公开(公告)号：JP2012533441A

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：JP2012521023

申请日：2010-07-20

Applicant: モントレ ブレゲ エスエー

Inventor： カラパティス，ナキス

IPC: B81C1/00 ,  G04B13/02 ,  G04B15/14

CPC classification number: B81C1/00682 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/00674 ,  B81C2201/0178 ,  Y10T29/49986

Abstract: 【課題】 新規な補強シリコン製マイクロメカニカル部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の新規な補強シリコンマイクロメカニカル部品の製造方法は下記の順の、
(A)シリコンウエハ内に部品又は部品のバッチを微細機械加工するステップと、
(B)自然二酸化珪素の厚さよりも少なくとも５倍超の厚さの二酸化珪素を生成するために、一ステップ又は数ステップで、前記部品の全ての外面上に二酸化珪素層を形成するステップと、
(C)エッチングにより二酸化珪素層を除去するステップと、
からなる。
【選択図】 図３

公开(公告)号：JP2012161910A

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：JP2012021566

申请日：2012-02-03

Applicant: Nivarox-Far Sa ,  ニヴァロックス−ファー ソシエテ アノニム

Inventor： CUSIN PIERRE ,  RICHARD DAVID ,  DUBOIS PHILIPPE

IPC: B81C99/00 ,  G04B13/02

CPC classification number: B81C99/0085 ,  B81B2201/035

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of fabricating a micromechanical part made of a single piece material, at a high material yield and in a fewer number of steps.SOLUTION: The method includes the following steps: (a) forming a substrate which includes the negative cavity for the micromechanical part to be fabricated; (b) forming a sacrificial layer on one portion of the substrate; (c) depositing particles on the substrate intended to form an essential feature of the micromechanical part; (d) removing the sacrificial layer so as to selectively leave one portion of the substrate free of any particles; (e) depositing a layer of material by a chemical vapour phase deposition method so that the material is exclusively deposited where the particles remain; and (f) removing the substrate to release the micromechanical part formed in the negative cavity.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制造由单件材料制成的微机械部件的方法，以高材料产量和较少数量的步骤。 解决方案：该方法包括以下步骤：（a）形成包括用于待制造的微机械部件的负空腔的基板; （b）在所述衬底的一部分上形成牺牲层; （c）在基板上沉积旨在形成微机械部件的基本特征的颗粒; （d）去除所述牺牲层以便选择性地使所述衬底的一部分不含任何颗粒; （e）通过化学气相沉积方法沉积一层材料，使得材料被专门沉积在颗粒保留的地方; 和（f）去除衬底以释放形成在空腔中的微机械部件。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP3870628B2

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：JP29400499

申请日：1999-10-15

Applicant: 富士ゼロックス株式会社

Inventor： 高幸 山田 ,  睦也 高橋

IPC: C23C28/00

CPC classification number: C23C28/00 ,  B81B2201/035 ,  B81C99/0025 ,  H01L21/6831

公开(公告)号：EP3141522A1

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：EP15184188.9

申请日：2015-09-08

Applicant: Nivarox-FAR S.A.

Inventor： Dubois, Philippe

IPC: B81C1/00 ,  G04B31/008 ,  G04B15/14

CPC classification number: G04B31/08 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/00674 ,  G04B15/14

Abstract: L'invention se rapporte à une pièce micromécanique horlogère comprenant un substrat à base de silicium (1) ayant au moins une surface, au moins une partie de ladite surface présentant des pores (2) débouchant à la surface externe de la pièce micromécanique horlogère et comprenant un agent tribologique (5).
L'invention concerne également un procédé de réalisation d'une pièce micromécanique horlogère à partir d'un substrat à base de silicium (1), ledit substrat à base de silicium ayant au moins une surface dont au moins une partie est lubrifiée par un agent tribologique (5), ledit procédé comprenant, dans l'ordre, les étapes de :
a) former des pores (2) à la surface de la partie de ladite surface dudit substrat à base de silicium (1)
b) déposer dans lesdits pores (2) ledit agent tribologique (5).

公开(公告)号：EP3141519A1

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：EP15184184.8

申请日：2015-09-08

Applicant: Nivarox-FAR S.A.

Inventor： Dubois, Philippe

IPC: B81B3/00 ,  G04D3/00

CPC classification number: G04B15/14 ,  B81B3/007 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/0038 ,  B81C1/00539 ,  B81C1/00547 ,  B81C1/00714 ,  B81C1/00992 ,  B81C2201/0115 ,  C09K13/00 ,  C09K13/08 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/10 ,  C23C14/12 ,  C23C16/0254 ,  C23C16/45525 ,  C25F3/02 ,  C25F3/12 ,  G04D3/0069

Abstract: L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère à partir d'un substrat à base de silicium (1), comprenant, dans l'ordre, les étapes de :
a) former des pores (2) à la surface d'au moins une partie d'une surface dudit substrat à base de silicium (1) d'une profondeur déterminée,
b) remplir entièrement lesdits pores (2) d'un matériau choisi parmi le diamant, le carbone-diamant (DLC), l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, des céramiques, des polymères et leurs mélanges, afin de former dans les pores (2) une couche dudit matériau d'une épaisseur au moins égale à la profondeur des pores (2).
L'invention concerne également une pièce micromécanique horlogère comprenant un substrat à base de silicium (1) qui présente, à la surface d'au moins une partie d'une de ses surfaces, des pores (2) d'une profondeur déterminée, lesdits pores (2) étant entièrement remplis d'une couche d'un matériau choisi parmi le diamant, le carbone-diamant (DLC), l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, des céramiques, des polymères et leurs mélanges, d'une épaisseur au moins égale à la profondeur des pores (2).

Abstract translation: 一种用于制造从硅基基底开始的微机械钟表部件的方法，包括在所确定的深度的所述硅基底板的至少一部分表面的表面上形成孔，用选定的材料完全填充孔 来自金刚石，类金刚石碳，氧化硅，氮化硅，陶瓷，聚合物及其混合物，以在孔中形成至少等于孔深度的厚度的材料层。 一种微机械钟表部件，其包括硅基基板，所述硅基基板在所述硅基基板的表面的至少一部分的表面上具有确定深度的孔，所述孔被完全填充有选自以下的材料层： 金刚石，类金刚石碳，氧化硅，氮化硅，陶瓷，聚合物及其混合物，其厚度至少等于孔的深度。

公开(公告)号：EP2767870A3

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：EP14151480.2

申请日：2014-01-16

Applicant: Nivarox-FAR S.A.

Inventor： Fussinger, Alexandre ,  Stranczl, Marc

IPC: G03F7/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: H03H3/0072 ,  B81B2201/035 ,  B81C99/008 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0002 ,  G04B15/14 ,  Y10T29/49002

Abstract: L'invention se rapporte à un procédé (1) de fabrication d'une pièce de micromécanique (31, 41, 61, 91) monobloc comportant au moins deux niveaux fonctionnels distincts. Selon l'invention, le procédé (1) comporte un processus LIGA à un seul niveau combiné avec un usinage du dépôt LIGA directement sur le substrat (2).
L'invention concerne le domaine des pièces de micromécanique horlogères.

公开(公告)号：EP2456714B1

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：EP10751817.7

申请日：2010-07-20

Applicant: Montres Breguet SA

Inventor： KARAPATIS, Nakis

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00682 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/00674 ,  B81C2201/0178 ,  Y10T29/49986

公开(公告)号：EP2734897A1

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：EP12737539.2

申请日：2012-07-17

Applicant: The Swatch Group Research and Development Ltd.

Inventor： RICHARD, David ,  BOURBAN, Stewes

IPC: G04B1/14 ,  G04B15/14 ,  G04B31/004 ,  G04B13/02

CPC classification number: G04B13/02 ,  B81B2201/035 ,  B81C99/0095 ,  C10M2201/041 ,  C23C16/26 ,  C23C16/27 ,  G04B1/14 ,  G04B1/145 ,  G04B13/022 ,  G04B15/14 ,  G04B31/004 ,  G04B31/08

Abstract: The invention concerns a micromechanical functional assembly (100) comprising at least a first part (10), having a first layer defining a first contact surface intended to come into frictional contact with a second contact surface defined by a second layer, said second layer belonging either to said first part (10) or to at least a second micromechanical part (20) constituting, with said first part(10), said assembly (100), characterised in that the first and second layers each comprise carbon in an amount of at least 50% carbon atoms and in that the orientations of the surface crystal planes of their first and second contact surfaces differ from one another.

公开(公告)号：EP2543625B1

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：EP12174856.0

申请日：2012-07-03

Applicant: CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement

Inventor： Cardot, Francis ,  Jeanneret, Sylvain

IPC: B81C99/00 ,  G04B17/06

CPC classification number: B81C99/0095 ,  B81B2201/035 ,  B81C99/0085 ,  G04B17/063

公开(公告)号：EP2580071A1

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：EP11770679.6

申请日：2011-05-27

Applicant: BPE e. K.

Inventor： HORNIG, Wolfgang

IPC: B44B5/00 ,  B29C59/02

CPC classification number: B29C59/022 ,  B29C59/007 ,  B29C2059/023 ,  B44B5/0052 ,  B81B2201/035 ,  B81C99/0085 ,  B81C2201/038

Abstract: The invention relates to a method for producing bodies having surface structures in the micrometer or nanometer range, wherein the stamping section of a stamping tool is pressed several times against various locations of the surface of a body by means of a hardness testing device, whereby recesses are stamped at the pressing locations, and wherein a stamping tool having an elongated stamping section is used and corresponding channels or line-like structure are produced in the body.