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    鹼產生劑、含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物及鹼產生方法
    21.
    发明专利
    鹼產生劑、含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物及鹼產生方法 审中-公开
    碱产生剂、含有该碱产生剂的碱反应性组成物及碱产生方法

    公开(公告)号：TW201512159A

    公开(公告)日：2015-04-01

    申请号：TW103122232

    申请日：2014-06-27

    Applicant: 和光純藥工業股份有限公司 ,  WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. ,  學校法人東京理科大學 ,  TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION

    Inventor： 酒井信彥 ,  SAKAI, NOBUHIKO ,  簗場康佑 ,  YANABA, KOSUKE ,  有光晃二 ,  ARIMITSU, KOJI

    IPC: C07C279/26 ,  C08F2/46 ,  C08K5/31 ,  C08J3/28 ,  G03F7/031 ,  H01L21/027

    CPC classification number: C07C279/26 ,  B01J19/123 ,  B01J19/127 ,  B01J19/128 ,  C07C59/84 ,  C07C65/28 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/24 ,  C07D209/48 ,  C07D311/86 ,  G03F7/0045

    Abstract: 本發明之課題係提供：一種產生強鹼之鹼產生劑，該鹼產生劑係對於被廣泛使用的有機溶劑之溶解性高，能夠使其直接溶解在環氧系化合物等的鹼反應性化合物中，而且具備高耐熱性及低親核性之兩者的性能；含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物之鹼反應性組成物；以及鹼產生方法。 本發明係有關於一種以通式(A)表示之化合物、含有該化合物而成之鹼產生劑、鹼反應性組成物及鹼產生方法等，其中該鹼反應性組成物之特徵在於：含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物， (式中，R1至R5係各自獨立地表示氫原子、烷基、亦可具 有取代基之芳基或亦可具有取代基之芳烷基，R6係表示氫原子、亦可具有取代基之烷基、烯基、炔基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，R7係表示氫原子、亦可具有胺基之烷基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，Z-係表示源自特定構造的羧酸之陰離子)。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题系提供：一种产生强碱之碱产生剂，该碱产生剂系对于被广泛使用的有机溶剂之溶解性高，能够使其直接溶解在环氧系化合物等的碱反应性化合物中，而且具备高耐热性及低亲核性之两者的性能；含有该碱产生剂及碱反应性化合物之碱反应性组成物；以及碱产生方法。 本发明系有关于一种以通式(A)表示之化合物、含有该化合物而成之碱产生剂、碱反应性组成物及碱产生方法等，其中该碱反应性组成物之特征在于：含有该碱产生剂及碱反应性化合物， (式中，R1至R5系各自独立地表示氢原子、烷基、亦可具 有取代基之芳基或亦可具有取代基之芳烷基，R6系表示氢原子、亦可具有取代基之烷基、烯基、炔基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，R7系表示氢原子、亦可具有胺基之烷基、亦可具有取代基之芳基或是亦可具有取代基之芳烷基，Z-系表示源自特定构造的羧酸之阴离子)。

    陰離子硬化性化合物用硬化劑、硬化性組成物、硬化物及新穎咪唑系化合物及其用途
    22.
    发明专利
    陰離子硬化性化合物用硬化劑、硬化性組成物、硬化物及新穎咪唑系化合物及其用途 审中-公开
    阴离子硬化性化合物用硬化剂、硬化性组成物、硬化物及新颖咪唑系化合物及其用途

    公开(公告)号：TW201400463A

    公开(公告)日：2014-01-01

    申请号：TW102116795

    申请日：2013-05-10

    Applicant: 日本合成化學工業股份有限公司 ,  THE NIPPON SYNTHETIC CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. ,  學校法人東京理科大學 ,  TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION

    Inventor： 工藤健二 ,  KUDO, KENJI ,  有光晃二 ,  ARIMITSU, KOJI

    IPC: C07D233/60 ,  C08G59/40

    CPC classification number: C07D231/12 ,  C08G59/5073 ,  C08L63/00 ,  Y02P20/55

    Abstract: 本發明係關於一種陰離子硬化性化合物用硬化劑，其係由咪唑系化合物所構成，且該咪唑系化合物之咪唑骨架編號1的位置受於50℃以上之溫度條件下可脫離之保護基A所保護；並係關於一種含有該硬化劑與陰離子硬化性化合物之硬化性組成物，及一種使該組成物硬化而形成之硬化物；再者，係關於該新穎咪唑系化合物及其用途。本發明提供一種新穎咪唑系硬化劑，該硬化劑作為一液型硬化劑使用時，亦具有優異之保存穩定性及良好硬化性，而且使用簡便。作為該咪唑系化合物，可舉例如以下之通式(1)所示之咪唑系化合物。 A係於50℃以上之溫度條件下可脫離之保護基。R1~R3係各自獨立而為氫原子、碳數1~15之烷基、或苯基。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种阴离子硬化性化合物用硬化剂，其系由咪唑系化合物所构成，且该咪唑系化合物之咪唑骨架编号1的位置受于50℃以上之温度条件下可脱离之保护基A所保护；并系关于一种含有该硬化剂与阴离子硬化性化合物之硬化性组成物，及一种使该组成物硬化而形成之硬化物；再者，系关于该新颖咪唑系化合物及其用途。本发明提供一种新颖咪唑系硬化剂，该硬化剂作为一液型硬化剂使用时，亦具有优异之保存稳定性及良好硬化性，而且使用简便。作为该咪唑系化合物，可举例如以下之通式(1)所示之咪唑系化合物。 A系于50℃以上之温度条件下可脱离之保护基。R1~R3系各自独立而为氢原子、碳数1~15之烷基、或苯基。

    硫雜蒽（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎｅ）系化合物、鹼增殖劑及含有該鹼增殖劑之鹼反應性樹脂組成物
    24.
    发明专利
    硫雜蒽（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎｅ）系化合物、鹼增殖劑及含有該鹼增殖劑之鹼反應性樹脂組成物 审中-公开
    硫杂蒽（ｔｈｉｏｘａｎｔｈｅｎｅ）系化合物、碱增殖剂及含有该碱增殖剂之碱反应性树脂组成物

    公开(公告)号：TW201446750A

    公开(公告)日：2014-12-16

    申请号：TW103116850

    申请日：2014-05-13

    Applicant: 和光純藥工業股份有限公司 ,  WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. ,  學校法人東京理科大學 ,  TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION

    Inventor： 酒井信彦 ,  SAKAI, NOBUHIKO ,  有光晃二 ,  ARIMITSU, KOJI

    IPC: C07D335/16 ,  G03F7/004

    CPC classification number: C07D335/12 ,  G03F7/0382

    Abstract: 本發明之課題係提供一種可使用於環氧系化合物等之交聯反應中，可藉鹼之存在下產生新的鹼，且對有機溶劑之溶解性高，進而由於耐熱性比以往之鹼增殖劑高，故含於鹼反應性化合物時，能有效地進行鹼增殖反應之鹼增殖劑及含有該鹼增殖劑之鹼反應性樹脂組成物。本發明之鹼增殖劑之感度高，可藉由鹼之作用分解而連鎖地產生鹼，且，由於具有雜環(heterocyclic ring)故藉由改變雜原子之氧化數而可隨意地控制鹼增殖反應速度，成為可連鎖地產生鹼之鹼增殖劑。此外，與對有機溶劑之溶解性良好、且與鹼反應性化合物之相溶性高，進而耐熱性比以往之鹼增殖劑高，故本發明之鹼增殖劑共存於與鹼反應之環氧系化合物等之鹼反應性化合物時，因增殖產生之鹼可使鹼反應性化合物效率良好地硬化。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题系提供一种可使用于环氧系化合物等之交联反应中，可藉碱之存在下产生新的碱，且对有机溶剂之溶解性高，进而由于耐热性比以往之碱增殖剂高，故含于碱反应性化合物时，能有效地进行碱增殖反应之碱增殖剂及含有该碱增殖剂之碱反应性树脂组成物。本发明之碱增殖剂之感度高，可借由碱之作用分解而连锁地产生碱，且，由于具有杂环(heterocyclic ring)故借由改变杂原子之氧化数而可随意地控制碱增殖反应速度，成为可连锁地产生碱之碱增殖剂。此外，与对有机溶剂之溶解性良好、且与碱反应性化合物之相溶性高，进而耐热性比以往之碱增殖剂高，故本发明之碱增殖剂共存于与碱反应之环氧系化合物等之碱反应性化合物时，因增殖产生之碱可使碱反应性化合物效率良好地硬化。

    加密裝置、解密裝置、加密方法、解密方法、以及程式
    26.
    发明专利
    加密裝置、解密裝置、加密方法、解密方法、以及程式 审中-公开
    加密设备、解密设备、加密方法、解密方法、以及进程

    公开(公告)号：TW201404107A

    公开(公告)日：2014-01-16

    申请号：TW102109287

    申请日：2013-03-15

    Applicant: 學校法人東京理科大學 ,  TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION

    Inventor： 大矢雅則 ,  OYA, MASANORI ,  入山聖史 ,  IRIYAMA, SATOSHI ,  阿卡迪 路易傑 ,  ACCARDI, LUIGE ,  雷構理 馬系摩 ,  REGOLI, MASSIMO

    IPC: H04L9/18 ,  H04L12/22

    CPC classification number: H04L9/0869 ,  H04L9/0668

    Abstract: 本發明提供一種加密裝置、解密裝置、加密方法、解密方法、以及程式，加密裝置，依據私密資料A及質數p1、p2，產生非可交換矩陣A1、A2(100)，使非可交換矩陣A1、A2作用於向量vi1、vi-12；(104)。加密裝置，對向量vi1、向量vi2進行非線性轉換而轉換為位元串，與位元串W1、W2結合(106、108)。加密裝置，在位元串W1及位元串W2之各自的位元數，成為表示加密對象資料之位元串的位元數之前，重複非可交換矩陣的作用及非線性轉換(110)。加密裝置，計算位元串W1及位元串W2之Exclusive OR，求出偽隨機數位元串(112)，使用偽隨機數位元串進行加密。藉此，加密裝置，在加密對象資料的位元數為可變之情況中，可使加密處理高速化，並增強密碼分析強度。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种加密设备、解密设备、加密方法、解密方法、以及进程，加密设备，依据私密数据A及质数p1、p2，产生非可交换矩阵A1、A2(100)，使非可交换矩阵A1、A2作用于矢量vi1、vi-12；(104)。加密设备，对矢量vi1、矢量vi2进行非线性转换而转换为比特串，与比特串W1、W2结合(106、108)。加密设备，在比特串W1及比特串W2之各自的比特数，成为表示加密对象数据之比特串的比特数之前，重复非可交换矩阵的作用及非线性转换(110)。加密设备，计算比特串W1及比特串W2之Exclusive OR，求出伪随机数码元串(112)，使用伪随机数码元串进行加密。借此，加密设备，在加密对象数据的比特数为可变之情况中，可使加密处理高速化，并增强密码分析强度。

    感能量性組成物、硬化物，及圖型形成方法
    29.
    发明专利
    感能量性組成物、硬化物，及圖型形成方法 审中-公开
    感能量性组成物、硬化物，及图型形成方法

    公开(公告)号：TW201947324A

    公开(公告)日：2019-12-16

    申请号：TW108114281

    申请日：2019-04-24

    Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  學校法人東京理科大學 ,  TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION

    Inventor： 野田国宏 ,  NODA, KUNIHIRO ,  塩田大 ,  SHIOTA, DAI ,  有光晃二 ,  ARIMITSU, KOJI

    IPC: G03F7/075 ,  H01L21/027

    Abstract: 本發明之課題在於提供一種硬化性優異之感能量性組成物、該組成物之硬化物，及圖型形成方法。 其解決手段為一種感能量性組成物，其係包含選自由能形成聚矽烷化合物之矽烷化合物單體、矽烷化合物寡聚物及聚矽烷化合物所成群之至少1種之矽烷化合物(A)，以及下述式(1)所示之鹼產生劑(B)。 (上述式中，R1~R11係各自獨立表示氫原子、鹵素原子、硝基、烷基、芳基、芳基烷基或烷氧基，又，R5及R6係可隔著單鍵或2價連結基而互相連結，Zq+表示由pKa 24以上之鹼所構成之q價之相對陽離子，q表示1以上之整數。)

    Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题在于提供一种硬化性优异之感能量性组成物、该组成物之硬化物，及图型形成方法。 其解决手段为一种感能量性组成物，其系包含选自由能形成聚硅烷化合物之硅烷化合物单体、硅烷化合物寡聚物及聚硅烷化合物所成群之至少1种之硅烷化合物(A)，以及下述式(1)所示之碱产生剂(B)。 (上述式中，R1~R11系各自独立表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、芳基烷基或烷氧基，又，R5及R6系可隔着单键或2价链接基而互相链接，Zq+表示由pKa 24以上之碱所构成之q价之相对阳离子，q表示1以上之整数。)

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