0065 ,  A61M15/0086 ,  A61M15/009 ,  A61M15/0091 ,  A61M15/08 ,  B05D1/62 ,  B05D5/083 ,  B05D5/086 ,  B05D2202/15 ,  B65D83/54 ,  C23C16/0245 ,  C23C16/26 ,  C23C16/30 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667

Abstract: 本发明涉及一种药物吸入装置，其具有涂布到其至少一部分上的非金属涂层，然后使至少部分氟化的化合物共价键合到该非金属涂层上。

公开(公告)号：CN101909682B

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN200880124074.9

申请日：2008-11-06

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 菲利浦·A·因克斯 ,  莫塞斯·M·大卫 ,  鲁道夫·J·达姆斯

IPC: A61M15/00 ,  C01B33/113

CPC classification number: A61M16/14 ,  A61M11/04 ,  A61M15/0065 ,  A61M15/0086 ,  A61M15/009 ,  A61M15/0091 ,  A61M15/08 ,  B05D1/62 ,  B05D5/083 ,  B05D5/086 ,  B05D2202/15 ,  B65D83/54 ,  C23C16/0245 ,  C23C16/26 ,  C23C16/30 ,  C23C16/401 ,  C23C16/56 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667

Abstract: 一种药物吸入装置，所述药物吸入装置具有通过在离子轰击条件下的等离子体沉积施加的非金属涂层。

公开(公告)号：CN101678642B

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN200780053214.3

申请日：2007-07-26

Applicant: 东洋制罐株式会社

Inventor： 伊藤卓郎 ,  森拓己 ,  中尾浩 ,  山崎和彦

IPC: B32B9/00 ,  B65D23/08 ,  C23C16/30

CPC classification number: C23C16/401 ,  B05D1/62 ,  B05D7/52 ,  B05D2201/00 ,  B65D23/0814 ,  B65D23/0835 ,  C23C16/511 ,  Y02W90/12 ,  Y10T428/1352 ,  Y10T428/1379 ,  Y10T428/139 ,  Y10T428/1393 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/265

Abstract: 一种塑料成形品，其包括塑料基板和通过等离子体CVD法在所述塑料基板表面上形成的气相沉积膜。所述气相沉积膜包括：具有2.5至13的元素比C/Si和0.5以下的元素比O/M的有机金属气相沉积层；和厚度为40至180nm的烃气相沉积层，该烃气相沉积层在FT-IR测量中在3200至2600cm-1的波数范围内具有归属于CH、CH2和CH3的峰，且CH2的比率和CH3的比率分别为35％以下和40％以上。在膜沉积期间，使塑料成形品的基材免受氧化劣化、热劣化等。因此，塑料成形品能够提供改进的氧/水阻隔性、附着性和对于由水导致的膜分离的防止性。

公开(公告)号：CN102066606B

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：CN200980122211.X

申请日：2009-06-12

Applicant: 西得乐公司

Inventor： 伊维斯-厄本·杜克拉斯

IPC: C23C16/04 ,  C23C16/511 ,  B01D45/16 ,  B04C5/18 ,  B04C5/185 ,  B04C5/187 ,  B04C5/22 ,  B05D7/22

CPC classification number: B01D45/12 ,  B05D1/62 ,  B05D7/227 ,  C23C16/045 ,  C23C16/26 ,  C23C16/4402

Abstract: 本发明涉及一种容器处理机器，采用一种由前驱气体形成等离子体的方法，在每个容器的壁上真空沉积碳微粒保护层，机器包括至少一个测量仪器(16，16’)，它通过合适的通路与容器的处理区域相连通，在该区域中通过微波辐射形成乙炔类前驱气体生成的离子体形式的微粒，所述乙炔类前驱气体通过注射器(18)引入所述容器。测量仪器承受连续周期的压力变化，范围从对应于容器处理阶段的准真空的数值，到对应于排出已处理容器并导入新容器的阶段的大气压力的数值。为保护测量仪器(16，16’)，机器包括恒定无负载型的过滤装置，其包括回旋过滤器(21)，该回旋过滤器包括沉积室(26)，配置在离心切向管道(23)和泄出管道(24)之间，所述回旋过滤器通过离心切向管道(23)与伸展至对所述容器处理的区域的通路段连接，以及通过泄出管道(24)与伸展至测量仪器的通路段连接。

公开(公告)号：CN101878322B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200880105603.0

申请日：2008-07-03

Applicant: 西德尔公司

Inventor： 奈依迈·鲍特洛伊 ,  纳赛尔·贝尔迪

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/30 ,  C23C16/04 ,  C23C16/02 ,  B05D7/24

CPC classification number: C23C16/401 ,  B05D1/62 ,  B05D7/56 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/045 ,  C23C16/30 ,  Y10T428/1379 ,  Y10T428/24975

Abstract: 本发明涉及一种使用低压等离子体在基底上沉积阻隔涂层的方法，其中所述等离子体是由反应液在电磁场的影响下通过部分电离获得的，所述化学反应液在低压下被注射到一个处理区域。所述方法包括：至少一个第一步骤，其中第一层在所述基底上沉积，其通过使混合物形成所述等离子态而获得，所述混合物至少包括一个有机硅化合物和另一种化合物；使第二层在所述第一层上沉积的第二步骤，该第二层基本上包括一个以SiOx为表达式的氧化硅，以及至少一个第三步骤，其中第三层在所述第二层上沉积，其通过使混合物形成所述等离子态而获得，所述混合物至少包括一种有机硅化合物和另一种化合物，所提到的另一种化合物都为含氮化合物形式，例如氮气。