公开(公告)号：CN1800443A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200510117051.3

申请日：2005-10-31

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩尚辰 ,  宋官燮 ,  康熙哲 ,  郑锡宪

IPC: C23C14/54 ,  C23C14/50 ,  C23C14/24

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68778 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/141 ,  Y10T29/53265

Abstract: 本发明提供一种基片固定盘，为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片，包含至少一部分以上基片固定单元，并且，通过固定和支持垂直布置的基片，可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法，包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。

公开(公告)号：CN1800431A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200510092340.2

申请日：2005-08-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金振圭 ,  韩尚辰 ,  康熙哲 ,  姜有珍

IPC: C23C14/04

Abstract: 一种遮蔽掩模的附着方法，在使遮蔽掩模与垂直配置的掩模框邻接，并施加拉力的状态下，通过在掩模框上焊接而进行附着，预先反映向垂直方向的垂下，防止掩模附着后的图案的变形，可预先确认可否校正定位。该遮蔽掩模的附着方法包括：垂直配置掩模框的步骤；将遮蔽掩模附着于上述掩模框上的步骤。另外，将上述遮蔽掩模附着于上述掩模框上的步骤包括：使上述遮蔽掩模邻接上述掩模框上的步骤；在上述遮蔽掩模上施加外力的步骤；在上述掩模框上结合施加了外力的上述遮蔽掩模的步骤。