탄화수소 열분해용 블레이드형 반응기
    212.
    发明授权
    탄화수소 열분해용 블레이드형 반응기 有权
    用于油气分解的叶片式反应器

    公开(公告)号:KR101594848B1

    公开(公告)日:2016-02-17

    申请号:KR1020117025148

    申请日:2009-07-07

    Abstract: 본발명의탄화수소의열분해용블레이드형반응기는축 방향유동블레이드캐스케이드를형성하는블레이드(3)가구비된로터, 상기블레이드의말단에인접하고있는고정환형형상의후프(fixed torus-shaped hoop, 10), 및이의정점단면에서링 형상을갖는통로가형성되도록후프및 로터주변부를둘러싸는하우징(5)을포함한다. 하나이상의파티션이통로내에설치되고, 각각의파티션바로다음에는유입포트(18)가위치하는반면, 각각의파티션바로앞에는유출포트(19)가위치한다. 노즐캐스케이드를형성하는노즐베인(20)은블레이드캐스케이드의상류에설치되고, 확산캐스케이드를형성하는확산베인(21)은블레이드캐스케이드의하류에설치된다. 확산캐스케이드로부터유출과노즐캐스케이드내로의유입사이에는베인이없는공간(22)이존재한다. 각각의파티션바로다음에배열된일군의노즐베인은격벽에의해잔류하는노즐베인으로부터분리제거될수 있어, 반응기시동을단순화하기위해일군의분리된노즐베인과상응하는유입포트(18)를연결시키는채널이형성된다. 노즐캐스케이드및 확산캐스케이드의기하학적파라미터는블레이드캐스케이드의길이전반에걸쳐블레이드캐스케이드의입구에서동일한압력을제공하고블레이드캐스케이드의길이전반에걸쳐블레이드캐스케이드의출구에서동일한압력을제공하기위해원주방향에서변할수 있으며, 이는로터와하우징사이의공극을통한반경방향누수를감소시킨다.

    ダイヤモンド基塊状工具素材及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2021137715A

    公开(公告)日:2021-09-16

    申请号:JP2020036521

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 【課題】加圧処理と加熱処理とを別工程で実施することによって、ダイヤモンド基塊状工具素材の大型品の製作、大量処理を可能とする一方、高価な静的高圧・高温装置が不要になることによる製造コストの低減によって低価格のダイヤモンド基塊状工具素材の供給を可能にする、ダイヤモンド基塊状工具素材の製造方法の提供。 【解決手段】固結体は、以下の方法により達成される。即ち、(1)質量比にて全体の35乃至90%のダイヤモンド粒子と、残部が炭化物を形成し得る結合材形成金属の粉末との混合粉末からなる出発材料を、爆縮加工容器15に封入し、(2)上記容器を衝撃超高圧に供して出発材料全体を理論密度の90%以上の密度とし、(3)次いで加熱温度に保持して熱処理することにより、ダイヤモンド粒子表面と、衝撃加圧によって新たに生じた粒子表面とを、熱処理においてその場で生成した金属炭化物を介して結合一体化する。 【選択図】図1

    化学物質のプロセシング
    219.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018126730A

    公开(公告)日:2018-08-16

    申请号:JP2018009343

    申请日:2018-01-24

    CPC classification number: C07B61/00 B01J19/08 B01J19/085 C08J3/28

    Abstract: 【課題】化学物質のプロセシングを提供する。 【解決手段】化学物質の構造を変化させ、特に、構造的に変化された材料から製造された中間体および生成物に対し、それらの溶解度および/または溶解速度を増加させる。 【効果】処理された化学物質を使用して、高濃度溶液を形成させることができる。化学物質の官能性、化学物質の極性を変化させることができ、これにより、処理された化学物質は、処理されていない化学物質が不溶である、またはわずかにもしくは部分的にしか溶解しない溶媒中に可溶となり得る。場合によっては水または水性媒質中での化学物質の溶解度を増加させる。化学物質は、例えば、固体、液体、またはゲル、またはそれらの混合物とすることができる。 【選択図】図1

    材料製造装置、および、材料製造方法

    公开(公告)号:JP2018001068A

    公开(公告)日:2018-01-11

    申请号:JP2016128355

    申请日:2016-06-29

    Abstract: 【課題】短時間かつ低コストで材料を製造する。 【解決手段】材料製造装置100は、ナノ構造の可飽和吸収体を含んで構成される犠牲層150が積層された被処理層140に、ピコ秒以下のパルス幅のレーザ光を照射するパルスレーザ照射部110を備える。なお、被処理層140における犠牲層150と反対側の面には基体130が積層されてもよい。材料製造装置100によれば、簡易な処理で被処理層140に超高圧を印加することができる。 【選択図】図1

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