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公开(公告)号:CN101340058A
公开(公告)日:2009-01-07
申请号:CN200810144617.5
申请日:2008-07-02
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01S5/30 , H01S5/00 , H01L21/205 , C30B29/40 , H01L33/00
CPC classification number: H01S5/22 , B82Y20/00 , H01L21/0254 , H01L21/02576 , H01L21/02579 , H01L21/0262 , H01L33/325 , H01S5/0202 , H01S5/2009 , H01S5/2201 , H01S5/3054 , H01S5/34333 , H01S2304/04
Abstract: 本发明涉及氮化物类半导体叠层结构、半导体光元件以及其制造方法。本发明提供氮化物类半导体叠层结构,其包含采用了有机金属化合物的III族原料和包含肼衍生物的V族原料的低电阻的p型氮化物类半导体层。可以构成电阻值低的p型氮化物类半导体层的工作效率良好的氮化物类半导体叠层结构。其具备基板和在该基板上配设的、采用有机金属化合物的III族原料、包含氨和肼衍生物的V族原料及p型杂质原料而形成的、所含碳浓度为1×1018cm-3以下的p型氮化物类半导体层。