公开(公告)号：CN104053630A

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201380005518.8

申请日：2013-01-24

Applicant: M技术株式会社

Inventor： 仓木淳 ,  榎村真一

IPC: C01F17/00 ,  B01F3/08 ,  B01F5/06 ,  B01J19/00

CPC classification number: C01F17/0043 ,  B01F7/00775 ,  B01F15/0203 ,  B01J19/1887 ,  B01J2219/00085 ,  B01J2219/00177 ,  C01F17/0025 ,  C01P2002/72 ,  C01P2002/85 ,  C01P2004/04 ,  C01P2004/51 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64

Abstract: 本发明的课题在于，提供一种石榴石结构的微粒前体(石榴石前体微粒)及石榴石结构的微粒的制造方法。在对向配设了的、可以接近·分离的至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面之间形成的薄膜流体中混合至少2种元素的离子和碱性物质，使含有上述至少2种元素的微粒析出。此时，上述微粒为石榴石前体微粒，通过控制混合后的薄膜流体的pH，控制石榴石前体微粒中的上述至少2种元素各自的摩尔比。通过对石榴石前体微粒进行热处理而得到石榴石结构的微粒。钇铝石榴石(YAG)为石榴石结构晶体之一，通过控制混合后的薄膜流体的pH，控制YAG前体微粒中的至少钇和铝的摩尔比。

公开(公告)号：CN101796143B

公开(公告)日：2014-06-18

申请号：CN200880104198.0

申请日：2008-07-04

Applicant: M技术株式会社

Inventor： 榎村真一

IPC: C09B67/02 ,  C09B67/20 ,  B01F7/26 ,  B01J19/00 ,  C09D11/322

CPC classification number: C09B67/0017 ,  B01F7/00758 ,  B01F7/00791 ,  B01J19/10 ,  B01J19/123 ,  B01J19/1887 ,  B01J2219/00094 ,  B01J2219/00137 ,  B01J2219/00141 ,  B82Y30/00 ,  C09B67/0005 ,  C09B67/0022 ,  C09B67/0091 ,  C09D11/322

Abstract: 使用强制超薄膜旋转式反应法，通过在可接近和分离的相对地旋转的2个处理用面间维持1mm以下的微小间隔，将维持为该微小间隔的2个处理用面间作为被处理流体的流路，形成被处理流体的强制薄膜，在该强制薄膜中进行颜料物质的析出。

公开(公告)号：CN103561856A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201280026005.0

申请日：2012-03-15

Applicant: M技术株式会社

Inventor： 荒木加永子 ,  前川昌辉 ,  本田大介 ,  榎村真一

IPC: B01J19/00 ,  B01F3/08 ,  B01J13/00

CPC classification number: B29C33/60 ,  B01F7/00775 ,  B01F7/00791 ,  B01J19/1887 ,  C07D471/04

Abstract: 本发明提供一种防止附着物附着的方法，为流体处理方法，在对向配设的、可接近·分离的、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面间产生的薄膜流体中将被处理流动体混合，得到处理物，防止处理物向构成被处理流动体的流路的上述处理用面的附着。使用包含至少1种原料物质的原料流体和用于处理上述原料物质的流体的、至少两种被处理流动体，在对向配设的、可接近·分离的、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少2个处理用面(1、2)间产生的薄膜流体中混合上述被处理流动体，得到处理的原料物质。此时，通过从处理用面(1、2)的中央导入上述原料流体，防止在处理用面(1、2)间处理的原料物质附着于处理用面(1、2)。

公开(公告)号：CN103282145A

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN201180063854.9

申请日：2011-03-14

Applicant: M技术株式会社

Inventor： 榎村真一

IPC: B22F9/24

CPC classification number: B22F9/24 ,  B22F2301/15 ,  B22F2301/255 ,  B22F2301/30

Abstract: 本发明提供粒径得到了控制的金属微粒的制造方法。使用至少两种被处理流动体，其中至少一种被处理流动体为将金属和/或金属化合物在溶剂中溶解了的金属溶液，上述以外的被处理流动体中至少一种被处理流动体为含有还原剂的还原剂流体，在对向配设、可以接近·分离的、至少一方相对于另一方相对进行旋转的至少两个处理用面1、2之间形成的薄膜流体中将上述被处理流动体混合，使粒径得到了控制的金属微粒析出。此时，通过使与导入处理用面1、2之间的金属溶液和还原剂流体的至少任一方相关的特定的条件变化，控制金属微粒的粒径。上述的特定的条件为从由金属溶液和/或还原剂流体的导入速度以及金属溶液和/或还原剂流体的pH组成的组中选择的至少一种。

公开(公告)号：CN102325844A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN200980157195.8

申请日：2009-11-10

Applicant: M技术株式会社

Inventor： 榎村真一

IPC: C09B67/02 ,  C09B67/46

CPC classification number: C09B67/0091 ,  B01F7/00791 ,  C09B67/0019 ,  C09B67/0022 ,  C09B67/0096 ,  C09B68/4253

Abstract: 本发明以小的能量有效地不伴有成本增加地进行颜料微粒的表面处理。本发明为一种颜料微粒的表面处理方法，其特征在于，在可接近·分离地相对进行旋转的2个处理用面间维持1mm以下的微小间隔，将维持为该微小间隔的2个处理用面间作为被处理流动体的流路，由此形成被处理流动体的薄膜流体(强制薄膜)，在该薄膜流体(强制薄膜)中生成颜料微粒，在上述薄膜流体(强制薄膜)中将上述生成的颜料微粒进行表面修饰。

公开(公告)号：CN101784484A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200880104185.3

申请日：2008-07-04

Applicant: M技术株式会社

Inventor： 榎村真一

IPC: C01F7/02 ,  B01F3/08 ,  B01F5/06 ,  C01G23/00 ,  C01G23/053 ,  C01G25/02

CPC classification number: B01F7/0075 ,  B01F7/00791 ,  B01J19/1887 ,  B01J2219/00094 ,  B01J2219/00135 ,  B01J2219/00137 ,  B82Y30/00 ,  C01B13/32 ,  C01B13/36 ,  C01F7/34 ,  C01F7/36 ,  C01G9/02 ,  C01G23/006 ,  C01G23/047 ,  C01G23/053 ,  C01G25/02 ,  C01P2004/04 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/64 ,  Y10S977/84

Abstract: 提供一种陶瓷纳米粒子的制造方法，其特征在于，在可接近和分离的对向配置且至少一方相对于另一方旋转的处理用面间形成的薄膜流体中，加水分解陶瓷原料。