烷基胺组合物和该烷基胺组合物的保存方法

    公开(公告)号:CN115697964A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202180040150.3

    申请日:2021-06-23

    Abstract: 本公开的烷基胺组合物的特征在于,包含99.5体积%以上的下述通式(1)所示的烷基胺,且包含10质量ppm以上且100质量ppm以下的水分。(通式(1)中N为氮原子。R1为任选具有环、杂原子或卤素原子的碳数1~10的烃基。R2和R3各自独立地为氢原子,或者为任选具有环、杂原子或卤素原子的碳数1~10的烃基。其中,烃基的碳数为3以上的情况下,任选形成支链结构或者环状结构。烃基的杂原子为氮原子、氧原子、硫原子或磷原子。进而,R1与R2均为碳数1以上的烃基的情况下,R1与R2任选直接键合而形成环状结构。进而,R1或R2由双键直接键合而形成环状结构的情况下,任选形成芳香环而R3不存在。另外,R1、R2和R3任选为相同的烃基或不同的烃基。另外,R1在与氮原子键合的α位的碳上具有一个以上的氢原子。)。

    干蚀刻方法、半导体器件的制造方法及干蚀刻气体组合物

    公开(公告)号:CN115315786A

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202180020720.2

    申请日:2021-03-04

    Abstract: 一种硅氧化物的干蚀刻方法,其特征在于,其是使气体的氟化氢及气体的有机胺化合物、气体的有机胺化合物的氟化氢盐、或气体的氟化氢、气体的有机胺化合物及气体的有机胺化合物的氟化氢盐与硅氧化物反应的干蚀刻方法,上述有机胺化合物为包含下述通式(1)所示的化合物中的至少2种的有机胺混合物。R1‑N=R2R3···(1)(通式(1)中,N为氮原子。R1为碳数1~10的、任选具有环、杂原子、卤素原子的烃基。R2、R3为氢原子或碳数1~10的、任选具有环、杂原子、卤素原子的烃基。其中,烃基在碳数为3以上时,任选形成支链结构或环状结构。烃基的杂原子为氮原子、氧原子、硫原子或磷原子。进而,R1和R2均为碳数1以上的烃基时,R1与R2任选直接键合而形成环状结构。进而,R1或R2以双键直接键合而形成环状结构时,任选形成芳香环而不存在R3。另外,R1、R2及R3任选为相同的烃基或不同的烃基。)。

    用于渗透探伤试验方法的渗透液、清洗剂及显影剂

    公开(公告)号:CN115135995A

    公开(公告)日:2022-09-30

    申请号:CN202180015556.6

    申请日:2021-02-19

    Abstract: 一个实施方案的渗透液,其以染料、挥发性有机溶剂为必要成分,并含有作为挥发性有机溶剂的选自由氢氟烯烃、氢氟酮及全氟酮组成的组中的至少一种。一个实施方案的渗透液,其以挥发性有机溶剂为必要成分,并含有作为挥发性有机溶剂的选自由氢氟烯烃、氢氟酮及全氟酮组成的组中的至少一种。一个实施方案的显影剂,其以粉末及挥发性有机溶剂为必要成分,并含有作为挥发性有机溶剂的选自由氢氟烯烃、氢氟酮及全氟酮组成的组中的至少一种。

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