Abstract:
The present invention relates a method for controlling a loss of reliability of a non-volatile memory (NVM) included in an Integrated Circuit Card (ICC). The method comprises the steps of -determining whether the NVM is reliable or not at the Operative System (OS) side of said ICC, and -generating an event associated with the reliability of the NVM at the OS side for an application of said ICC, if the NVM is determined to be unreliable.
Abstract:
The present invention relates to a method and system for controlling a number of writing cycles supported by a cell or portion (11) of a non volatile memory (4) of an IC Card (10), including the steps of -counting write accesses to the memory portion (11) and storing a first counter (21) of the write accesses in another portion (21) of said non volatile memory (4). The method comprises coupling the first counter (21) to a second counter or value (31) associated to a RAM (4) (Random Access Memory) of the IC Card (10), wherein the second counter or value (31) is updated each time the write accesses occur on said cell or portion (11) to be controlled and the first counter (21) is written in the another portion of non volatile memory only when the second counter or value (21) corresponds to a predetermined value.
Abstract:
The present invention relates to a method for calculating a clock frequency (f c1k ) of a clock signal received by an IC Card from a terminal (100) or an internal clock frequency (f c1k ) of a clock signal of the IC Card (140). The method comprises the step of: -receiving a first time-stamp (t s1 ) from the terminal (100); setting a first value (V 1 ) of the timer (220), and starting a timer (220) of the IC Card, when the first time-stamp (t s1 ) is received; receiving a second time-stamp (t S2 ); reading a second value (V 2 ) of the timer (220), when the second time-stamp (t S2 ) is received; and calculating the frequency (f c1k ) comparing a difference between the second (V 2 ) and the first (V 1 ) timer values and a difference between the second (t S2 ) and the first (t s1 ) time stamps.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowohl zur Herstellung von MOS-Transistoren mit extrem geringen Leckströmen an den pn-Übergängen als auch von Logik/ Schalttransistoren (2) deren Gates (3) seitlich mit Spacern (8) begrenzt sind in einem p- Substrat oder einer p-Wanne in n-Substrat (5). Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von MOS-Transistoren mit extrem geringen Leckströmen zu schaffen und das parallel Logik/ Schalttransistoren zulässt. Erreicht wird das dadurch, dass zunächst eine LDD-Ionenimplantation über die Gatekanten durchgeführt wird, um ein LDD-Gebiet (6) zu bilden und anschliessend die Spacer (8) durch einen anisotropen Ätzschritt, der eine hohe Selektivität gegenüber den Gate- und Substratmaterialien einschliesslich ihrer Abdeckschichten aufweist, entfernt werden bzw. die MOS-Transistoren mit extrem geringen Leckströmen vor der isotropen Spacerherstellung abgedeckt werden, so dass die Spacer (8) nur an den Gatekanten der Logik/ Schalttransistoren (2) entstehen aber immer die MOS-Transistoren mit extrem geringen Leckströmen aussschliesslich über das LDDGebiet (6) angeschlossen sind und keine (As-) Hochdosisimplantation in die S/D- Gebiete dieser MOS-Transistoren mit extrem geringen Leckströmen erfolgt.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Photodiodenkontaktierung für einen TFA-Bildsensor mit einer Photodiode durch Abscheiden einer Mehrschichtanordnung und einer transparenten leitfähigen Kontaktschicht (13) auf einem ASIC-Schaltkreis, der mit einem Zwischenmetall-Dielektrikum beschichtet worden ist und der in einem photoaktiven Bereich (2) Vias (7) im Pixelraster aufweist, die sich durch das Zwischenmetall-Dielektrikum (5) erstrecken und jeweils mit einer Leiterbahn (8) des CMOS-ASIC-Schaltkreises verbunden sind, wobei auf dem Zwischenmetall-Dielektrikum (5) eine im Pixelraster strukturierte Barriereschicht (6) und auf dieser eine CMOS-Metallisierung (3) angeordnet ist. Durch die Erfindung soll mit einfachen technologischen Mitteln eine Verbesserung der Kenngrössen der Photodiode erreicht werden. Erreicht wird dies dadurch, dass mindestens die auf dem CMOS-ASIC-Schaltkreis (1) befindliche CMOS-Metallisierung (3) im Bereich des photoaktiven Bereiches bis auf die strukturierte Barriereschicht (6) entfernt und dass anschliessend die Mehrschichtanordnung der Photodiode (12) sowie die leitfähige transparente Kontaktschicht (13) auf dem CMOS-ASIC-Schaltkreis (1) aufgebracht wird.
Abstract:
A receiver and a method for receiving a signal comprising a carrier modulated with a known training sequence is described in which an estimate a carrier frequency offset is obtained from an autocorrelation signal by autocorrelation of the part of the received signal containing a known training sequence. The received signal is compensated with the frequency offset obtained to form a compensated received signal, and a timing reference for the received signal is obtained by cross-correlation of the compensated received signal with a known training sequence.