公开(公告)号：CN107706131A

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201710670286.8

申请日：2017-08-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中森光则 ,  川渕洋介 ,  增住拓朗 ,  山下浩司 ,  前田昭三

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: B29C64/393 ,  B08B3/10 ,  B29C64/106 ,  B29C64/236 ,  B29K2995/0021 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/02 ,  B41J2/01 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67017

Abstract: 提供一种能够去除存在于基板的图案内的纯水来快速置换为溶剂的液处理方法、基板处理装置以及存储介质等。该液处理方法在对被水平保持并在表面形成有图案的基板供给纯水之后，对基板进行干燥，该液处理方法包括：纯水供给工序，向基板的表面供给纯水；加热溶剂供给工序，在所述纯水供给工序之后，以液体的状态向存在纯水的基板的表面供给被加热到水的沸点以上的温度的溶剂；以及去除工序，去除所述基板表面的溶剂来使所述基板干燥。

公开(公告)号：CN107086172A

公开(公告)日：2017-08-22

申请号：CN201710086419.7

申请日：2017-02-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川渕洋介 ,  立花康三 ,  中森光则 ,  大石幸太郎 ,  江头佳祐 ,  田中幸二 ,  稻富弘朗 ,  山下刚秀 ,  福田喜辉 ,  山下浩司 ,  钓船祐 ,  增住拓朗

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/02041 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种液处理方法和基板处理装置。其中，能够迅速地获得进行基板的表面的憎水化处理、且将存在于基板的图案内的纯水、憎水剂去除而干燥的基板。在向水平地保持的基板(W)供给了纯水之后、进行基板(W)的干燥时，在第1溶剂供给工序中，向供给纯水后的基板(W)的表面供给第1溶剂，在之后的憎水剂供给工序中，向基板(W)的表面供给憎水剂。在第2溶剂供给工序中，向憎水化之后的基板(W)的表面供给第2溶剂，在之后的干燥工序中将基板(W)的表面的第2溶剂去除。并且，第1溶剂的比重比所述憎水剂的比重小，所述第2溶剂的比重比该憎水剂的比重大。