公开(公告)号：TW200921294A

公开(公告)日：2009-05-16

申请号：TW097136168

申请日：2008-09-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 包伯 史崔弗科 STREEFKERK, BOB ,  羅洛夫 費德瑞克 迪 葛瑞夫 DE GRAAF, ROELOF FREDERIK ,  瓊斯 卡莎琳納斯 修伯特斯 穆爾肯斯 MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS ,  麥塞爾 麥卡爾斯 BECKERS, MARCEL ,  保羅 佩托拉斯 强漢斯 柏克文斯 BERKVENS, PAUL PETRUS JOANNES ,  大衛 路希安 安斯托茲 ANSTOTZ, DAVID LUCIEN

IPC: G03F ,  G01L

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341

Abstract: 本發明揭示一種操作一浸潤微影裝置之一流體侷限系統的方法。可以若干不同方式來量測液體侷限系統之效能。基於效能量測之結果,產生一指示(例如)可能需要採取一補救行動之信號。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种操作一浸润微影设备之一流体局限系统的方法。可以若干不同方式来量测液体局限系统之性能。基于性能量测之结果,产生一指示(例如)可能需要采取一补救行动之信号。

公开(公告)号：TWI306995B

公开(公告)日：2009-03-01

申请号：TW094119310

申请日：2005-06-10

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 簡 傑彼 庫特 KUIT, JAN JAAP ,  彼托斯 魯特傑洛斯 巴特瑞 BARTRAY, PETRUS RUTGERUS ,  德克 簡 比傑佛特 BIJVOET, DIRK-JAN ,  簡 弗德烈克 胡格坎普 HOOGKAMP, JAN FREDERIK

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/7075

Abstract: 本發明提供一種具有一改良之轉移單元的微影裝置。該微影裝置包括一執行一涉及可交換之物件之微影製程的處理單元,其中該處理單元包括:一照明系統,其提供一輻射束;一支持結構,其經配置以支持一將一所要圖案賦予該輻射束之圖案化元件;一基板固持器,其經配置以固持一基板;及一投影系統,其經配置以將該圖案化之光束投射在該基板之一目標區上。該微影裝置亦包括一包含一單個機械手之轉移單元。該單個機械手係經配置以將一第一可交換之物件自一裝載站轉移至該處理單元且將一第二可交換之物件自該處理單元轉移至一卸料站。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种具有一改良之转移单元的微影设备。该微影设备包括一运行一涉及可交换之对象之微影制程的处理单元,其中该处理单元包括:一照明系统,其提供一辐射束;一支持结构,其经配置以支持一将一所要图案赋予该辐射束之图案化组件;一基板固持器,其经配置以固持一基板;及一投影系统,其经配置以将该图案化之光束投射在该基板之一目标区上。该微影设备亦包括一包含一单个机械手之转移单元。该单个机械手系经配置以将一第一可交换之对象自一装载站转移至该处理单元且将一第二可交换之对象自该处理单元转移至一卸料站。

公开(公告)号：TWI306993B

公开(公告)日：2009-03-01

申请号：TW093110722

申请日：2004-04-16

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 史帝芬 喬治 韓森 HANSEN, STEVEN GEORGE ,  道格拉斯 喬瑟夫 范 德 波肯 VAN DEN BROEKE, DOUGLAS JOSPEH

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/701 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70466

Abstract: 一種反轉一將被列印在一形成在一基板上之輻射敏感材料層中之影像之色調的方法,該方法包括定義一微影性問題;設計一圖案形成器件;決定一可以列印微影特徵之一陽性色調之第一照明配置及一輻射敏感材料程序;及決定一可以藉由該輻射敏感材料程序來列印該微影特徵之一陰性色調之第二照明配置。

Abstract in simplified Chinese: 一种反转一将被打印在一形成在一基板上之辐射敏感材料层中之影像之色调的方法,该方法包括定义一微影性问题;设计一图案形成器件;决定一可以打印微影特征之一阳性色调之第一照明配置及一辐射敏感材料进程;及决定一可以借由该辐射敏感材料进程来打印该微影特征之一阴性色调之第二照明配置。

公开(公告)号：TW200910017A

公开(公告)日：2009-03-01

申请号：TW097121940

申请日：2008-06-12

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 保洛 馬丁司 馬利亞 利伯葛汀 LIEBREGTS, PAULUS MARTINUS MARIA ,  曼諾 菲恩 FIEN, MENNO ,  艾瑞克 羅勒夫 洛卜史塔 LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  羅納德 凡 德 翰 VAN DER HAM, RONALD ,  威爾海莫斯 法蘭西斯可思 喬翰尼斯 西蒙斯 SIMONS, WILHELMUS FRANCISCUS JOHANNES ,  丹尼爾 約瑟夫 馬利亞 迪瑞克 DIRECKS, DANIEL JOZEF MARIA ,  法蘭西瑟斯 喬漢那斯 約瑟夫 簡森 JANSSEN, FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH ,  格特 珍 格爾達斯 喬漢那斯 湯瑪斯 布拉德 BRANDS, GERT-JAN GERARDUS JOHANNES THOMAS ,  柯恩 史帝芬 STEFFENS, KOEN

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983

Abstract: 本發明揭示一種微影裝置,其具有在該裝置之至少一部件上攜載一塗層之一可移除式黏著薄膜。在一實施例中,揭示一種具有一沿一投影系統與一基板支撐件之間的一空間之一邊界之至少部分延伸之液體限制結構的液體供應系統,其中攜載該塗層之該薄膜係在該液體限制結構之至少部分上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影设备,其具有在该设备之至少一部件上携载一涂层之一可移除式黏着薄膜。在一实施例中,揭示一种具有一沿一投影系统与一基板支撑件之间的一空间之一边界之至少部分延伸之液体限制结构的液体供应系统,其中携载该涂层之该薄膜系在该液体限制结构之至少部分上。

公开(公告)号：TW200905405A

公开(公告)日：2009-02-01

申请号：TW097107707

申请日：2008-03-05

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V. ,  卡爾塞斯(SMT)半導體製造科技公司 CARL ZEISS SMT AG

Inventor： 麥可 法索依斯 哈博特 卡拉森 KLAASSEN, MICHEL FRANSOIS HUBERT ,  亨得瑞克 羅伯特 馬連 凡 葛瑞柏克 VAN GREEVENBROEK, HENDRIKUS ROBERTUS MARIE ,  伯納德 彼得 傑 GEH, BERND PETER ,  艾密爾 彼得 舒密特 韋佛 SCHMITT-WEAVER, EMIL PETER

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/701 ,  G03F7/70566

Abstract: 本發明揭示一種用於一微影裝置之照明器,該照明器包括一照明模式界定元件及複數個偏振修改器,該等偏振修改器可移入或移出與一輻射光束的部分相交,該幅射光束具有一如由一照明模式界定元件所操控之角及空間分布。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于一微影设备之照明器,该照明器包括一照明模式界定组件及复数个偏振修改器,该等偏振修改器可移入或移出与一辐射光束的部分相交,该幅射光束具有一如由一照明模式界定组件所操控之角及空间分布。

公开(公告)号：TWI304521B

公开(公告)日：2008-12-21

申请号：TW093109514

申请日：2004-04-06

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 馬克斯 法蘭希斯 安東尼斯 尤隱 EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS ,  喬賽夫 馬李 法德 FINDERS, JOZEF MARIA

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/701 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70466

Abstract: 利用兩次曝光中不同的照明設定値對於雙重曝光中複數個隔離的暗特徵圖形(例如接觸孔或直線)進行曝光。

Abstract in simplified Chinese: 利用两次曝光中不同的照明设置値对于双重曝光中复数个隔离的暗特征图形(例如接触孔或直线)进行曝光。

公开(公告)号：TW200848949A

公开(公告)日：2008-12-16

申请号：TW097108387

申请日：2008-03-10

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 亞諾德 柯尼利 瓦新可 WASSINK, ARNOUD CORNELIS

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70883

Abstract: 本發明係關於一種污染預防系統71,該污染預防系統71包含一可旋轉通道障壁72,其係藉由一適當軸承來驅動。根據本發明之該污染預防系統71經配置有一大體上提供於該軸承73之一鄰近區域中的冷卻系統75。該冷卻系統75可包含導管75a,經由該等導管75a而提供一適當流體冷卻劑,特別為氣體。有可能經由一提供於該污染預防系統之一機械軸中的中心通道79a來供應該氣體。此外,可提供一經配置有適當導管76a之補充冷卻系統76。因為此冷卻系統76配置於該污染預防系統71之周邊上,所以其可使用水作為一適當冷卻劑。本發明進一步係關於一種微影投影設備、一種輻射源及一種製造一整合結構之方法。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种污染预防系统71,该污染预防系统71包含一可旋转信道障壁72,其系借由一适当轴承来驱动。根据本发明之该污染预防系统71经配置有一大体上提供于该轴承73之一邻近区域中的冷却系统75。该冷却系统75可包含导管75a,经由该等导管75a而提供一适当流体冷却剂,特别为气体。有可能经由一提供于该污染预防系统之一机械轴中的中心信道79a来供应该气体。此外,可提供一经配置有适当导管76a之补充冷却系统76。因为此冷却系统76配置于该污染预防系统71之周边上,所以其可使用水作为一适当冷却剂。本发明进一步系关于一种微影投影设备、一种辐射源及一种制造一集成结构之方法。

公开(公告)号：TWI303357B

公开(公告)日：2008-11-21

申请号：TW094133421

申请日：2005-09-26

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 克莉絲汀 華格那 WAGNER, CHRISTIAN

IPC: G03F ,  H01L

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70341

Abstract: 本發明係關於一種浸潤式微影裝置之投影系統的最終元件,該元件經配置以用於折射率大於該最終元件之折射率的液體。在一實施例中,該最終元件包含一凸起之彎月形透鏡。該種最終元件使該微影裝置之有效數値孔徑能夠增大,且減少所投射之光束穿過該最終元件到達該液體時的全內反射。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种浸润式微影设备之投影系统的最终组件,该组件经配置以用于折射率大于该最终组件之折射率的液体。在一实施例中,该最终组件包含一凸起之弯月形透镜。该种最终组件使该微影设备之有效数値孔径能够增大,且减少所投射之光束穿过该最终组件到达该液体时的全内反射。

公开(公告)号：TWI303355B

公开(公告)日：2008-11-21

申请号：TW093140280

申请日：2004-12-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 菊斯特 捷恩 歐鄧 OTTENS, JOOST JEROEN ,  諾德 詹 吉列森 GILISSEN, NOUD JAN ,  捷恩 派特 斯特微德 STARREVELD, JEROEN PIETER ,  亨利卡斯 賀門 瑪里 克克司 COX, HENRIKUS HERMAN MARIE ,  派崔克 喬漢斯 康尼爾 漢德 斯目德 SMULDERS, PATRICK JOHANNES CORNELUS HENDRIK ,  孔恩 賈庫博 喬漢斯 馬利亞 薩爾 ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA ,  彼得 斯密特 SMITS, PETER

IPC: G03F

CPC classification number: G03F7/70783

Abstract: 一種微影裝置,其包括一用於提供一輻射光束之照明系
統及一用於支撐一圖案化元件之支撐結構。該圖案化元件
用於賦予該光束在其截面以一圖案。該微影裝置包括一用
於固持一基板之基板台及一用於投影圖案化光束至該基板
之一目標部分之投影系統。該裝置具有一用於支撐一物體
(諸如該微影裝置中之該基板或該圖案化元件)之夾盤系
統。該夾盤系統包括一用於支撐該物體之夾盤、一用於支
撐該夾盤之框架及一用於相對該框架支撐該夾盤之夾盤支
撐結構。該夾盤支撐結構包括至少一撓曲組件,其中撓曲
組件在至少一自由度內具有可撓性,且其耦接至該夾盤及
該框架。

Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备,其包括一用于提供一辐射光束之照明系 统及一用于支撑一图案化组件之支撑结构。该图案化组件 用于赋予该光束在其截面以一图案。该微影设备包括一用 于固持一基板之基板台及一用于投影图案化光束至该基板 之一目标部分之投影系统。该设备具有一用于支撑一物体 (诸如该微影设备中之该基板或该图案化组件)之夹盘系 统。该夹盘系统包括一用于支撑该物体之夹盘、一用于支 撑该夹盘之框架及一用于相对该框架支撑该夹盘之夹盘支 撑结构。该夹盘支撑结构包括至少一挠曲组件,其中挠曲 组件在至少一自由度内具有可挠性,且其耦接至该夹盘及 该框架。

公开(公告)号：TW200844679A

公开(公告)日：2008-11-16

申请号：TW097104092

申请日：2008-02-01

Applicant: ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 法狄米爾 米哈囉維茲 可瑞森 KRIVTSUN, VLADIMIR MIHAILOVITCH ,  凡丁 葉弗真葉米希 白尼 BANINE, VADIM YEVGENYEVICH ,  法拉帝莫 維塔拉維屈 依法諾 IVANOV, VLADIMIR VITALEVICH ,  艾吉尼 迪米力菲奇 可羅波 KOROP, EVGENY DMITRIEVICH ,  康士坦汀 尼可拉威屈 卡士李 KOSHELEV, KONSTANTIN NIKOLAEVICH ,  悠里 維克特羅齊 賽德尼克夫 SIDELNIKOV, YURII VICTOROVITCH ,  歐雷格 葉克雪夫 YAKUSHEV, OLEG

IPC: G03F ,  G21K ,  H01L

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70983

Abstract: 本發明揭示一種用於形成一電磁輻射波束之裝置,其包括一電漿輻射源,及一具備大體上平行於自該電漿源之輻射之方向延伸之複數個薄箔的箔捕集器。一柵格安置於該電漿輻射源與該箔捕集器之間。一空間位於該柵格與該箔捕集器之間。該裝置亦包括一電位施加電路,該電位施加電路經建構及經配置以將一電位施加至該柵格,使得該柵格排斥由該電漿輻射源所發射之電子且在該柵格與該箔捕集器之間形成一正空間電荷,以將由該電漿輻射源所發射的離子偏轉至該箔捕集器。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于形成一电磁辐射波束之设备,其包括一等离子辐射源,及一具备大体上平行于自该等离子源之辐射之方向延伸之复数个薄箔的箔捕集器。一栅格安置于该等离子辐射源与该箔捕集器之间。一空间位于该栅格与该箔捕集器之间。该设备亦包括一电位施加电路,该电位施加电路经建构及经配置以将一电位施加至该栅格,使得该栅格排斥由该等离子辐射源所发射之电子且在该栅格与该箔捕集器之间形成一正空间电荷,以将由该等离子辐射源所发射的离子偏转至该箔捕集器。