公开(公告)号：JP5818013B2

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：JP2012081664

申请日：2012-03-30

Applicant: 三菱マテリアル株式会社

Inventor： 植田 稔晃 ,  小泉 博道

IPC: B01F3/12 ,  B01F7/26 ,  C01B33/141

公开(公告)号：JP2015117149A

公开(公告)日：2015-06-25

申请号：JP2013260847

申请日：2013-12-18

Applicant: 三菱マテリアル株式会社

Inventor： 植田 稔晃

IPC: C01B33/18

Abstract: 【課題】高温及び減圧環境下で使用される合成シリカガラス製品の原料に適した合成非晶質シリカ粉末であって、高温及び減圧の環境下での使用において安定的に気泡の発生又は膨張を抑制し、しかも比較的低コストで得られる合成非晶質シリカ粉末を提供する。 【解決手段】シリカを原料として、造粒、焼成により得られた合成非晶質シリカ粉末であって、体積基準の粒度分布の累積頻度50%の粒径D V50 が72μm以上485μm以下であり、体積基準の粒径45μm以下の粒子の累積頻度が1.8%以下であり、体積基準の粒度分布の累積頻度90%の粒径D V90 と体積基準の粒度分布の累積頻度10%の粒径D V10 との差を、体積基準の粒度分布の累積頻度50%の粒径D V50 で除した値が0.79以上で1.40以下であり、かさ密度が0.75g/cm 3 以上1.5g/cm 3 以下であることを特徴とする。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供适合于在高温低压下使用的合成二氧化硅玻璃制品的原料的合成无定形二氧化硅粉末，其在高温下使用时可稳定抑制气泡的产生或膨胀， 减压，并以相对较低的成本获得。解决方案：合成的无定形二氧化硅粉末通过使用二氧化硅作为其原料获得，将二氧化硅造粒并焙烧造粒二氧化硅。 当其基于体积的粒度分布的累积频率为50％时，粒径Dthhereof为72-485μm。 每个具有45μm或更小体积基粒径的颗粒的累积频率为1.8％以下。 其值为0.79-1.40，其通过将粒径D，当体积基础粒径分布为90％时的粒径D与粒径D的差异除以粒径D得到，当其为10％时， 当时是50％。 其体积密度为0.75-1.5g / cm 3。