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    於動態模式原子力顯微鏡之成像期間確定交互作用力
    201.
    发明专利
    於動態模式原子力顯微鏡之成像期間確定交互作用力 审中-公开
    于动态模式原子力显微镜之成像期间确定交互作用力

    公开(公告)号：TW201716781A

    公开(公告)日：2017-05-16

    申请号：TW105124288

    申请日：2016-08-01

    Applicant: 荷蘭TNO自然科學組織公司 ,  NEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO

    Inventor： 賽德克海 馬納尼 哈米德 ,  SADEGHIAN MARNANI, HAMED ,  塔梅爾 梅麥特 瑟曼 ,  TAMER, MEHMET SELMAN

    IPC: G01Q40/00 ,  G01Q60/34

    CPC classification number: G01Q40/00 ,  G01Q60/34

    Abstract: 一種用於動態模式原子力顯微鏡(AFM)中校正作用力(F12)之方法以及系統。一原子力顯微鏡尖端(11)係設置於一第一懸臂(12)上。致動第一懸臂(12)以於動態模式下振盪原子力顯微鏡尖端(11)。一第一感測器(16)用以測量振盪的原子力顯微鏡尖端(11)之一第一參數(A1)。一第二感測器(26)用以測量一彈性元件(22)之一第二參數(A2)。當測量原子力顯微鏡尖端(11)之第一參數(A1)以及彈性元件(22)之第二參數(A2)時，將原子力顯微鏡尖端(11)移動接近彈性元件(22)。根據彈性元件(22)之測量到的第二參數(A2)以及一校正過的作用力常數(K2)計算振動的原子力顯微鏡端部(11)以及彈性元件(22)之間之作用力(F12)。

    Abstract in simplified Chinese: 一种用于动态模式原子力显微镜(AFM)中校正作用力(F12)之方法以及系统。一原子力显微镜尖端(11)系设置于一第一悬臂(12)上。致动第一悬臂(12)以于动态模式下振荡原子力显微镜尖端(11)。一第一传感器(16)用以测量振荡的原子力显微镜尖端(11)之一第一参数(A1)。一第二传感器(26)用以测量一弹性组件(22)之一第二参数(A2)。当测量原子力显微镜尖端(11)之第一参数(A1)以及弹性组件(22)之第二参数(A2)时，将原子力显微镜尖端(11)移动接近弹性组件(22)。根据弹性组件(22)之测量到的第二参数(A2)以及一校正过的作用力常数(K2)计算振动的原子力显微镜端部(11)以及弹性组件(22)之间之作用力(F12)。

    原子層沉積裝置及其方法
    207.
    发明专利
    原子層沉積裝置及其方法 审中-公开
    原子层沉积设备及其方法

    公开(公告)号：TW201602400A

    公开(公告)日：2016-01-16

    申请号：TW104124163

    申请日：2010-07-30

    Applicant: 荷蘭TNO自然科學組織公司 ,  NEDERLANDSE ORGANISATIE VOOR TOEGEPAST-NATUURWETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK TNO

    Inventor： 威梅爾安卓納斯喬漢尼司派吐思馬利亞 ,  VERMEER,ADRIANUS JOHANNES PETRUS MARIA ,  珍森蓋比皮 ,  JANSSEN,GABI P.

    IPC: C23C16/455 ,  C23C16/54

    CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  C23C16/56 ,  F16C29/025 ,  F16C32/0622

    Abstract: 一原子層沉積於扁平基板表面的裝置，包含有一注入頭，前述注入頭包含有一裝設有一前驅支撐部以及前驅排出部的沉積空間。前述前驅支撐部以及前述前驅排出部設置用來從前述前驅支撐部提供一經過前述沉積空間而達到前述排出管的前驅氣流。前述沉積空間使用上為前述注入頭以及前述基板表面所界定。前述裝置包含有一氣體軸承，其包含有一軸承氣體注射器，用來注射一軸承氣體於前述注入頭以及前述基板表面之間。而前述裝置具有一運輸系統提供前述基板以及前述注入頭沿著前述基板一平面的相對位移，以形成一運輸前述基板的運輸平面。前述裝置具有一支持部相對設置於前述注入頭，前述支持部提供一氣體軸承壓力排列以平衡前述注入頭氣體軸承於前述運輸平面，以便前述氣體軸承壓力排列以無須支撐的方式讓前述基板維持於前述注入頭以及前述支持部之間。

    Abstract in simplified Chinese: 一原子层沉积于扁平基板表面的设备，包含有一注入头，前述注入头包含有一装设有一前驱支撑部以及前驱排出部的沉积空间。前述前驱支撑部以及前述前驱排出部设置用来从前述前驱支撑部提供一经过前述沉积空间而达到前述排出管的前驱气流。前述沉积空间使用上为前述注入头以及前述基板表面所界定。前述设备包含有一气体轴承，其包含有一轴承气体注射器，用来注射一轴承气体于前述注入头以及前述基板表面之间。而前述设备具有一运输系统提供前述基板以及前述注入头沿着前述基板一平面的相对位移，以形成一运输前述基板的运输平面。前述设备具有一支持部相对设置于前述注入头，前述支持部提供一气体轴承压力排列以平衡前述注入头气体轴承于前述运输平面，以便前述气体轴承压力排列以无须支撑的方式让前述基板维持于前述注入头以及前述支持部之间。

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