光敏性平版印刷版的显影液及处理方法

    公开(公告)号:CN101248393A

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200680031194.5

    申请日:2006-08-11

    Inventor: 铃木利继

    CPC classification number: G03F7/322

    Abstract: 提供兼具印刷时的污染、网点或细线再现性的光敏性平版印刷版(也简称为平版印刷版材料)的显影液以及处理方法。所述显影液的特征在于,对在铝支撑体上形成了含有光敏性树脂组合物的光敏层的光敏性平版印刷版进行曝光后,进行显影处理时所使用的光敏性平版印刷版的显影液中,含有上述通式(1)所示的化合物。

    异常阴影候补的显示方法以及医用图像处理系统

    公开(公告)号:CN101179994A

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200680017478.9

    申请日:2006-05-09

    Abstract: 一种异常阴影候补的显示方法以及医用图像处理系统,医用图像处理系统(100)中,一旦医用图像被生成,则在图像处理装置(2)中对该医用图像进行异常阴影候补的检出处理。接下去,根据被检出的异常阴影候补的图像特征量,通过多变量解析,判定明显是真阳性或假阳性的异常阴影候补、真假阳性之判断困难的候补、存在于不易检出之位置的候补等等,从被检出的异常阴影候补进行删除。然后,在观察器(5)只显示删除后剩下的异常阴影候补的检出信息。

    微综合分析系统、检查用芯片及检查方法

    公开(公告)号:CN101151535A

    公开(公告)日:2008-03-26

    申请号:CN200680010743.0

    申请日:2006-03-28

    Abstract: 本发明提供一种微综合分析系统,其特征在于,具有检查用芯片和系统本体,所述检查用芯片具有:具有用于与微型泵连通的流路开口的泵连接部、通过使由微型泵注入的试样以及试剂混合并加热而进行反应处理的混合流路、对于在混合流路混合并反应处理的混合溶液进行规定检查的检查流路,所述系统本体具有:收容所述检查用芯片的收容部、注入试样以及试剂的微型泵、加热收容的检查用芯片的混合流路的加热部、在检查用芯片的检查流路进行混合溶液检查的检测部,所述检查用芯片和所述系统本体之中的至少一个具有隔热部,所述隔热部将与所述混合流路被加热的被加热流路的入口端和出口端的两端部连接的流路与来自加热部的热量隔离,从而防止温度上升。

    放射线图像摄影系统以及放射线图像摄影方法

    公开(公告)号:CN101147682A

    公开(公告)日:2008-03-26

    申请号:CN200710152862.6

    申请日:2007-09-18

    Abstract: 提供一种放射线图像摄影系统以及放射线图像摄影方法,其中,不管被摄物体厚度方向上的诊断对象位置如何,能够通过简单处理,得到高精细的放射线摄影图像。放射线图像系统(1)中设有:摄影装置(2),其备有X线管(4)以及图像检出器(5a),输出放射线摄影图像;存储部(3d),其存储规定的图像复原参数;图像处理装置(3),其备有图像处理部(3e),采用从存储部(3d)读出的图像复原参数,对从摄影装置(2)输出的放射线摄影图像进行劣化复原处理;使用将被摄物体固定在规定位置的固定部件(7),当以X线管(4)与由固定部件(7)固定的被摄物体的规定位置之间的距离为R1m,被摄物体(H)的规定位置和图像检出器(5a)之间的距离为R2m,X线管(4)的焦点直径为Dμm时,使满足式(1)之关系。其中,A为0.05以上的定数。

    平版印刷版材料用铝支撑体的制造方法、平版印刷版材料用铝支撑体及平版印刷版材料

    公开(公告)号:CN101111393A

    公开(公告)日:2008-01-23

    申请号:CN200580047574.3

    申请日:2005-12-16

    Inventor: 高木宏司

    CPC classification number: B41N3/03 B41N1/083 G03F7/09 Y10T428/24355

    Abstract: 本发明提供耐印性、橡皮布污染防止性、放置后污染防止性优异的平版印刷版材料;赋予该平版印刷版材料的平版印刷版材料用铝支撑体以及平版印刷版材料用铝支撑体的制造方法,其特征在于,对于铝支撑体,依次实施在以盐酸为主体的电解液中以电流密度35A/dm2~150A/dm2、通电量600A×sec/dm2~1500A×sec/dm2进行交流电解的交流电解粗糙表面化处理;使铝板的溶解量为3~5g/m2的蚀刻处理;在以盐酸为主体的电解液中以电流密度15~30A/dm2、通电量100~400A×sec/dm2进行交流电解的交流电解粗糙表面化处理;在以磷酸为主体的酸性溶液中对污物进行的未溶解污物量残留0.05~0.3g/m2的处理;阳极氧化处理,形成粗糙表面化表面。

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