公开(公告)号：JP2010517003A

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：JP2009545942

申请日：2008-01-18

Applicant: オリバ ジョビン イボン エス. アー. エス.

Inventor： パスカル アマリー ,  ドニ カトラン ,  ランダヌ ベンフェルア

IPC: G01N21/21 ,  G01J4/04

CPC classification number: G01N21/211 ,  G01J3/2823 ,  G01J4/04 ,  G01N2021/213

Abstract: 【課題】 標本面上の入射光ビームのスポット、及び標本の一部又は標本面全体を視覚化することを可能にする非常にさまざまの標本を分析するシステムを提供すること。
【解決手段】 本発明は励起部（１）と解析部（７）を備える標本（６）を分析するシステム及びプロセスに関し、前記励起部（１）は入射測定光ビーム（３）を発する光源（２）、偏光状態発生器（ＰＳＧ）（４）、第１の光学手段（５）を含み、前記解析部（７）は偏光状態解析器（ＰＳＡ）（８）、検出系（１０）及び第２の光学手段（９）を備える。 発明によれば、前記励起部（１）は入射視覚化光ビーム（２２）を発する照明光源（１２）、前記入射測定光ビーム（３）の光軸と同一の光軸に沿って前記標本面（２１）の方向に前記入射視覚化光ビーム（２２）を送ることを可能にし、前記解析部（７）は、前記反射又は透過された視覚化光ビームの一部（２３）と前記反射又は透過された測定光ビームの一部を視覚化方向（２５）に向かって伝達することを可能にする分割光学手段（１４）を備える。
【選択図】 図３

公开(公告)号：JP4416638B2

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：JP2004369364

申请日：2004-12-21

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： ウィッテルディユク タムモ ,  ジョージ フラジェロ ドニス ,  フランソワ ヒュベルト クラーセン ミヘル ,  トレイガー レオニード ,  マルセル ファン ディユク レムコ

IPC: G01M11/00 ,  H01L21/027 ,  G01J1/00 ,  G01J4/04 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70566 ,  G01J4/04 ,  G03F1/44 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70133 ,  G03F7/70591

公开(公告)号：JP4224644B2

公开(公告)日：2009-02-18

申请号：JP2005221819

申请日：2005-07-29

Applicant: オムロン株式会社 ,  北海道ティー・エル・オー株式会社

Inventor： 和彦 岡 ,  浩史 岡部 ,  敦史 谷口

IPC: G01J4/04 ,  G01J3/447 ,  G01N21/21 ,  G01N21/27

CPC classification number: G01J4/04

公开(公告)号：JP2009033045A

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：JP2007197849

申请日：2007-07-30

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： SHINODA KENICHIRO

IPC: H01L21/027 ,  G02B5/30 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70566 ,  G01J4/04 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/7085

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adjustment method for measuring the polarization state under actual exposure conditions and adjusting the polarization state. SOLUTION: The adjustment method for adjusting the illumination state in illuminating an original plate by using an illumination optical system and projecting an image of a pattern formed on the original plate onto a substrate via an projection optical system has a measurement step of measuring the polarization state of a light which has passed through the illumination optical system, the original plate and the projection optical system, in a state where the original plate is disposed on the object plane of the projection optical system; and an adjustment step of adjusting the polarization state of the light, on the basis of the result of measurement in the measurement step. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于在实际曝光条件下测量极化状态并调整偏振态的调节方法。 解决方案：通过使用照明光学系统来调节照射原版的照明状态的调整方法，并且通过投影光学系统将形成在原版上的图案的图像投影到基板上，具有测量步骤 在原版被设置在投影光学系统的物平面上的状态下，已经通过照明光学系统的光的偏振状态，原版和投影光学系统; 以及基于测量步骤中的测量结果来调节光的偏振状态的调整步骤。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4205704B2

公开(公告)日：2009-01-07

申请号：JP2005224600

申请日：2005-08-02

Applicant: オムロン株式会社 ,  国立大学法人 北海道大学

Inventor： 和彦 岡 ,  浩史 岡部 ,  智洋 水野 ,  敦史 谷口

IPC: G01J4/04 ,  G01N21/21

CPC classification number: G02B27/281 ,  G01J4/04

公开(公告)号：JP2006279017A

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：JP2005355220

申请日：2005-12-08

Applicant: Canon Inc ,  キヤノン株式会社

Inventor： YAMAZOE KENJI ,  TAKEUCHI SEIJI ,  SUZUKI AKIYOSHI

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G01J4/04 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70591

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measurement apparatus capable of precisely measuring the polarization of a light of an ultraviolet region with a simple structure, and an exposure apparatus having the measurement apparatus. SOLUTION: The exposure apparatus, which optically projects a pattern on a reticle onto an object to be processed using an ultraviolet light from a light source, includes an illumination optical system for illuminating the reticle using the ultraviolet light from the light source, an optical unit for providing at least three mutually different phase differences to the ultraviolet light, a polarizer that can have different transmission coefficients in accordance with the polarization status of the ultraviolet light that has passed the optical unit, an image pickup device for detecting the intensity of the ultraviolet light that has passed the polarizer, and a polarization measurement means for measuring the polarization status of the ultraviolet light that has passed at least a part of the illumination optical system based on the detection result of the image pickup device. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够以简单的结构精确地测量紫外线区域的光的偏振的测量装置和具有该测量装置的曝光装置。 解决方案：使用来自光源的紫外光将掩模版上的图案光学投射到待处理物体上的曝光装置包括：照明光学系统，用于使用来自光源的紫外光照亮标线片; 用于向紫外线提供至少三个相互不同的相位差的光学单元，根据已经通过光学单元的紫外线的偏振状态可以具有不同透射系数的偏振器，用于检测强度的图像拾取装置 通过偏振片的紫外光的偏振光测定装置，以及基于图像拾取装置的检测结果，测量已经通过照明光学系统的至少一部分的紫外光的偏振状态的偏振测定装置。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2006243311A

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：JP2005058434

申请日：2005-03-03

Applicant: Fuji Photo Film Co Ltd ,  富士写真フイルム株式会社

Inventor： SAITO YUKITO

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G01N21/21 ,  G01J4/04

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of exactly analyzing optical characteristics of an optical medium having characteristics to convert polarized light.
SOLUTION: Light having polarization states different from each other are made incident from a direction inclined by a polar angle θ (0°

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够精确地分析具有转换偏振光的特性的光学介质的光学特性的方法。 解决方案：具有彼此不同的偏振状态的光从在具有入射平面的光学介质上的入射面入射到从极角θ（0°<θ<90°）倾斜的方向入射，并且 从光出射表面获得从每个入射光对应的出射表面发射的出射光的偏振状态。 确定入射光入射光的偏振矢量和出射光的偏振矢量满足式（1）的琼斯矩阵M。 在公式中，Es和Ep，Es'和Ep'是s偏振光和p偏振光的偏振矢量，Q，Q'是表示偏振态变化的动力学矩阵。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2005283585A

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：JP2005093388

申请日：2005-03-29

Applicant: Lucent Technol Inc ,  ルーセント テクノロジーズ インコーポレーテッド

Inventor： CHRISTOPHER A FUCHS ,  MICHAEL VASILYEV ,  YURKE BERNARD

IPC: G01B9/02 ,  G01J4/00 ,  G01J4/04 ,  G02B5/30 ,  G02B27/00 ,  G02B27/10 ,  G02B27/28

CPC classification number: G01J4/04 ,  G02B5/3066 ,  G02B27/28

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a passive optical system nearly simultaneously separating reception light in light input into three or more output light beams in light output.
SOLUTION: The light output beam can have intensity proportional to the intensity of light projection of the reception light onto three or more base vectors of a tetrahedron base set of Stokes space. The system includes a plurality of partial polarizing splitters or a plurality of optical interferometers.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供无源光学系统，将光输入中的接收光几乎同时分成三个或更多个光输出光束。 解决方案：光输出光束可以具有与接收光的光投射强度成比例的强度与Stokes空间的四面体基底集合的三个或更多个基矢量。 该系统包括多个部分偏振分离器或多个光学干涉仪。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2004530892A

公开(公告)日：2004-10-07

申请号：JP2003505578

申请日：2002-06-17

Applicant: ハインズ インスツルメンツ インコーポレイテッド

Inventor： セオドア シー オークバーグ、 ,  バオリャン ワン、

IPC: G01J4/04 ,  G01M11/00 ,  G01N21/19 ,  G01N21/23 ,  G01N21/33 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G01J4/04 ,  G01N21/19 ,  G01N21/23 ,  G01N21/33 ,  G03F7/70966

Abstract: 【課題】光学素子、特に、深紫外（ＤＵＶ）波長に用いられるような光学素子の複屈折特性を正確に測定するための装置および方法を提供すること。
【解決手段】装置は、試料（１３６）の両側に配置された２つの光弾性変調器（ＰＥＭ）（１２６、１２８）を含む。 各ＰＥＭは、試料を通過する光ビームの極性を変調するように作動可能である。 装置は、また、一方のＰＥＭに関係づけられた偏光子（１２４）と、他方のＰＥＭに関係づけられた分析器（１３０）と、２つのＰＥＭ、偏光子および分析器を通過した後の光の強度を測定するための検知器（１３２）とを含む。 広範囲にわたって複屈折特性を測定するための技術が得られる。 例えば、二重波長光源の実施例は、比較的高いレベルの複屈折を測定するために提供される。 また、試料として与えられた光学素子のために検知される複屈折の評価値または推定値に基づいて複屈折特性を決定するための多くの手法から、最も正確かつ効果的な手法を選択するための技術が提供される。
【選択図】図３

公开(公告)号：JP2004515760A

公开(公告)日：2004-05-27

申请号：JP2002548413

申请日：2001-10-12

Applicant: インフィネオン テクノロジース エスシー300 ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトInfineon Technolgies SC300 GmbH & Co.KG

Inventor： ウルフガング クーナー，

IPC: G01L1/00 ,  G01J4/04 ,  G01N21/00 ,  G01N21/23 ,  G01N21/47

CPC classification number: G01N21/23 ,  G01J4/04

Abstract: 本発明は、光軸の方向に、複屈折媒体によって伝達された直線偏光ビームの偏光解消量を検出する装置および方法に関する。 装置は、直線偏光ビームの光軸上の部分（２）を、直交成分（３、４）に分離する第１のビームスプリッタ（７）と、各成分（３、４）を検出する、２つの光検出器（８、９）と、直線偏光ビームの光軸上の部分（１１）を、直交成分（１５、１６）に分離する第２のビームスプリッタ（１２）であって、第２のビームスプリッタ（１２）は、入射直線偏光ビーム（１）の光軸から外れて配置される第２のビームスプリッタ（１２）と、第２のビームスプリッタ（１２）によって分離された成分（１５、１６）を検出する、光検出器の第２のセットと、第１のセットの光検出器（８、９）が受信したそれぞれの信号から、第２のセットの光検出器（１３、１４）が受信した信号を減算する、減算デバイス（１７）とを含む。
【選択図】図１