偏光の測定
    253.
    发明专利
    偏光の測定 审中-公开

    公开(公告)号:JP2017523438A

    公开(公告)日:2017-08-17

    申请号:JP2017520017

    申请日:2015-06-26

    CPC classification number: G01J4/04 G01J2004/004

    Abstract: 電磁照射光の偏光を測定するための方法および装置が開示されている。この方法は、対象物体から受光した照射光の偏光状態を変調して変調強度照射光を生成するステップと、第1のゲーティング周波数で変調強度照射光への撮像デバイスの暴露を定期的にゲーティングすることによって変調強度照射光の強度を選択的に測定するステップと、測定された強度に応答して、受光した照射光の偏光パラメータを決定するステップと、複数の偏光パラメータを有する対象物体に対応する画像データを生成するステップとを含み、対象物体からの照射光は、第1の周波数に従って変調され、第1のゲーティング周波数は、少なくとも第1の周波数に関連付けられ、それと同期する。

    エリプソメータ
    254.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2017116370A

    公开(公告)日:2017-06-29

    申请号:JP2015251127

    申请日:2015-12-24

    Inventor: UEHARA MAKOTO

    CPC classification number: G01J4/04 G02B5/04 G02B5/30 G02B17/08

    Abstract: 【課題】物体面からの反射光を結像させるための結像光学系に等倍反射型結像光学系が用いられているエリプソメータにおいて、エリプソメータの性能を改善することを目的とする。【解決手段】エリプソメータ100は、物体の表面からの反射光の光束を受光面に結像させるための結像光学系30を備えている。結像光学系30は、凹面主鏡32及び凸面副鏡34を含む等倍反射型結像光学系で構成されている。物体の表面からの反射光の光束は、凹面主鏡32、凸面副鏡34、凹面主鏡32の順番で反射した後、受光面40に結像する。等倍反射型結像光学系は、第1の検光子50及び第2の検光子52を含む。第1の検光子50及び第2の検光子52は、X軸方向及びY軸方向において同一の屈折率を有する偏光素子で構成されている。【選択図】図1

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